用于從傳感器機身的端板清潔沉積物和增積物的設備和方法技術

本發明專利技術涉及一種用于從傳感器機身的端板清潔沉積物和增積物的設備和方法，其中傳感器機身（1）被實施為用于容納測量設備，該測量設備用于確定一個或更多個物理和/或化學過程變量，其中傳感器機身（1）被密封以防止液體的滲透。并且所述設備中設置擦拭器（3），該擦拭器具有擦拭刮片（4），用于清潔端板（2），其特征在于：擦拭器（3）被布置作為外圍附加模塊上的子組件，其中擦拭器（3）和外圍附加模塊的幾何形狀被實施為使得擦拭器（3）在回轉過程中的旋轉運動的情形下從休止位置移動到清潔位置，其中，在清潔位置中，擦拭刮片（4）的下邊緣與端板（2）的上邊緣齊平，從而擦拭器（3）通過擦拭刮片（4）和端板（2）的接觸而清潔端板（2），并且然后擦拭器（2）返回至休止位置。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種用于從傳感器機身的端板清潔沉積物(deposit)和增積物(accretion)的設備和方法，其中將傳感器機身實施為用于容納測量設備，該測量設備用于確定一個或更多個物理和/或化學過程變量，其中傳感器機身被密封以防止液體的滲透，并且其中設置有擦拭器，該擦拭器具有擦拭刮片，用于清潔端板。
技術介紹
在本專利技術的意義下的傳感器用于確認在特別是淡水和工業用水的液體中以及在氣體中的過程變量。典型的過程變量的示例有濁度、固體含量以及淤泥水平。然而，實施例的形式可以與其他化學和物理過程變量有關。將在本文中提及的是確定硝酸鹽含量、UV吸 收、壓力測量或特別是使用超聲波的無接觸填充水平測量。大量不同種類的適于確定相應過程變量的測量裝置從恩德萊斯和豪瑟爾(Endress+Hauser)集團可獲得。通常，傳感器布置在傳感器機身中。許多提及的過程變量是光學地確定的。在這種情形下，具有一定波長的電磁波穿過在傳感器機身中的光學窗口被接收。從DE4233218C2中已知一種用于濁度測量的設備，其中，補充設置有光源，該光源經由另一光學窗口與傳感器機身相連接。從EP1816462B1中已知一種布置，在該布置的情形下為光源和接收器僅提供一個窗P。如果過程變量是非光學地確定的，則傳感器經由膜或相應的適配層(adaptinglayer)接觸介質。由于在水介質或氣體介質中的操作，特別是還在廢水中的操作，在光學窗口或膜上出現結垢、污垢、沉積物和增積物，由此使測量結果不可靠或使測量不可能。從恩德萊斯和豪瑟爾集團的手冊“Technical information TurbiMax W CUS41/CUS41-W”(“技術信息TurbiMax WCUS41/CUS41-W”)中已知的是可以由安裝在傳感器機身的端板上的擦拭器清潔窗P。這種擦拭器由在傳感器機身中的馬達驅動，其中借助傳動軸傳遞運動。必須注意的是，長時間穩定地密封該傳動軸穿過傳感器機身的位置，從而沒有介質能夠滲透到傳感器機身中。擦拭器的運動由控制單元控制且交替以順時針和逆時針方向發生。為防止有缺陷的測量，在清潔結束后，必須使擦拭器返回到限定的休止位置，將該休止位置定位在離窗口足夠遠的位置。如果擦拭器太過接近測量設備，則測量會被擦拭器干擾和劣化。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種確?？煽壳鍧崅鞲衅鳈C身的端板的設備和方法。該目的相對于本專利技術的設備通過以下特征而實現，包括將擦拭器布置為在傳感器機身的外圍附加模塊上的子組件。擦拭器和外圍附加模塊的幾何形狀被實施為使得擦拭器在回轉過程中的旋轉運動的情形下從休止位置移動到清潔位置。在清潔位置中，擦拭刮片的下邊緣與端板的上邊緣齊平。以該方式，擦拭器通過擦拭刮片和端板的接觸而清潔端板，且然后擦拭器返回至休止位置。本專利技術的在外圍附加模塊上的擦拭器的布置具有如下優勢-傳動軸不需要穿過端板。因此，將非密封位置的危險最小化。-在擦拭器的休止位置，擦拭器距端板的表面足夠遠，且由此遠離測量設備。這意味著擦拭器不降低測量的質量。 -外圍附加模塊也可隨后安裝在任何傳感器機身上。這意味著擦拭器是選擇可改型的?？梢愿鶕蛻粜枨蠖O置外圍附加模塊。不管是否應用擦拭器，傳感器機身是一樣的,從而能夠保持小的生產成本。在優選實施例中，擦拭器從擦拭器的休止位置與端板的表面正交地移動到清潔位置，并且擦拭器從清潔位置與端板的表面正交地返回至休止位置。在有利的實施例中，光學測量設備設置在傳感器機身中并且至少一個光學窗口位于端板中。確切地在光學測量裝置的情形下，需要規律地清潔用來針對介質保護測量設備的光學窗口，從而使得能夠正確測量。光學測量設備定位在光學窗口下方，該光學測量設備能夠具有一個或更多個光學組件，例如光學傳感器。