太陽能反射鏡制造技術(shù)

本實用新型專利技術(shù)涉及一種太陽能聚光集熱技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及太陽能反射鏡。一種太陽能反射鏡，包括有在玻璃基板上設(shè)有金屬反射層，其主要特點在于在玻璃基板與金屬反射層之間設(shè)有光學(xué)過渡層，在金屬反射層上設(shè)有反射補償金屬過渡層；在反射補償金屬過渡層上設(shè)有保護層。本實用新型專利技術(shù)由于在玻璃與銀反射層之間制備了一層光學(xué)過渡層，起到了光學(xué)增透的作用，使得該結(jié)構(gòu)反射鏡較銀層與玻璃直接接觸，膜系反射鏡的反光率有明顯提高，從93%提高到97%。（*該技術(shù)在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及太陽能聚光集熱
，特別涉及太陽能聚光器用反射鏡。
技術(shù)介紹
太陽能是可再生能源中分布最廣泛，幾乎遍布全球的每個角落，取用更方便，儲量最豐富，可謂是取之不盡用之不竭，一旦它能夠被充分有效的利用，將會極大地緩解人類的能源危機，故而太陽能在未來能源結(jié)構(gòu)中將占有重要的地位。太陽能熱利用，尤其是太陽能集熱發(fā)電工程首先解決的問題是輻射到地面的太陽能能流密度小的問題，利用太陽能反射鏡將太陽光匯聚起來增加能流密度是高效利用太陽能的一種技術(shù)手段。作為太陽能聚光器關(guān)鍵部件，太陽能反射鏡目前有玻璃基底鏡后膜反射鏡和金屬基底鏡前膜反射鏡等。其中鏡前膜反射鏡雖然反射效率高但存在耐風(fēng)沙腐蝕性能差的缺陷。因此目前規(guī)模化應(yīng)用的太陽能反射鏡多采用玻璃基底鏡后膜。典型結(jié)構(gòu)為玻璃基底/銀/銅/保護漆，其中銀反射層多采用傳統(tǒng)的化學(xué)“濕法”工藝制備。該方法制備的反射鏡反射率為93%。由于玻璃/銀/銅采用化學(xué)反應(yīng)成膜法，界面之間的附著力較差，長期戶外使用存在耐久性缺陷。其次由于采用化學(xué)反應(yīng)鍍膜方法，鍍膜過程存在環(huán)境污染等問題。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本技術(shù)的目的在于避免現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種太陽能反射鏡。本技術(shù)適用于規(guī)?；瘧?yīng)用的高反射率太陽能反射鏡。為實現(xiàn)上述目的，本技術(shù)采取的技術(shù)方案為一種太陽能反射鏡，包括有在玻璃基板上設(shè)有金屬反射層，其主要特點在于在玻璃基板與金屬反射層之間設(shè)有光學(xué)過渡層，在金屬反射層上設(shè)有反射補償金屬過渡層；在反射補償金屬過渡層上設(shè)有保護層。所述的太陽能反射鏡，所述的光學(xué)過渡層為Si3N4光學(xué)過渡層或Al2O3光學(xué)過渡層或TixOy光學(xué)過渡層。所述的太陽能反射鏡，所述的金屬反射層為銀反射層或鋁反射層。所述的太陽能反射鏡，所述的反射補償金屬過渡層為反射補償鋁過渡層或反射補償銅過渡層；其厚度為120-150nm。所述的太陽能反射鏡，所述的Si3N4光學(xué)過渡層或Al2O3光學(xué)過渡層或TixOy光學(xué)過渡層的厚度為5-30nm。所述的太陽能反射鏡，所述的銀反射層的厚度為80-150nm。本技術(shù)的有益效果本技術(shù)由于在玻璃與銀反射層之間制備了一層光學(xué)過渡層，起到了光學(xué)增透的作用，使得該結(jié)構(gòu)反射鏡較銀層與玻璃直接接觸膜系反射鏡的反光率有明顯提高，從93%提高到97% ;由于鍍銀技術(shù)采用了真空磁控濺射的方法，在提高膜層附著力，保證膜層性能的同時，消除了制鏡過程中的化學(xué)污染；常規(guī)濕法鍍銀制鏡工藝，在鍍完反射層銀之后，會在銀層之上鍍一層銅層，起到保護銀層及增強銀與油漆附著力的作用。由于銅是重金屬元素，在銀鏡的生產(chǎn)和使用過程中銅的廢棄物會對環(huán)境產(chǎn)生一定的污染。在該結(jié)構(gòu)中，采用了真空鍍鋁或銅的方法制備了反射補償金屬過渡層，在降低銀消耗降低成本的同時，消除了傳統(tǒng)鍍銀制鏡過程中的化學(xué)鍍銅造成的環(huán)境污染。附圖說明圖I是本技術(shù)的太陽能反射鏡結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1 :玻璃；2、光學(xué)過渡層；3、金屬反射層；4、反射補償金屬過渡層；5、保護層。具體實施方式以下結(jié)合附圖對本技術(shù)的原理和特征進行描述，所舉實例只用于解釋本技術(shù)，并非用于限定本技術(shù)的范圍。實施例I :見圖1，一種太陽能反射鏡，包括有在玻璃基板I上設(shè)有金屬反射層3，在玻璃基板I與金屬反射層3之間設(shè)有光學(xué)過渡層2，在金屬反射層3上設(shè)有反射補償金屬過渡層4 ;在反射補償金屬過渡層4上設(shè)有保護層5。所述的Si3N4光學(xué)過渡層2的厚度為IOnm ;所述的銀反射層3的厚度為80nm ;所述的反射補償鋁過渡層4的厚度為120nm。