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    一種支撐導流盤和分離過濾膜柱裝置制造方法及圖紙

    技術編號:8294406 閱讀:262 留言:0更新日期:2013-02-06 18:01
    本發明專利技術公開一種支撐導流盤和分離過濾膜柱裝置,支撐導流盤為帶有中心圓孔的圓盤,該圓盤上設置有多圈阻流凸點,圓盤上還設置有一條徑向旋流狹縫,圓盤的旋流狹縫處的兩個邊,一邊向上翹延伸為上翹部,另一邊向下彎延伸為下彎部,所述上翹部與下彎部相互平行。分離過濾膜柱裝置包括該支撐導流盤和膜片,在承壓外殼內還安裝有固定支撐導流盤和膜片的內拉桿和上、下堆疊板,所述膜片的中心設置有一安裝孔,膜片上還設置有一條與旋流狹縫對齊的徑向裂口,承壓外殼外安裝有支撐并拉緊加壓上下端蓋法蘭的外拉桿。本發明專利技術與傳統膜組件相比壓力損失減少超過70%,提高產品效率,是一種抗污染又低能耗的特種裝置,特別適合于高濃度流體的經濟型處理工藝。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術屬于固液分離領域,具體涉及一種以分離膜為介質的過濾設備。
    技術介紹
    用于流體分離和過濾的膜元件具有類似的性質,屬于先前技術并有廣泛的專利。傳統的螺旋卷式膜元件雖然填充面積密度高,但是系統應用中對進水水質要求高,預處理條件繁雜。因為高濃度流體中的有機污染物、無機結垢物質及懸浮顆粒雜質會輕易的堵塞膜柱的隔網,造成系統的頻繁停機清洗,使得膜柱壽命減少,甚至無法正常運行。現有的圓盤式膜柱解決了上述膜柱抗污染問題。事實上圓盤式膜柱還存在一個特 別問題,就是用于納濾、超濾和微濾圓盤式膜柱由于流體的多次劇烈逆向流動引起大量的壓力損失,系統運行能耗大,導致其無法大力推廣應用。因此開發一種減少膜柱內的壓力損失,成為革新圓盤式膜組件的目標。因為減少膜柱內的壓力損失,即大大減少電耗成本,并可能優化電路設計。特別的是在市政污水或產品回收工藝中,濃縮液的量、投資成本和運營費用是最重要考慮因素。因此在能源密集型領域,壓力損失少的抗污染形膜組件更利于市場普及。
    技術實現思路
    鑒于此,本專利技術目的在于提供一種能夠環形導流的支撐導流盤,以及提供一種減少膜柱內的壓力損失的分離過濾膜柱裝置,所述分離過濾膜柱裝置包括所述支撐導流盤。為解決以上技術問題,本專利技術提供的技術方案是,提供一種支撐導流盤,至少一面的盤周上設置有外輪輞,該支撐導流盤為帶有中心圓孔的圓盤,該圓盤的至少一個面上設置有多圈阻流凸點,每一圈上均布有多個阻流凸點,圓盤上還設置有一條徑向旋流狹縫,圓盤的旋流狹縫處的兩個邊,一邊向上翹延伸為上翹部,另一邊向下彎延伸為下彎部,所述上翹部與下彎部相互平行。優選地,所述上翹部與圓盤的夾角為30° -60°。優選地,所述阻流凸點半橢圓體或者阻流凸點底面為橢圓、頂部為光滑弧面的凸起;靠近中心圓孔的阻流凸點的長徑與圓盤的半徑線重合,靠近圓盤邊緣的阻流凸點的短徑與圓盤的半徑線重合。進一步地,所述支撐導流盤的中心圓孔外側附近的兩面的至少一面設置有環形密封圈凹槽,所述環形密封圈凹槽與中心圓孔同圓心。進一步地,所述支撐導流盤的中心圓孔內側面均布有若干個與中心圓孔軸心線平行的導流塊。 進一步地,所述支撐導流盤的旋流狹縫處外緣部分安裝有一聯鎖銷。進一步地,所述支撐導流盤的旋流狹縫處設置有至少一個隔板,隔板的上端面、下端面均與支撐導流盤平行。