本文中描述的是一種具有用于RF應用的緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的裝置、系統(tǒng)、以及方法。該裝置包括：第一和第二接地平面，該第一和第二接地平面中的每一個具有各自的截平邊緣，該第一和第二接地平面彼此相互平行且由多層基板分隔開；帶狀線，定位在該第一和第二接地平面之間；以及對稱過渡結(jié)構(gòu)，耦合至該帶狀線，以及在第一和第二接地平面各自的截平邊緣附近耦合至第一和第二接地平面，以及進一步耦合至寬邊耦合線（BCL）。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)的實施方式一般地涉及射頻(RF)應用領(lǐng)域。更特別地，本專利技術(shù)的實施方式涉及一種用于RF應用的緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的裝置、系統(tǒng)、和方法。
技術(shù)介紹
對于帶有一個或更多接地平面和單端信號分布的多層基板，由于典型地處于毫米 波頻率，貼片天線由于易于與射頻集成電路(RFICs)集成而被使用。盡管貼片天線在輻射方面有效率且僅需要單端饋電，但它們主要在正交于基板的平面內(nèi)輻射。這個輻射方向使得難以在典型的消費者電子產(chǎn)品的底架上安裝基板，其中輻射僅在平行于基板的方向出射。為了克服這個問題，使用端射天線，其能夠主要朝向天線的邊緣輻射。最常見的帶有端射輻射的端射天線的類型是平面偶極天線。然而，在多層基板中集成傳統(tǒng)的平面偶極天線是有挑戰(zhàn)性的，因為存在給傳統(tǒng)平面偶極天線平衡饋電的需求，以及移除傳統(tǒng)平面偶極天線附近的接地平面使得天線的總體尺寸非常大。此外，當在公共基板上的同一封裝內(nèi)與驅(qū)動RFIC —起以陣列拓撲封裝時，大尺寸的傳統(tǒng)平面偶極天線是一種挑戰(zhàn)，因為其大尺寸需要集成在尺寸不斷變小的消費者電子設(shè)備內(nèi)。專利技術(shù)概述本文中描述的是用于射頻(RF)應用的緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的裝置、系統(tǒng)、以及方法，其允許非平面天線與分布在信號平面上的單端RF天線集成，該信號平面位于兩個平行的接地平面之間，導致一種可高產(chǎn)量生產(chǎn)的緊湊設(shè)計。本文中描述的是一種裝置，包括帶有它們各自截平的邊緣的第一和第二接地平面，該第一和第二接地平面彼此互相平行且由多層基板分隔開；在該第一和第二接地平面之間的帶狀線；以及對稱過渡結(jié)構(gòu)，耦合至該帶狀線，并在該第一和第二接地平面各自截平的邊緣附近耦合至該第一和第二接地平面，根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式，該對稱過渡結(jié)構(gòu)還進一步耦合至寬邊耦合線(BCL)。在一個實施方式中，對稱過渡結(jié)構(gòu)包括過孔，將該帶狀線耦合至BCL的第一金屬線；以及圍繞該過孔對稱的金屬線，在該第一和第二接地平面各自截平的邊緣附近耦合至該第一和第二接地平面，且進一步耦合至BCL的第二金屬線。本文中描述的是一種系統(tǒng)，包括射頻集成電路(RFIC);耦合至該RFIC的多個帶狀線，該多個帶狀線位于彼此相互平行的第一和第二接地平面之間，第一和第二接地平面的每一個具有各自截平的邊緣；以及多個對稱過渡結(jié)構(gòu)，每個對稱過渡結(jié)構(gòu)都耦合至多個帶狀線之中的對應的帶狀線，且在該第一和第二接地平面各自截平的邊緣附近耦合至該第一和第二接地平面，以及進一步耦合至多個寬邊耦合線(BCLs)。本文中描述的是一種形成具有緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的RF應用的方法，該方法包括形成第一和第二接地平面，每一個具有它們各自截平的邊緣，該第一和第二接地平面彼此相互平行且由多層基板分隔開；在第一和第二接地平面之間形成帶狀線；以及將對稱過渡結(jié)構(gòu)耦合至該帶狀線，并將對稱過渡結(jié)構(gòu)在該第一和第二接地平面各自截平的邊緣附近耦合至該第一和第二接地平面，以及進一步將對稱過渡結(jié)構(gòu)耦合至寬邊耦合線(BCL)。附圖簡述本專利技術(shù)的實施方式根據(jù)下面給出的詳細描述和本專利技術(shù)的各種不同的實施方式的附圖將會被更完全地理解，然而，實施方式不應當被被視為將本專利技術(shù)限制在特定的實施方式，而僅僅用于解釋和理解。圖I圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的帶有具有緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的集成匹配設(shè)備的高級射頻(RF)設(shè)備。 圖2A圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的將帶狀線耦合至寬邊耦合線(BCL)的對稱過渡結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖2B圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的另一個實施方式將帶狀線耦合至BCL的對稱過渡結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖3A圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的將帶狀線與非平面天線耦合的對稱過渡結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖3B圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的耦合至對稱過渡結(jié)構(gòu)且與射頻集成電路(RFIC)兼容的圖3A的基板集成非平面偶極端射天線的俯視圖。