本發(fā)明專利技術(shù)公開(kāi)了一種構(gòu)筑電泵浦回音壁模ZnO紫外微激光器的制備方法。該方法利用氣相傳輸法或水熱法制備出ZnO微米棒單晶,然后將單根ZnO微米棒轉(zhuǎn)移到有緩沖層的p型氮化鎵(GaN)上,通過(guò)對(duì)緩沖層的處理,使ZnO微米棒與p型GaN之間形成接觸良好的異質(zhì)結(jié)。接著在其表面制備一層絕緣薄膜,采用反應(yīng)離子刻蝕或者光刻技術(shù)把ZnO微米棒表面刻蝕出來(lái),然后將石墨烯轉(zhuǎn)移到ZnO微米棒上,使石墨烯與ZnO微米棒形成良好的接觸;最后在p型GaN表面制備金屬電極,構(gòu)成完的石墨烯/n型ZnO微米棒/p型GaN異質(zhì)結(jié)微激光器。該方法制備的微激光器利用了石墨烯的高載流子濃度和高透光性,可實(shí)現(xiàn)了高品質(zhì)的紫外激光輸出。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)設(shè)計(jì)利用氣相傳輸法或水熱法制備高品質(zhì)單晶ZnO微米棒,分離出單根ZnO微米棒并將之與有緩沖層的P型GaN結(jié)合,經(jīng)過(guò)對(duì)緩沖層的處理,與GaN形成接觸良好的Pn結(jié),接著在其表面濺射一層無(wú)機(jī)透明絕緣薄膜,其次利用反應(yīng)離子刻蝕或者光刻技術(shù)使ZnO微米棒表面暴露,最后將石墨烯轉(zhuǎn)移到ZnO微米棒表面作為電極,并在P型GaN表面制備電極,形成完整的器件。以上述方法和工藝流程獲得的發(fā)光Pn結(jié)能夠獲得高品質(zhì)的電泵紫外回音壁模激光。
技術(shù)介紹
自日本科學(xué)家和美國(guó)科學(xué)家相繼發(fā)現(xiàn)了 ZnO薄膜和納米線中的紫外光輻射以來(lái),ZnO成為設(shè)計(jì)紫外激光器的理想材料。ZnO微納米結(jié)構(gòu)中的紫外激射模式可以分為三種隨機(jī)激光、法布里珀羅(F-P)激光、回音壁模激光。在隨機(jī)激光中,相干反饋是靠回程散射自·發(fā)形成的,由于晶體邊界散射嚴(yán)重造成光路中的光學(xué)損耗大,因此隨機(jī)激射閾值十分高,并且激射模式不固定。F-P型激光其工作原理類似于傳統(tǒng)的F-P腔激光器,兩平行面相當(dāng)于兩個(gè)腔鏡,然而由于ZnO兩端界面處反射率較低,因此F-P模激射的閾值也比較高。回音壁模激射是利用光路在ZnO六邊形微米棒中內(nèi)不斷全反射形成的,光學(xué)全反射能有效的將光線束縛在腔體內(nèi),因此光學(xué)損耗極其微弱,所以ZnO回音壁模微米棒能輸出高品質(zhì)因子和低閾值的激光輻射。目前,上述三種模式ZnO的紫外激射在光泵浦下已經(jīng)實(shí)現(xiàn)的,人們均采用了脈沖激光器泵浦ZnO微納米結(jié)構(gòu)以使粒子數(shù)發(fā)生反轉(zhuǎn),使得光學(xué)增益大于光學(xué)損耗以形成激光輻射。現(xiàn)有的研究工作已經(jīng)開(kāi)始著力于發(fā)展ZnO電致發(fā)光,由于人們難以獲得穩(wěn)定的P型ZnO材料。因此研究者通常在P型硅或P型GaN表面生長(zhǎng)ZnO薄膜形成pn結(jié),而這種薄膜Pn結(jié)由于缺少合適的腔體結(jié)構(gòu),只能形成沒(méi)有固定模式的隨機(jī)激光。隨機(jī)激光的穩(wěn)定性和可重復(fù)性不強(qiáng),而且激光波長(zhǎng)是不可控的,所以隨機(jī)激光仍然是不夠理想的。