儀表閥制造技術

本實用新型專利技術涉及一種儀表閥，包括用于承壓的閥體和閥蓋，及豎直貫穿閥體和閥蓋的閥桿，閥體、閥蓋和閥桿彼此間密封連接，閥體與閥蓋的密封面之間設有密封墊，所述閥體或閥蓋的密封面上設有第一凸臺，相互配合的，閥蓋或閥體的密封面上設有第一凹槽，所述第一凸臺或第一凹槽上設有密封墊容納槽，第一凸臺與第一凹槽通過密封墊密封連接。密封墊容納槽的設置使閥體與閥蓋不僅通過密封墊部分接觸，還令閥體與閥蓋直接接觸，增加了承壓面；在安裝閥體或閥蓋時，避免因密封墊壓縮強度不一造成閥蓋法蘭盤傾斜的問題，密封墊容納槽具有一定的高度，有效的控制了密封墊的壓縮強度，確保了閥芯、閥座和閥桿之間的同心度。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

儀表閥
本技術涉及用于改變通路斷面和介質流動方向的閥
，尤其涉及一種儀表閥。
技術介紹
儀表閥是一種管路附件，包括用于承壓的閥體和閥蓋，及豎直貫穿閥體和閥蓋的閥桿，閥桿的底部連接有閥芯，閥體內部設有一閥座，閥芯與閥座密封配合連接，閥體的頂部和閥蓋的底部上分別設有法蘭盤。閥體、閥蓋和閥桿彼此之間密封連接形成儀表閥的三處重要密封，其密封部位具體為啟閉件與閥座兩密封面間的接觸處、填料與閥桿和填料函的配和處、閥體與閥蓋的連接處。儀表閥的三處密封在儀表安裝時，需安裝上密封墊。在閥體與閥蓋的密封安裝時， 密封墊將閥體與閥蓋隔開，使兩者密封安裝。由于密封墊均有可壓縮性，緊固閥體和閥蓋的法蘭盤時，法蘭盤上的各螺母力度難以把握，容易造成閥蓋上的法蘭盤一邊低、一邊高的狀況，影響閥芯、閥座和閥桿的同心度，對儀表閥的使用壽命造成一定影響。同時，裝配工在裝配作業時，需要水平把握閥蓋上法蘭盤，降低了裝配的一次性成功率，增加了裝配工的裝配難度。再者，密封墊將閥體和閥蓋隔開，中間沒有任何承壓件，當用力過大時極易密封墊的破壞，影響儀表閥的使用性能。
技術實現思路
本技術所要解決的技術問題是針對現有閥體和閥蓋的安裝一次性成功率低， 安裝時極易影響閥芯、閥座和閥桿的同心度的問題，提供了一種閥芯、閥座和閥桿的同心度高、裝配成功率高的儀表閥。為解決上述問題，本技術的技術方案是一種儀表閥，包括用于承壓的閥體和閥蓋，及豎直貫穿閥體和閥蓋的閥桿，閥體的頂部和閥蓋的底部上分別設有法蘭盤，閥體、閥蓋和閥桿彼此間密封連接，閥體與閥蓋的密封面之間設有密封墊，所述閥體或閥蓋的密封面上設有第一凸臺，相互配合的，閥蓋或閥體的密封面上設有第一凹槽，所述第一凸臺或第一凹槽上設有密封墊容納槽，第一凸臺與第一凹槽通過密封墊密封連接。相比較于現有技術，本技術的儀表閥在閥體或閥蓋上設置了用于放置密封墊的密封墊容納槽，密封墊容納槽的設置使閥體與閥蓋不僅通過密封墊部分接觸，還令閥體與閥蓋直接接觸，增加了承壓面；在安裝閥體或閥蓋時，避免因密封墊壓縮強度不一造成閥蓋法蘭盤傾斜的問題，密封墊容納槽具有一定的高度，有效的控制了密封墊的壓縮強度，避免了密封墊因承壓過大造成的損壞，確保了閥芯、閥座和閥桿之間的同心度；同時，在安裝閥體和閥蓋時，無需留意閥蓋的傾斜度，只需機械式安裝即可，既降低了安裝難度，又提高了閥體和閥蓋之間一次性安裝成功的幾率，提高了安裝效率。優選地，所述第一凸臺、第一凹槽和密封墊容納槽為圓環形，密封墊容納槽設置在第一凸臺或第一凹槽的外圈。密封墊容納槽設置在第一凸臺或第一凹槽的外圈，隔絕了密封墊與閥內介質的接觸，避免了密封墊因受介質沖刷而造成的損壞，提高了密封墊的使用壽命。優選地，所述密封墊容納槽的高度為壓縮后密封墊的高度。密封墊容納槽的高度控制了密封墊的壓縮強度，避免了密封墊因承壓過大造成的損壞。附圖說明圖I是本技術儀表閥的剖視結構示意圖。圖2是圖I中A處的放大結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖和實施例進一步詳細說明本技術，但本技術的保護范圍并不限于此。參照圖1-2，本技術儀表閥包括用于承壓的閥體I和閥蓋6，及豎直貫穿閥體 I和閥蓋6中部的閥桿4，閥體I、閥蓋6和閥桿4彼此間密封連接。