在實施例的優選形式中，每一個光學組件具有其自己的光學窗口。然而，利用用于所有光學組件的一個共有的光學窗口也是一種選擇。在本專利技術的意義下的光學傳感器是用于確定濁度、淤泥水平或固體含量的傳感器。然而，除了這些，其他光學傳感器、諸如例如用于確定硝酸鹽含量、UV吸收的傳感器、特定的壓力傳感器或根據超聲波原理工作的填充水平傳感器也可以利用本專利技術的設備清潔。光學組件的電磁波的波長通常在近紅外的范圍，例如在880nm。存在如下形式的實施例，在該實施例的情形下非光學地確定過程變量，例如壓力傳感器。在該情形下，傳感器經由膜或相應適配層接觸介質?？梢允謩拥禺a生擦拭器的旋轉運動；然而，優選地，應用馬達作為驅動裝置。以該方法，確保了在時間上的開始和停止點、速度、回轉的數目以及運動方向能夠被確切地設定和控制。馬達的驅動力經由傳動軸傳遞至擦拭器。此外，通過非剛性連接或以無軸方式——例如通過應用磁驅動一而發生力傳輸也是一種選擇。馬達例如單向地、因此沿順時針方向或沿逆時針方向移動擦拭器。通過擦拭器和外圍附加模塊的幾何形狀，在擦拭器僅沿一個方向旋轉時也確切地清潔端板是一種選擇。當然，馬達可以在兩個方向上轉動并且也能夠執行前后運動。在有利的實施例中，第一檢測元件位于擦拭器的底部的區域并且相應的第二檢測元件位于外圍附加模塊的頂部的區域。這些檢測元件使得能夠確定擦拭器的位置和運動、特別是擦拭器的回轉的數目。有利地，設置了控制單元，利用該控制單元，可以確定和控制擦拭器的回轉的數目、持續時間、運動方向和速度。因此，使用者能夠確定應該多久、多快和或多久一次清潔端板。在優選實施例中，擦拭器和外圍附加模塊的幾何形狀被實施為使得擦拭器在結束清潔后，自動或被強制返回至休止位置。如果擦拭器以該方式移動回到其休止位置，則一直確保擦拭器在測量期間位于足夠遠地遠離測量設備的位置并且不干擾測量。優選地，彈簧元件布置在外圍附加模塊的內部。該彈簧元件將擦拭器拉回至休止位置，或將擦拭器保持在休止位置。彈簧元件的存在有利地影響了測量的質量，因為由此擦拭器在測量階段位于離開檢測設備的遙遠位置、被保持在該位置且不干擾測量。端板關于傳感器機身的縱向軸線正交地布置或以關于傳感器機身的縱向軸線呈不等于90°的角度來布置。最后提及的實施例的形式是有利的，因為測量設備能夠防震地并且較小污染敏感地安設在通常的管道中或其他位置處。外圍附加模塊的幾何形狀以及其在傳感器機身上的布置，特別是在外圍附加模塊的上邊緣和端板的上邊緣之間的高度差，即擦拭器的高度，優選地被實施為使得出現在擦拭器上的沉積物和增積物在清潔的情形下隨著擦拭刮片在返回休止位置時移過該高度差而被刮除。在該情形下，端板的邊緣實施為“銳利的”邊緣，即端板的邊緣呈直角或尖角，使得擦拭器已經從端板移除的污垢從擦拭刮片被刮除，且下一個清潔步驟以“干凈”的擦拭刮片開始。相對于本專利技術的方法，通過以下特征來實現本專利技術的目的，包括傳感器機身被實施為用于容納測量設備，該測量設備用于確定一個或更多個物理和/或化學過程變量。在該情形下，傳感器機身被密封以防止液體的滲透。設置擦拭器，該擦拭器具有擦拭刮片，用于清潔端板，該擦拭器布置為在外圍附加模塊上的子組件。在回轉過程中，擦拭器從休止位置移動到清潔位置。由此，通過擦拭刮片的接觸而清潔端板。然后，擦拭器移動回到休止位置。在實施例的形式中，通過擦拭器和外圍附加模塊的幾何形狀將擦拭器從休止位置引導至清潔位置，其中擦拭器移過由擦拭器和外圍附加模塊的幾何形狀限定的本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于從傳感器機身（1）的端板（2）清潔沉積物和增積物的設備，其中所述傳感器機身（1）被實施為用于容納測量設備，所述測量設備用于確定一個或更多個物理和/或化學過程變量，其中所述傳感器機身（1）被密封以防止液體的滲透，并且其中，設置擦拭器（3），所述擦拭器（3）具有擦拭刮片（4），用于清潔所述端板（2），所述設備的特征在于：所述擦拭器（3）被布置作為外圍附加模塊（7）上的子組件，其中所述擦拭器（3）和所述外圍附加模塊（7）的幾何形狀被實施為使得所述擦拭器（3）在回轉過程中的旋轉運動的情形下，從休止位置移動到清潔位置，其中，在所述清潔位置，所述擦拭刮片（4）的下邊緣與所述端板（2）的上邊緣齊平，從而所述擦拭器（3）通過所述擦拭刮片（4）和所述端板（2）的接觸而清潔所述端板（2），并且然后所述擦拭器（3）返回至所述休止位置。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：哈桑厄茨康·卡拉格茨，米夏埃爾·利特曼，蒂洛·克拉齊穆爾，
申請(專利權)人：恩德萊斯和豪瑟爾測量及調節技術分析儀表兩合公司，
類型：發明
國別省市：