ZnO微米棒具有六角纖維鋅礦結(jié)構(gòu),提供一個(gè)理想的激光腔體結(jié)構(gòu),形成的回音壁模式有較低的激光閾值,固定的激光模式和輸出方向,因此將ZnO微米棒作為微激光器的振蕩微腔將是一個(gè)理想的選擇。η型ZnO微米棒/緩沖層/p型GaN結(jié)構(gòu)的回音壁模微激光器的制備已有報(bào)道。但是由于金屬電極的不透光性,激光的在出射時(shí)造成了很大的損耗。用透明導(dǎo)電薄膜(如氧化銦錫(ITO),氧鋅鋁(ZAO)等)作為電極,雖然透光性增強(qiáng),卻犧牲了載流子濃度。石墨烯具有高載流子濃度和高透光性,是作為電極的理想材料。所以我們提出了石墨烯/n型ZnO微米棒/緩沖層/p型GaN這種結(jié)構(gòu),加入緩沖層既保證了 pn結(jié)構(gòu),使各層之間良好的電學(xué)接觸,又改善了 ZnO微米棒腔體中的全反射條件,使光損耗會(huì)降低,增益提高。同時(shí)石墨烯作為電極提高了光的透射率,有利于激光品質(zhì)的提聞。該方法首先利用氣相傳輸法制備出ZnO微米棒單晶,然后將單根ZnO微米棒轉(zhuǎn)移到有緩沖層的P型GaN上固定,通過(guò)對(duì)緩沖層的處理,ZnO微米棒與p型GaN之間能形成接觸良好的異質(zhì)結(jié)。然后在有ZnO微米棒的P型GaN表面制備一層絕緣薄膜(如Si02,Al203等透明絕緣材料),接著采用反應(yīng)離子刻蝕或者光刻技術(shù)把ZnO微米棒表面刻蝕出來(lái),最后將石墨烯轉(zhuǎn)移到暴露出ZnO微米棒襯底上,經(jīng)過(guò)低溫加壓使石墨烯與ZnO微米棒良好接觸;在P型GaN表面制備金屬電極,構(gòu)成完整的石墨烯/n型ZnO微米棒/p型GaN異質(zhì)結(jié)微激光器。該方法制備的微激光器可以通過(guò)選擇不同尺寸的ZnO微米棒以調(diào)制激光波長(zhǎng)和模式,同時(shí)利用石墨烯的導(dǎo)電性和透光性實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的紫外激光輸出。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
技術(shù)問(wèn)題本專利技術(shù)的目的是提供一種構(gòu)筑電泵浦回音壁模ZnO紫外微激光器的方法。其激光輸出波長(zhǎng)通過(guò)調(diào)節(jié)ZnO微米棒直徑得到調(diào)控。技術(shù)方案本專利技術(shù)中,利用氣相傳輸法制備高品質(zhì)ZnO微米棒,分離出單根ZnO微米棒,并轉(zhuǎn)移到有緩沖層的P型GaN襯底表面,經(jīng)過(guò)處理形成良好的pn結(jié)。然后在GaN襯底表面制備一層絕緣薄膜(如Si02,Al2O3等透明絕緣材料),接著采用反應(yīng)離子刻蝕或者光刻技術(shù)把ZnO微米棒表面刻蝕出來(lái),將石墨烯轉(zhuǎn)移在露出ZnO微米棒的襯底上,經(jīng)過(guò)低溫·加壓使石墨烯與ZnO微米棒良好接觸;最后在P型GaN表面制備金屬電極,構(gòu)成完整的石墨烯/n型ZnO微米棒/p型GaN異質(zhì)結(jié)微激光器。本專利技術(shù)采用以下技術(shù)方案第一步將純度均為99. 00 99. 99%的ZnO粉末和碳粉末按照質(zhì)量比I : I I 2. 