本專利技術還提供了一種包括上述支撐導流盤的分離過濾膜柱裝置,該分離過濾膜柱裝置包括一個由上、下流體逆向盤,上、下端蓋法蘭密封的圓管承壓外殼,在承壓外殼內安裝有η張支撐導流盤和n-Ι張膜片疊加組成的分離過濾器,其中η > 2,且η為自然數,兩支撐導流盤之間設置疊放一張膜片;在承壓外殼內還安裝有固定支撐導流盤和膜片的內拉桿和上、下堆疊板,所述膜片的中心設置有一安裝孔,膜片上還設置有一條與旋流狹縫對齊的徑向裂口,承壓外殼外安裝有支撐并拉緊加壓上下端蓋法蘭的外拉桿。優選地,徑向裂口不與安裝孔連通。進一步地,所述膜片為圓形或正多邊形;膜片由上、下濾片層和兩濾片層之間的網狀支撐層構成,所述上、下濾片層為微濾膜,超濾膜,納濾膜或反滲透膜。兩支撐導流盤和膜片疊放時,兩支撐導流盤的隔板緊壓膜片徑向裂口的兩個邊緣。與現有技術相比,本專利技術采用了獨特新穎的支撐導流盤和膜片環形導流設計,并在支撐導流盤和膜片組間形成旋流式流體形態,與傳統膜組件相比壓力損失減少超過70%,提聞廣品效率,擴展其操作范圍。 本專利技術通過支撐導流盤面上旋流狹縫巧妙地將流體從上一層流體通道導向下一層通道,并以環形狀態在支撐導流盤和膜片間流道同心圓掃過,保證了流體在整個膜柱內勻速流動。這種設計避免了其他圓盤式膜組件的典型壓力損失問題——180°流體逆轉。流體逆轉是壓力損失的最主要和重要的原因,每張支撐導流盤都要經過2次的逆轉。本專利技術支撐導流盤和膜片的優點是半徑長的旋流狹縫,實質性改變流體在膜柱內流動狀態,讓流體零阻礙切換流道層面并掃過膜片表面,同時支撐導流盤間不存在劇烈的或180°流體逆轉,解決壓力損失的缺陷。支撐導流盤表面布滿按序排列成一定弧度的阻流凸點,引導流體在支撐導流盤表面呈弧形或同心圓流動,并造成一定的湍流作用。支撐導流盤外沿部分的聯鎖銷,用于支撐導流盤之間精確角度定位、連鎖。外拉桿的設計增強膜柱裝置抗壓強度,減輕內拉桿的負荷強度。支撐導流盤和膜片交替疊加,流體在膜片兩面流過,并在支撐導流盤旋流狹縫導流下進入下一組支撐導流盤和膜片的流道,在整個膜柱中形成旋流流體動力狀態,極大減少壓力損失,又保持高抗污染特征。因此本專利技術是一種抗污染又低能耗的特種裝置,特別適合于高濃度流體的經濟型處理工藝。附圖說明圖I是實施例I所述支撐導流盤主視示意圖。圖2是圖I中A-A剖視圖。圖3是圖I中I局部放大圖。圖4是圖3中B-B剖視圖。圖5是實施例2所述分離過濾膜柱裝置主視圖。圖6是圖5縱向剖視圖。圖7是實施例2所述膜片主視圖。圖8是圖7仰視圖。圖9是圖7中II局部放大剖視圖。圖10是支撐導流盤和膜片裝配示意圖。具體實施例方式下面結合附圖與具體實施例進行說明。實施例I :參見圖I至圖4。圖I示出了一種支撐導流盤,在該支撐導流盤I的兩面的盤周上均設置有圓環體結構的外輪輞11。支撐導流盤I的上盤面設置有圓環體結構的內輪輞14。該支撐導流盤I為一個圓盤,其中心設置有與圓盤同圓心的中心圓孔12。該圓盤的兩面均設置有六圈阻流凸點18,每一圈上均布有多個阻流凸點18。阻流凸點18半橢圓體或者阻流凸點18底面為橢圓、頂部為光滑弧面的凸起;靠近中心圓孔12的阻流凸點18的長徑與圓盤的半徑線重合,靠近圓盤邊緣的阻流凸點18的短徑與圓盤的 半徑線重合。阻流凸點18圍繞安裝孔12,同心分散。在靠近支撐導流盤I內徑位置,流體受到阻流凸點18的寬面較大阻力;而在靠近支撐導流盤I外徑位置,流體受到阻流凸點18的窄面較小的阻力。這種阻流凸點18的排列可均勻地分布流體在支撐導流盤I上的整個斷流截面的速率。在分離過濾膜柱裝置中,阻流凸點18除了控制流體導向外,還能支撐膜片2,形成膜片和支撐導流盤空間的作用。