本發(fā)明專利技術(shù)涉及墨、墨盒和噴墨記錄方法。本發(fā)明專利技術(shù)提供如下的墨：其抑制通過來自于自分散型單偶氮顏料的析出物引起的噴射穩(wěn)定性的降低，還抑制記錄頭的加熱器部分的液體接觸面的劣化。所述墨為用于采用熱能的噴墨記錄系統(tǒng)的墨，其包含單偶氮顏料、樹脂和由下式(1)表示的表面活性劑。環(huán)氧乙烷基團(tuán)部分的分子量占表面活性劑的比例為10%以上至85%以下，所述單偶氮顏料為選自由-COOM、-SO3M、-PO3HM和-PO3M2組成的組的至少一種親水性基團(tuán)直接鍵合或通過其它原子團(tuán)鍵合至其顆粒表面的自分散顏料，和樹脂的酸值為240mg?KOH/g以下。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及嗔墨用墨以及使用該墨的墨盒和嗔墨記錄方法。
技術(shù)介紹
根據(jù)噴墨記錄方法，可在各種記錄介質(zhì)上進(jìn)行記錄。根據(jù)其用于記錄更好的圖像的目的，已提議各種墨例如適合于在光澤紙上記錄類似于照片的圖像質(zhì)量的圖像的墨和適合于在普通紙上記錄文檔的墨。近年來，甚至在使用普通紙作為記錄介質(zhì)記錄包括字符和圖表的業(yè)務(wù)文檔中利用噴墨記錄方法，并且用于此類用途應(yīng)用的頻率顯著增加。因此，作為適合于在記錄介質(zhì)如普通紙上記錄字符和圖表的墨，作為不僅黑色墨而且彩色墨用的著色材料的顏料的使用增加。在該環(huán)境下，對于用于噴墨用墨的顏料中的單偶氮顏料的各種研究正在推進(jìn)中，因?yàn)樵擃伭系闹芰?yōu)良并且甚至從成本的觀點(diǎn)也是有利的。然而，單偶氮顏料通常耐熱弱，因此當(dāng)單偶氮顏料應(yīng)用于通過熱能作用從記錄頭噴出墨的噴墨系統(tǒng)時(shí)引起以下問 題。例如，已知當(dāng)使用為典型的單偶氮顏料的C. I.顏料黃74時(shí)，顏料的析出物粘附并沉積在記錄頭的墨流路內(nèi)部從而降低噴射性能。特別地，近年來，對于更加改進(jìn)可記錄的頁數(shù)并降低運(yùn)行成本的要求日益增加。因而強(qiáng)烈要求在比以往更高的水平上抑制噴射性能的降低。為了解決該問題，作出以下提議。提出通過包含能夠抑制借助樹脂分散劑分散在墨中的單偶氮顏料的聚集的物質(zhì)來抑制墨的噴射穩(wěn)定性和貯存穩(wěn)定性的降低，并且改進(jìn)所得圖像的顯色性(參見日本專利申請?zhí)亻_2006-225638)。另外，提出包含其中親水性基團(tuán)已結(jié)合至顏料顆粒表面的自分散型單偶氮顏料、水溶性有機(jī)化合物和用于抑制單偶氮顏料的聚集的物質(zhì)的墨(參見日本專利申請?zhí)亻_2006-199744)。據(jù)說該墨即使在利用熱能的噴墨系統(tǒng)中也抑制噴射穩(wěn)定性和貯存穩(wěn)定性的降低并能夠改進(jìn)所得圖像的顯色性。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
然而，當(dāng)日本專利申請?zhí)亻_2006-225638和日本專利申請?zhí)亻_2006-199744中記載的墨應(yīng)用于通過熱能作用從記錄頭噴出墨從而進(jìn)行長期墨噴出操作的噴墨記錄系統(tǒng)時(shí)，在一些情況下由于來自單偶氮顏料的析出物在所得圖像中會(huì)出現(xiàn)模糊。當(dāng)進(jìn)行常規(guī)噴墨記錄設(shè)備所需水平的耐久性試驗(yàn)時(shí)不出現(xiàn)該圖像的模糊。然而，已發(fā)現(xiàn)當(dāng)對于噴墨記錄設(shè)備意欲滿足近年來需求的高耐久性時(shí)，由于噴射穩(wěn)定性的降低會(huì)出現(xiàn)圖像的模糊。如上所述，近年來，對于更加改進(jìn)可記錄的頁數(shù)并降低運(yùn)行成本的要求日益增加。因此，意欲延長記錄頭的壽命，并且甚至還要求滿足比以往更高噴射性能的墨。因此，本專利技術(shù)的目的在于提供能夠解決當(dāng)通過熱能作用從噴墨系統(tǒng)的記錄頭噴出墨時(shí)在包含自分散型單偶氮顏料的墨中引起的以下問題的墨。即，本專利技術(shù)的目的在于提供抑制通過來自于自分散型單偶氮顏料的析出物引起的噴射穩(wěn)定性的降低并且還抑制記錄頭的加熱器部分的液體接觸面劣化的墨。本專利技術(shù)的另一目的在于提供能夠穩(wěn)定地記錄顯色性聞的圖像的墨盒和嗔墨記錄方法。上述目的可通過下述本專利技術(shù)來實(shí)現(xiàn)。即，根據(jù)本專利技術(shù)的墨是包含單偶氮顏料，樹脂和由下式(I)表示的表面活性劑的、用于通過熱能作用從記錄頭噴出墨的噴墨記錄系統(tǒng)中的墨，其中環(huán)氧乙燒基團(tuán)(ethylene oxide group)部分的分子量占所述表面活性劑的比例為10%以上至85%以下，所述單偶氮顏料為選自由-C00M、-SO3M, -PO3HM和-PO具(式中的M為氫原子、堿金屬、銨或有機(jī)銨)組成的組的至少一種親水性基團(tuán)直接鍵合或通過其它原子團(tuán)鍵合至其顆粒表面的自分散顏料，和樹脂的酸值為240mg KOH/g以下。