5混合研磨,取該混合物填入陶瓷舟內(nèi);將與陶瓷舟開(kāi)口面積大小的硅片經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑瑢⒐杵瑨伖饷娉赂采w與陶瓷舟上方,隨后將陶瓷舟推入溫度為1000 1200攝氏度的管式爐中,經(jīng)過(guò)30 60分鐘反應(yīng),ZnO微米棒陣列生長(zhǎng)于娃片表面,第二步將P型GaN經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑么趴貫R射在P型GaN其表面制備一層厚度20 30納米的金屬鋅膜,第三步從ZnO微米棒陣列中挑選單根ZnO微米棒,將之平放轉(zhuǎn)移到第二步制備好的金屬鋅薄膜表面,隨后將之放置于管式爐中在氧氛圍中退火I I. 5小時(shí),退火溫度是450 500攝氏度,使得20 30納米厚度的金屬鋅膜完全成為ZnO膜,該層ZnO薄膜將上層ZnO微米棒和下層P型GaN有效地連接在一起形成了良好的pn結(jié),第四步利用磁控濺射GaN襯底表面鍍上一層無(wú)機(jī)透明絕緣層薄膜,厚度為5 8微米,覆蓋ZnO微米棒,第五步采用光刻對(duì)透明絕緣薄膜進(jìn)行刻蝕,刻蝕厚度約I 2微米,使ZnO微米棒表面暴露,第六步將石墨烯轉(zhuǎn)移到GaN表面,覆蓋ZnO微米棒,使石墨烯和ZnO微米棒良好的電極接觸,第七步通過(guò)電子束蒸鍍方法,在P型GaN表面制備20 30納米厚度的Ni-Au電極,最終制備完整的石墨烯/n型ZnO微米棒/p型GaN異質(zhì)結(jié)微激光器。第二種制備方法為第一步將純度均為99. 00 99. 99%的ZnO粉末和碳粉末按照質(zhì)量比I : I I 2. 5混合研磨,取該混合物填入陶瓷舟內(nèi);將與陶瓷舟開(kāi)口面積大小的硅片經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑瑢⒐杵瑨伖饷娉赂采w與陶瓷舟上方,隨后將陶瓷舟推入溫度為1000 1200攝氏度的管式爐中,經(jīng)過(guò)30 60分鐘反應(yīng),ZnO微米棒陣列生長(zhǎng)于娃片表面,第二步將P型GaN經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑渲频腜型聚合物氯仿溶液,旋涂于P型GaN表面;旋涂速度在2秒鐘內(nèi)由靜止?fàn)顟B(tài)加速至設(shè)定轉(zhuǎn)速2000 4000轉(zhuǎn)/分鐘,保持該轉(zhuǎn)速10 20秒鐘,形成厚度20 30納米的p型聚合物薄膜,第三步從ZnO微米棒陣列中分離出單根ZnO微米棒,將之平放轉(zhuǎn)移至P型聚合物薄膜表面,然后進(jìn)行溫度為100-120攝氏度的加熱,該層P型聚合物薄膜將上層ZnO微米棒和下層P型GaN有效地連接在一起形成了良好的pn結(jié),第四步利用磁控濺射GaN表面鍍上一層無(wú)機(jī)透明絕緣層薄膜,厚度為5 8微米,覆蓋單根ZnO微米棒,第五步采用反應(yīng)離子刻蝕,對(duì)透明絕緣薄膜進(jìn)行刻蝕,刻蝕厚度約I 2微米,使 ZnO微米棒表面暴露,第六步將石墨烯轉(zhuǎn)移到GaN襯底表面,覆蓋ZnO微米棒,使石墨烯和ZnO微米棒良好的電極接觸,第七步通過(guò)電子束蒸鍍方法,在P型GaN表面制備20 30納米厚度的Ni/Au電極,最終本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種構(gòu)筑電泵浦回音壁模ZnO紫外微激光器的制備方法,其特征在于該制備方法為第一步:將純度均為99.00~99.99%的ZnO粉末和碳粉末按照質(zhì)量比1∶1~1∶2.5混合研磨,取該混合物填入陶瓷舟內(nèi);將與陶瓷舟開(kāi)口面積大小的硅片經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑瑢⒐杵瑨伖饷娉赂采w與陶瓷舟上方,隨后將陶瓷舟推入溫度為1000~1200攝氏度的管式爐中