油漆的厚度為50um。上述太陽能反射鏡的制備方法，其步驟為(I)玻璃基板等離子清洗將待鍍玻璃基板放入真空室體。預(yù)抽真空，當(dāng)室體真空度為KT4Pa后開始向真空室體通過質(zhì)量流量計精確充如惰性氣體，氮氣且將室內(nèi)壓強維持在4 5Pa ;開啟轟擊電源，在真空室體內(nèi)的一對轟擊極板間加50(T2500V電壓，電流為O. 5^3. 5Α電流，產(chǎn)生穩(wěn)定的輝光，產(chǎn)生輝光等離子流；在穩(wěn)定的輝光放電的條件下清洗30(T500s ；(2) Si3N4光學(xué)過渡層制備；將高純硅作為靶材，當(dāng)真空室體內(nèi)真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室體充入氬氣和氮氣的混合氣體為500sccm 360sccm,當(dāng)真空度達到O. 5、Pa時,啟動磁控派射電源開始磁控濺射鍍膜，電壓400V，電流50A，鍍膜3min，在玻璃基板表面形成IOnm厚的Si3N4薄膜；(3)金屬銀反射層制備將純銀作為靶材，當(dāng)真空室體內(nèi)真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室體充入氬氣，當(dāng)真空度達到O. ΓΙΡβ時，啟動磁控濺射電源開始磁控濺射鍍膜，電壓480V，電流20A，鍍膜30s，在玻璃基板表面形成80nm厚銀反射層；(4)鋁反射補償金屬過渡層制備將純鋁作為靶材，當(dāng)真空室體內(nèi)真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室體充入氬氣，當(dāng)真空度達到O. ΓΙΡβ時，啟動磁控濺射電源開始磁控濺射鍍膜，電壓480V，電流40A，鍍膜30s，在玻璃基板表面形成120nm厚金屬鋁層。(5)噴淋50um厚保護油漆。經(jīng)檢測，反射鏡在400_2500nm范圍內(nèi)的反射率為96. 8%。實施例2 :見圖1，一種太陽能反射鏡，其結(jié)構(gòu)與實施例I相同。所述的Al2O3光學(xué)過渡層2的厚度為10nm。所述的銀反射層3的厚度為80nm。所述的反射補償鋁過渡層4的厚度為120nm。保護層5為油漆。上述太陽能反射鏡的制備方法，其步驟為( I)玻璃基板等離子清洗將待鍍玻璃基板放入真空室體。預(yù)抽真空，當(dāng)室體真空度為10_4Pa后開始向真空室體通過質(zhì)量流量計精確充如惰性氣體，如氮氣或氬氣且將將室內(nèi)壓強維持在4 5Pa ;開啟轟擊電源，在真空室體內(nèi)的一對轟擊極板間加50(T2500V電壓，電流為O. 5^3. 5Α電流，產(chǎn)生穩(wěn)定的輝光，產(chǎn)生輝光等離子流；在穩(wěn)定的輝光放電的條件下清洗30(T500s ；( 2) Al2O3光學(xué)過渡層制備；將高純鋁作為靶材，當(dāng)真空室體內(nèi)真空度抽到2X 10_4Pa后，向真空室體充入氬氣和氧氣的混合氣體500sccm 360sccm,當(dāng)真空度達到O. 5、Pa時,啟動磁控派射電源開始磁 控濺射鍍膜，電壓480V，電流30A，鍍膜3min，在玻璃基板表面形成IOnm厚的Al2O3薄膜。(3)金屬銀反射層制備將純銀作為靶材，當(dāng)真空室體內(nèi)真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室體充入氬氣，當(dāng)真空度達到O. ΓΙΡβ時，啟動磁控濺射電源開始磁控濺射鍍膜，電壓480V，電流20A，鍍膜30s，在玻璃基板表面形成80nm厚銀反射層。(4)鋁反射補償過渡層制備將純鋁作為靶材，當(dāng)真空室體內(nèi)真空度抽到2X10_4Pa后，向真空室體充入氬氣，當(dāng)真空度達到O. ΓΙΡβ時，啟動磁控濺射電源開始磁控濺射鍍膜，電壓480V，電流40A，鍍膜30s，在玻璃基板表面形成120nm厚金屬鋁層。(5)噴淋50um厚保護油漆。經(jīng)檢測，反射鏡在400-2500nm范圍內(nèi)的反射率為97. 2%。實施例3 :見圖1，一種太陽能反射鏡，其結(jié)構(gòu)與實施例I相同。所述的TixOy光學(xué)過渡層2的厚度為10nm。所述的銀反射層3的厚度為80nm。所述的反射補償鋁過渡層4的厚度為120nm。保護層5為油漆。上述太陽能反射鏡的制備方法，其步驟為( I)玻璃基板等離子清洗將待鍍玻璃基板放本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
一種太陽能反射鏡，包括有在玻璃基板上設(shè)有金屬反射層，其特征在于在玻璃基板與金屬反射層之間設(shè)有光學(xué)過渡層，在金屬反射層上設(shè)有反射補償金屬過渡層；在反射補償金屬過渡層上設(shè)有保護層。

【技術(shù)特征摘要】

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：范多旺，王成龍，范多進，苗樹翻，
申請(專利權(quán))人：蘭州大成科技股份有限公司，蘭州大成真空科技有限公司，常州大成綠色鍍膜科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：