權(quán)利要求1.一種墨，其包括單偶氮顏料、樹脂和由下式(I)表示的表面活性劑，所述墨用于通過熱能的作用從記錄頭噴出墨的噴墨記錄系統(tǒng)，其中 環(huán)氧乙烷基團(tuán)部分的分子量占所述表面活性劑的比例為10%以上至85%以下， 所述單偶氮顏料為選自由-C00M、-S03M、-PO3HM和-PO具(式中的M為氫原子、堿金屬、銨或有機(jī)銨)組成的組的至少一種親水性基團(tuán)直接鍵合或通過其它原子團(tuán)鍵合至其顆粒表面的自分散顏料，和 所述樹脂的酸值為240mg KOH/g以下，2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述單偶氮顏料為選自由-C00M、-SO3M,-PO3HM和-Ρ03Μ2(式中的M為氫原子、堿金屬、銨或有機(jī)銨)組成的組的至少一個(gè)親水性基團(tuán)通過選自由亞烷基、亞芳基、酰胺基、磺酰基、氨基、羰基、酯基和醚基組成的組的至少一種其它原子團(tuán)鍵合至其顆粒表面的自分散顏料。3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述樹脂在所述墨中的含量(質(zhì)量％)以質(zhì)量比計(jì)為所述單偶氮顏料的含量(質(zhì)量％)的O. 25倍以上至I. O倍以下。4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述樹脂的酸值為170mgKOH/g以下。5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述式⑴中的m為10.0以上至60.O以下。6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述表面活性劑在所述墨中的含量(質(zhì)量％)以質(zhì)量比計(jì)為所述單偶氮顏料的含量(質(zhì)量％)的O. 05倍以上至O. 5倍以下。7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述環(huán)氧乙烷基團(tuán)部分的分子量占所述表面活性劑的比例為41%以上至85%以下。8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述環(huán)氧乙烷基團(tuán)部分的分子量占所述表面活性劑的比例為57%以上至85%以下。9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨，其中所述單偶氮顏料為C.I.顏料黃74。10.一種墨盒，其包括墨和存所述墨的墨存部，其中所述墨為根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨。11.一種噴墨記錄方法，其包括通過熱能的作用從噴墨系統(tǒng)的記錄頭噴出墨從而在記錄介質(zhì)上記錄圖像，其中所述墨為根據(jù)權(quán)利要求I所述的墨。全文摘要本專利技術(shù)涉及。本專利技術(shù)提供如下的墨其抑制通過來自于自分散型單偶氮顏料的析出物引起的噴射穩(wěn)定性的降低，還抑制記錄頭的加熱器部分的液體接觸面的劣化。所述墨為用于采用熱能的噴墨記錄系統(tǒng)的墨，其包含單偶氮顏料、樹脂和由下式(1)表示的表面活性劑。環(huán)氧乙烷基團(tuán)部分的分子量占表面活性劑的比例為10%以上至85%以下，所述單偶氮顏料為選自由-COOM、-SO3M、-PO3HM和-PO3M2組成的組的至少一種親水性基團(tuán)直接鍵合或通過其它原子團(tuán)鍵合至其顆粒表面的自分散顏料，和樹脂的酸值為240mg KOH/g以下。文檔編號C09D11/10GK102898892SQ20121026540公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月27日專利技術(shù)者森靖仁, 山下知洋 申請人:佳能株式會(huì)社本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種墨，其包括單偶氮顏料、樹脂和由下式(1)表示的表面活性劑，所述墨用于通過熱能的作用從記錄頭噴出墨的噴墨記錄系統(tǒng)，其中環(huán)氧乙烷基團(tuán)部分的分子量占所述表面活性劑的比例為10%以上至85%以下，所述單偶氮顏料為選自由？COOM、？SO3M、？PO3HM和？PO3M2(式中的M為氫原子、堿金屬、銨或有機(jī)銨)組成的組的至少一種親水性基團(tuán)直接鍵合或通過其它原子團(tuán)鍵合至其顆粒表面的自分散顏料，和所述樹脂的酸值為240mg？KOH/g以下，其中n為1.0以上，和m為1.0以上。FDA00001942763300011.jpg
【技術(shù)特征摘要】
...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：森靖仁，山下知洋，
申請(專利權(quán))人：佳能株式會(huì)社，
類型：發(fā)明
國別省市：
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