,經(jīng)過(guò)30~60分鐘反應(yīng),ZnO微米棒陣列生長(zhǎng)于硅片表面,第二步:將p型GaN經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑么趴貫R射在p型GaN其表面制備一層厚度20~30納米的金屬鋅膜,第三步:從ZnO微米棒陣列中挑選單根ZnO微米棒,將之平放轉(zhuǎn)移到第二步制備好的金屬鋅薄膜表面,隨后將之放置于管式爐中在氧氛圍中退火1~1.5小時(shí),退火溫度是450~500攝氏度,使得20~30納米厚度的金屬鋅膜完全成為ZnO膜,該層ZnO薄膜將上層ZnO微米棒和下層p型GaN有效地連接在一起形成了良好的pn結(jié),第四步:利用磁控濺射GaN襯底表面鍍上一層無(wú)機(jī)透明絕緣層薄膜,厚度為5~8微米,覆蓋ZnO微米棒,第五步:采用光刻對(duì)透明絕緣薄膜進(jìn)行刻蝕,刻蝕厚度約1~2微米,使ZnO微米棒表面暴露,第六步:將石墨烯轉(zhuǎn)移到GaN表面,覆蓋ZnO微米棒,使石墨烯和ZnO微米棒良好的電極接觸,第七步:通過(guò)電子束蒸鍍方法,在p型GaN表面制備20~30納米厚度的Ni?Au電極,最終制備完整的石墨烯/n型ZnO微米棒/p型GaN異質(zhì)結(jié)微激光器。...
【技術(shù)特征摘要】
1.一種構(gòu)筑電泵浦回音壁模ZnO紫外微激光器的制備方法,其特征在于該制備方法為 第一步將純度均為99. 00 99. 99%的ZnO粉末和碳粉末按照質(zhì)量比I : I I : 2.5混合研磨,取該混合物填入陶瓷舟內(nèi);將與陶瓷舟開(kāi)口面積大小的硅片經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑瑢⒐杵瑨伖饷娉赂采w與陶瓷舟上方,隨后將陶瓷舟推入溫度為1000 1200攝氏度的管式爐中,經(jīng)過(guò)30 60分鐘反應(yīng),ZnO微米棒陣列生長(zhǎng)于娃片表面, 第二步將P型GaN經(jīng)丙酮、無(wú)水乙醇和去離子水依次超聲清洗后,用氮?dú)獯蹈桑么趴貫R射在P型GaN其表面制備一層厚度20 30納米的金屬鋅膜, 第三步從ZnO微米棒陣列中挑選單根ZnO微米棒,將之平放轉(zhuǎn)移到第二步制備好的金屬鋅薄膜表面,隨后將之放置于管式爐中在氧氛圍中退火I I. 5小時(shí),退火溫度是450 500攝氏度,使得20 30納米厚度的金屬鋅膜完全成為ZnO膜,該層ZnO薄膜將上層ZnO微米棒和下層P型GaN有效地連接在一起形成了良好的pn結(jié), 第四步利用磁控濺射GaN襯底表面鍍上一層無(wú)機(jī)透明絕緣層薄膜,厚度為5 8微米,覆蓋ZnO微米棒, 第五步采用光刻對(duì)透明絕緣薄膜進(jìn)行刻蝕,刻蝕厚度約I 2微米,使ZnO微米棒表面暴露, 第六步將石墨烯轉(zhuǎn)移到GaN表面,覆蓋ZnO微米棒,使石墨烯和ZnO微米棒良好的電極接觸, 第七步通過(guò)電子束蒸鍍方法,在P型GaN表面制備20 30納米厚度的Ni-Au電極,最終制備完整的石墨烯/n型ZnO微米棒/p型GaN異質(zhì)結(jié)微激光器。2.—種構(gòu)筑電泵...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:徐春祥,朱剛毅,理記濤,田正山,石增良,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:東南大學(xué),
類型:發(fā)明
國(guó)別省市:
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