本實用新型專利技術公開了一種新型膠圈張力架，包括對膠圈進行張力預緊的張力架本體，所述張力架本體的下部是與膠圈直接進行摩擦接觸的張力塊，所述張力塊的摩擦接觸面上設置有交錯布置的凹槽。作為本實用新型專利技術的優選方案，在所述張力塊的表面設有兩排大小相同的凹槽，其中一排凹槽具有兩個均勻布置的凹槽，另一排凹槽具有三個均勻布置的凹槽。兩排凹槽的寬度疊加后等于張力塊的寬度。本實用新型專利技術通過改變膠圈張力架的表面形狀，通過特定設計的凹槽，減少膠圈與張力架的接觸面積，達到降低摩擦阻力（M1）的效果。同時，考慮到膠圈各個部分與張力架均勻接觸，保持磨損均勻，凹槽的設計在包覆面兩側以2+3的形式出現。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及一種環錠紡紗細紗機的牽伸系統應用的張力架裝置。
技術介紹
如圖I所示，在環錠紡紗細紗機的牽伸系統中，分為前區牽伸和后區牽伸，其中，前羅拉2和后羅拉8均采用羅拉傳動、膠輥(包括前膠輥I、后膠輥7)加壓被動運動的形式，唯獨中羅拉4 (與中膠圈3配合)采用膠圈形式。膠圈9的運動是否順暢直接影響到后區牽伸是否達到設計工藝要求的牽伸倍數(通常為1.2倍)，但是由于中羅拉4與中膠圈3為主動傳動(MO)，膠圈與膠圈張力架5之間的摩擦阻力(Ml)、膠圈與下肖6之間的摩擦阻力(M2)、搖架膠圈阻力(M3)這三部分阻力存在，應確保M0 M1+M2+M3牽伸才不受影響，但目前的技術，Ml較大，就會引起膠圈轉動速度達不到設計速度，使后區牽伸小于I. 2，影響成紗品質， 增加功耗。
技術實現思路
針對上述問題，本技術提供一種新型膠圈張力架，減少膠圈和張力架的摩擦，達到改善成紗品質，減少功耗的目的。本技術的目的通過以下技術方案來具體實現一種新型膠圈張力架，包括對膠圈進行張力預緊的張力架本體，所述張力架本體的下部是與膠圈直接進行摩擦接觸的張力塊，所述張力塊的摩擦接觸面上設置有交錯布置的凹槽。作為本技術的優選方案，在所述張力塊的表面設有兩排大小相同的凹槽，其中一排凹槽具有兩個均勻布置的凹槽，另一排凹槽具有三個均勻布置的凹槽。兩排凹槽的寬度疊加后等于張力塊的寬度。每個所述凹槽均呈大小相同的矩形。本技術方案中，并不限定凹槽的個數。本技術通過改變膠圈張力架的表面形狀，通過特定設計的凹槽，減少膠圈與張力架的接觸面積，達到降低摩擦阻力(Ml)的效果。同時，考慮到膠圈各個部分與張力架均勻接觸，保持磨損均勻，凹槽的設計在包覆面兩側以2+3的形式出現。附圖說明下面根據附圖和實施例對本技術作進一步詳細說明。圖I是環錠紡紗細紗機的牽伸系統的剖面圖。圖2是新型膠圈張力架的結構圖。具體實施方式如圖2所示，并結合圖1，本技術實施例所述的新型膠圈張力架，包括對膠圈9進行張力預緊的張力架本體50，所述張力架本體50的下部是與膠圈直接進行摩擦接觸的張力塊51，所述張力塊51的摩擦接觸面上設置有交錯布置的凹槽52。作為本技術的優選方案，在所述張力塊的表面設有兩排大小相同的凹槽52，其中一排凹槽具有兩個均勻布置的凹槽，另一排凹槽具有三個均勻布置的凹槽。兩排凹槽的寬度疊加后等于張力塊的寬度。每個所述凹槽52均呈大小相同的矩形，矩形的凹槽52的排列方向與膠圈9的運行方向相同。本技術方案中，并不限定凹槽的個數，能實現降低摩擦力并對膠圈9的表面產生均勻的摩擦即可。本技術通過改變膠圈張力架的表面形狀，通過特定設計的凹槽，減少膠圈與張力架的接觸面積，達到降低摩擦阻力(Ml)的效果。同時，考慮到膠圈各個部分與張力架 均勻接觸，保持磨損均勻，凹槽的設計在包覆面兩側以2+3的形式出現。權利要求1.一種新型膠圈張力架，包括對膠圈進行張力預緊的張力架本體(50)，所述張力架本體(50)的下部是與膠圈直接進行摩擦接觸的張力塊(51)，其特征在于，所述張力塊(51)的摩擦接觸面上設置有交錯布置的凹槽(52)。2.如權利要求I所述的新型膠圈張力架，其特征在于，在所述張力塊(51)的表面設有兩排大小相同的凹槽(52)，其中一排凹槽具有兩個均勻布置的凹槽，另一排凹槽具有三個均勻布置的凹槽。3.如權利要求2所述的新型膠圈張力架，其特征在于，兩排凹槽的寬度疊加后等于張力塊(51)的寬度。4.如權利要求I至3中任一權利要求所述的新型膠圈張力架，其特征在于，每個所述凹槽(52)均呈大小相同的矩形。專利摘要本技術公開了一種新型膠圈張力架，包括對膠圈進行張力預緊的張力架本體，所述張力架本體的下部是與膠圈直接進行摩擦接觸的張力塊，所述張力塊的摩擦接觸面上設置有交錯布置的凹槽。作為本技術的優選方案，在所述張力塊的表面設有兩排大小相同的凹槽，其中一排凹槽具有兩個均勻布置的凹槽，另一排凹槽具有三個均勻布置的凹槽。兩排凹槽的寬度疊加后等于張力塊的寬度。本技術通過改變膠圈張力架的表面形狀，通過特定設計的凹槽，減少膠圈與張力架的接觸面積，達到降低摩擦阻力(M1)的效果。同時，考慮到膠圈各個部分與張力架均勻接觸，保持磨損均勻，凹槽的設計在包覆面兩側以2+3的形式出現。文檔編號D01H5/86GK202705605SQ201220346108公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月17日 優先權日2012年7月17日專利技術者管錦文, 陸惠文 申請人:無錫經緯紡織科技試驗有限公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種新型膠圈張力架，包括對膠圈進行張力預緊的張力架本體（50），所述張力架本體（50）的下部是與膠圈直接進行摩擦接觸的張力塊（51），其特征在于，所述張力塊（51）的摩擦接觸面上設置有交錯布置的凹槽（52）。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：管錦文，陸惠文，
申請(專利權)人：無錫經緯紡織科技試驗有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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