閥體I的頂部和閥蓋6 的底部上分別設有法蘭盤8和法蘭盤7，法蘭盤8和法蘭盤7上設有用于安裝螺栓和螺母的安裝孔，閥體I與閥蓋6的密封面之間設有密封墊5，閥蓋6、密封墊5和閥體I通過螺栓和螺母緊固密封。閥桿4的底部連接有閥芯3，閥芯3與閥體I內部設置的閥座2密封配合連接，閥芯3與閥座2之間設有密封墊。所述閥蓋6的密封面向底部方向上設有第一凸臺6. 1，為相互配合密封連接的，閥體I的密封面向頂部方向上設有第一凹槽I. 1，所述第一凸臺6. I上設有密封墊容納槽9， 第一凸臺6. I與第一凹槽I. I通過密封墊5密封連接。第一凸臺6. I即閥蓋6的密封面向底部的突起，在第一凸臺6. I上增設密封墊容納槽9后，第一凸臺6. I上形成又一凸臺，凸臺與第一凸臺6. I錯開的空間即為密封墊容納槽9。其中，第一凸臺6. I、第一凹槽I. I和密封墊容納槽9為圓環形，密封墊容納槽9設置在第一凸臺6. I的外圈，隔絕了密封墊5與閥內介質的接觸，避免了密封墊5因受介質沖刷而造成的損壞。所述密封墊容納槽9的高度為壓縮后密封墊5的高度，密封墊5的壓縮高度是密封墊5的最佳壓縮高度，在此高度下，即能保證密封墊5的密封效果，又因密封墊容納槽9 的高度限制，使其避免被壓縮過量而破壞。密封墊容納槽9的圓環厚度與密封墊5的圓環厚度相同，圓環厚度即外圓與內圓的半徑差，用以保證密封強度。本技術的變形還可以為在閥蓋6的密封面上設第一凸臺6. 1，閥體I的密封面上設第一凹槽I. 1，在第一凹槽I. I上設置密封墊容納槽，密封墊容納槽設置在第一凹槽 1.1的外圈。密封墊容納槽的圓環厚度和高度與上述設置相同，也可達到本技術的技術效果。作為另一種變形，在閥蓋6上設置第一凹槽,在閥體I上第一凸臺，同時可在第一凹槽或第一凸臺上設置密封墊容納槽，也可本技術的技術效果。具體技術方案參照上述描述，在此不再贅述。權利要求1.一種儀表閥，包括用于承壓的閥體和閥蓋，及豎直貫穿閥體和閥蓋的閥桿，閥體的頂部和閥蓋的底部上分別設有法蘭盤，閥體、閥蓋和閥桿彼此間密封連接，閥體與閥蓋的密封面之間設有密封墊，其特征在于，所述閥體或閥蓋的密封面上設有第一凸臺，相互配合的， 閥蓋或閥體的密封面上設有第一凹槽，所述第一凸臺或第一凹槽上設有密封墊容納槽，第一凸臺與第一凹槽通過密封墊密封連接。2.根據權利要求I所述的儀表閥，其特征在于，所述第一凸臺、第一凹槽和密封墊容納槽為圓環形，密封墊容納槽設置在第一凸臺或第一凹槽的外圈。3.根據權利要求I所述的儀表閥，其特征在于，所述密封墊容納槽的高度為壓縮后密封墊的高度。專利摘要本技術涉及一種儀表閥，包括用于承壓的閥體和閥蓋，及豎直貫穿閥體和閥蓋的閥桿，閥體、閥蓋和閥桿彼此間密封連接，閥體與閥蓋的密封面之間設有密封墊，所述閥體或閥蓋的密封面上設有第一凸臺，相互配合的，閥蓋或閥體的密封面上設有第一凹槽，所述第一凸臺或第一凹槽上設有密封墊容納槽，第一凸臺與第一凹槽通過密封墊密封連接。密封墊容納槽的設置使閥體與閥蓋不僅通過密封墊部分接觸，還令閥體與閥蓋直接接觸，增加了承壓面；在安裝閥體或閥蓋時，避免因密封墊壓縮強度不一造成閥蓋法蘭盤傾斜的問題，密封墊容納槽具有一定的高度，有效的控制了密封墊的壓縮強度，確保了閥芯、閥座和閥桿之間的同心度。文檔編號F16K27/12GK202746709SQ201220417070公開日2013年2月20日 申請日期2012年8月22日 優先權日2012年8月22日專利技術者何東明, 俞建耀 申請人:杭州金山儀表閥業有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種儀表閥，包括用于承壓的閥體和閥蓋，及豎直貫穿閥體和閥蓋的閥桿，閥體的頂部和閥蓋的底部上分別設有法蘭盤，閥體、閥蓋和閥桿彼此間密封連接，閥體與閥蓋的密封面之間設有密封墊，其特征在于，所述閥體或閥蓋的密封面上設有第一凸臺，相互配合的，閥蓋或閥體的密封面上設有第一凹槽，所述第一凸臺或第一凹槽上設有密封墊容納槽，第一凸臺與第一凹槽通過密封墊密封連接。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：何東明，俞建耀，
申請(專利權)人：杭州金山儀表閥業有限公司，
類型：實用新型
國別省市：