圖3C圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的圖3B的側(cè)視圖。圖3D圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的另一個實施方式的將帶狀線耦合至非平面偶極天線的對稱過渡結(jié)構(gòu)的俯視圖。圖4A圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的用于形成附圖說明圖1-3的裝置的方法400。圖4B圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的用于形成用于多層基板的對稱過渡結(jié)構(gòu)以及用于形成端射非平面天線的方法流程圖。圖5為根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的具有對稱過渡結(jié)構(gòu)的通信系統(tǒng)的框圖。圖6為根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的包含圖5的發(fā)射機設(shè)備和接收機設(shè)備的多天線無線電系統(tǒng)中的自適應波束形成的框圖。詳細描述本文中描述的是用于射頻(RF)應用的緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的裝置、系統(tǒng)、以及方法的實施方式，其允許非平面天線與分布在信號平面上的單端RF天線集成，該信號平面位于兩個平行的接地平面之間，導致一種可高產(chǎn)量生產(chǎn)的緊湊設(shè)計。圖I圖示出根據(jù)本專利技術(shù)的一個實施方式的帶有具有緊湊對稱過渡結(jié)構(gòu)的集成匹配設(shè)備的高級射頻(RF)設(shè)備100。在一個實施方式中，RF設(shè)備100包括第一匹配設(shè)備103，該第一匹配設(shè)備103經(jīng)由傳輸饋電104、對稱過渡結(jié)構(gòu)105、以及一對寬邊耦合線(BCL) 106耦合至第二匹配設(shè)備107。在一個實施方式中，傳輸饋電104位于具有各自截平邊緣108的兩個平行接地平面(僅頂部接地平面102被示出)之間。在一個實施方式中，傳輸饋電104是帶狀線，其配置為載有到第一匹配設(shè)備103和來自第一匹配設(shè)備103的毫米波信號。在一個實施方式中，第一匹配設(shè)備103包括射頻集成電路(RFIC)。在另一個實施方式中，第一匹配設(shè)備103是探測由傳輸饋電104接收的信號的探針焊墊。在一個實施方式中，第一匹配設(shè)備103的阻抗與傳輸饋電104的阻抗相匹配。在一個實施方式中，傳輸饋電104在傳輸饋電104的一端稱合至第一匹配設(shè)備103，以及在傳輸饋電104的另一端耦合至對稱過渡結(jié)構(gòu)105。在一個實施方式中，對稱過渡結(jié)構(gòu)105的技術(shù)效果是它提供了平衡-不平衡變換器的功能，當波信號傳輸至第一匹配設(shè)備103，以及從第一匹配設(shè)備103傳輸至第二匹配設(shè)備107時，該對稱過渡結(jié)構(gòu)105通過提供不連續(xù)匹配，減小(以及潛在地最小化)截平的接地平面的不連續(xù)效應，且通過提供解決了上述參考傳統(tǒng)平面偶極天線集成到多層基板的尺寸問題的小過渡結(jié)構(gòu)，減小了 RF設(shè)備101的尺寸。在一個實施方式中，對稱過渡結(jié)構(gòu)105通過給流動至接地平面和BCLs 106/從接地平面和BCLs 106流出的電流提供對稱路徑，還減小了且潛在最小化了不需要的寄生和高次模式的激發(fā)。 在一個實施方式中，第二匹配設(shè)備107包括非平面偶極天線。在一個實施方式中，第二匹配設(shè)備107的阻抗與BCL 106的阻抗相匹配，以減小且潛在地最小化信號的反射。在一個實施方式中，非平面偶極天線是端射天線。在一個實施方式中，非平面偶極天線包括兩個偶極臂部，每個臂部耦合至對應的BCL 106。在一個實施方式中，兩個偶極臂部與它們對應的BCL 106正交。在一個實施方式中，第二匹配設(shè)備107包括非平面折疊偶極天線。在一個實施方式中，第二匹配設(shè)備107包括非平面蝶形天線。在一個實施方式中，多個傳輸饋電耦合至第一匹配設(shè)備(RFIC) 103，其中多個傳輸饋電位于彼此相互平行的第一和第二接地平面之間，第一和第二接地平面的每個具有各自截平的邊緣108。在一個實施方式中，裝置進一步包括多個對稱過渡結(jié)構(gòu)，每一個對稱過渡結(jié)構(gòu)都耦合至多個傳輸饋電中對應的傳輸饋電，并且在第一和第二接本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：M·E·艾利，
申請(專利權(quán))人：賽伊公司，
類型：
國別省市：
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