支撐導流盤I與膜片2接觸時,為了不破壞纖弱的膜表面,支撐導流盤I表面分布的阻流凸點18頂部可以設計為光滑圓形平臺,增大接觸面。除了上述以外,阻流凸點18還有打散流體介質的特征,在膜片表面形成湍流,增加透過速率和自清洗功能。圓盤上還設置有一條徑向旋流狹縫15,旋流狹縫15從支撐導流盤I中心延伸到外徑。圓盤的旋流狹縫處的兩個邊,一邊向上翹延伸為上翹部,另一邊向下彎延伸為下彎部,所述上翹部與下彎部相互平行。上翹部與圓盤的夾角最小為30°,最大為60°,也可以為30° -60°之間的任一角度。兩塊支撐導流盤I上下疊放時,上支撐導流盤的下彎部末端與下支撐導流盤的上翹部末端嚙合,同時,兩塊支撐導流板的外輪輞11相互貼合,下支撐導流盤的內輪輞14與上支撐導流盤貼合。兩支撐導流盤圍成一個空間,上支撐導流盤的下彎部和下支撐導流盤的上翹部之間形成一個坡道。流體在上支撐導流盤上環流,從旋流狹縫15進入所述空間,最后從下導流盤的旋流狹縫15流出。圖I中SI示出了流體在支撐導流盤I上環流流向示意,圖3中S2為流體通過旋流狹縫15的流向示意。為提高所述空間的密封性,支撐導流盤I的中心圓孔12外側附近的兩面均設置有環形密封圈凹槽10,用于本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種支撐導流盤,至少一面的盤周上設置有外輪輞(11),其特征在于,該支撐導流盤(1)為帶有中心圓孔(12)的圓盤,該圓盤的至少一個面上設置有多圈阻流凸點(18),每一圈上均布有多個阻流凸點(18),圓盤上還設置有一條徑向旋流狹縫(15),圓盤的旋流狹縫處的兩個邊,一邊向上翹延伸為上翹部,另一邊向下彎延伸為下彎部,所述上翹部與下彎部相互平行。

    【技術特征摘要】
    1.一種支撐導流盤,至少一面的盤周上設置有外輪輞(11 ),其特征在于,該支撐導流盤(I)為帶有中心圓孔(12)的圓盤,該圓盤的至少一個面上設置有多圈阻流凸點(18),每一圈上均布有多個阻流凸點(18),圓盤上還設置有一條徑向旋流狹縫(15),圓盤的旋流狹縫處的兩個邊,一邊向上翹延伸為上翹部,另一邊向下彎延伸為下彎部,所述上翹部與下彎部相互平行。2.根據權利要求I所述的支撐導流盤,其特征在于,所述上翹部與圓盤的夾角為30。-60。。3.根據權利要求I所述的支撐導流盤,其特征在于,所述阻流凸點(18)半橢圓體或者阻流凸點(18)底面為橢圓、頂部為光滑弧面的凸起;靠近中心圓孔(12)的阻流凸點(18)的長徑與圓盤的半徑線重合,靠近圓盤邊緣的阻流凸點(18)的短徑與圓盤的半徑線重合。4.根據權利要求I所述的支撐導流盤,其特征在于,所述支撐導流盤(I)的中心圓孔(12)外側附近的兩面的至少一面設置有環形密封圈凹槽(10),所述環形密封圈凹槽(10)與中心圓孔(12)同圓心。5.根據權利要求4所述的支撐導流盤,其特征在于,所述支撐導流盤(I)的中心圓孔(12)內側面均布有若干個與中心圓孔軸心線平行的導流塊(13)。6.根據權利要求I所述的支撐導流盤,其特征在于,所述支撐導流盤(I)的旋流狹縫(15)處外緣部分安裝有一聯鎖銷(1...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:宋岱峰韓亮許錦鵬
    申請(專利權)人:成都美富特膜科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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