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    一種密封圈的氣體降溫裝置制造方法及圖紙

    技術編號:8363859 閱讀:168 留言:0更新日期:2013-02-27 21:17
    本發明專利技術涉及活性石灰豎窯及管道閥的密封領域,特別是涉及一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,包括進氣管路、環形通道和氣孔,環形通道設置在密封圈緊下方的窯體外壁上,進氣管路的尾端設有多個出口與環形通道相連,環形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設有氣孔。所述出口為2~6個繞環形通道圓周徑向均勻分布。所述出口優選為4個。所述氣孔直徑為0.1~0.2mm。與現有技術相比,本發明專利技術的有益效果是:1)保證料鐘和密封面的密封圈在高溫環境范圍內長時間工作,防止密封圈漏氣漏灰現象發生。2)降溫效果可實現計算機智能控制,利于生產調節。3)冷卻效果顯著,可使密封圈用于更高溫度的窯膛內,增加密封圈的使用范圍。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及活性石灰豎窯及管道閥的密封領域,特別是涉及一種密封圈的氣體降溫裝置
    技術介紹
    目前,活性石灰豎窯的密封處一般不設降溫裝置,使密封結構適用的窯型受限,在密封性、耐用性和可靠性上均有不足之處,而保證加料裝置可靠使用的關鍵是窯頂料鐘密封結構的長期使用性和可靠性,見附圖1,為其密封結構的剖視圖,窯蓋(I)與窯體(2)之間通過密封圈(3)密封,窯頂密封靠自然環境降溫,密封圈(3)易受窯膛內高溫氣體影響,弓丨起橡膠密封圈老化加速,導致料鐘密封壽命短,密封效果難以保持,密封效果易受高溫氣體 和粉塵影響。近幾年,隨著活性石灰豎窯的大型化、系列化、多樣化的發展,豎窯的設計能力不斷的增大,需要一種綜合性能合理的窯頂密封降溫裝置,滿足豎窯多樣化,大型化發展的需要,滿足國內石灰行業的需要。
    技術實現思路
    本專利技術的目的是提供一種密封圈的氣體降溫裝置,克服現有技術的不足,將低溫氣體引到高溫氣體環境下的密封圈周圍,對密封圈進行降溫,延長高溫環境下橡膠密封圈的使用壽命。為實現上述目的,本專利技術是通過以下技術方案實現的一種密封圈的氣體降溫裝置,包括進氣管路、環形通道和氣孔,環形通道設置在密封圈緊下方的窯體外壁上,進氣管路的尾端設有多個出口與環形通道相連,環形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設有氣孔。所述出口為2 6個繞環形通道圓周徑向均勻分布。所述出口優選為4個。所述氣孔直徑為O. I O. 2mm。與現有技術相比,本專利技術的有益效果是I)保證料鐘和密封面的密封圈在高溫環境范圍內長時間工作,防止密封圈漏氣漏灰現象發生,密封圈使用壽命大大延長。2)降溫效果可實現計算機智能控制,利于生產調節。3)冷卻效果顯著,可使窯頂密封圈用于更高溫度的窯膛內,增加密封圈的使用范圍。附圖說明圖I是現有技術中窯頂密封結構示意圖;圖2是本專利技術實施狀態結構示意圖3是圖2中沿A-A線剖視圖。圖中1_窯蓋2-窯體3-密封圈4-進氣管路5-環形通道6_氣孔7_出口 8-管道托架 9-法蘭 10-螺栓具體實施例方式下面結合附圖對本專利技術的具體實施方式作進一步說明見圖2和圖3,是本專利技術一種密封圈的氣體降溫裝置實施狀態結構示意圖,包括進氣管路4、環形通道5和氣孔6,環形通道5設置在密封圈3緊下方的窯體2外壁上,進氣管路4的尾端設有多個出口 7與環形通道5相連,環形通道5的頂部朝向密封圈3方向均勻設有氣孔6。氣孔6直徑為O. I O. 2mm,優選值O. 15mm。出口 7為2 6個繞環形通道5圓周徑向均勻分布。實施例中,出口 7優選為4 個。為了使進氣管路4方便固定安裝,在環形通道5外側設有法蘭9,管道托架8與法蘭9通過螺栓10相連。密封圈冷卻時,低溫氣體由進氣管路4 一端進氣,經出口 7、環形通道5和氣孔6噴出,對密封圈3進行冷卻;進氣管路4的進氣量受計算機控制,根據需要對密封圈3進行環形冷卻降溫,保證窯膛加料過程的密封長期可靠。采用氣體主動降溫方式,可防止密封裝置由于長期受熱而發生失效現象。降溫裝置可以與計算機配合,根據生產工藝需要實現智能控制,確保密封裝置的使用壽命和密封效果。降溫裝置可通過控制氣壓防止粉塵進入氣路系統。權利要求1.一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,包括進氣管路、環形通道和氣孔,環形通道設置在密封圈緊下方的窯體外壁上,進氣管路的尾端設有多個出口與環形通道相連,環形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設有氣孔。2.根據權利要求I所述的一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,所述出口為2 6個繞環形通道圓周徑向均勻分布。3.根據權利要求I或2所述的一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,所述出口優選為4個。4.根據權利要求I所述的一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,所述氣孔直徑為O.I O. 2mm。全文摘要本專利技術涉及活性石灰豎窯及管道閥的密封領域,特別是涉及一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,包括進氣管路、環形通道和氣孔,環形通道設置在密封圈緊下方的窯體外壁上,進氣管路的尾端設有多個出口與環形通道相連,環形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設有氣孔。所述出口為2~6個繞環形通道圓周徑向均勻分布。所述出口優選為4個。所述氣孔直徑為0.1~0.2mm。與現有技術相比,本專利技術的有益效果是1)保證料鐘和密封面的密封圈在高溫環境范圍內長時間工作,防止密封圈漏氣漏灰現象發生。2)降溫效果可實現計算機智能控制,利于生產調節。3)冷卻效果顯著,可使密封圈用于更高溫度的窯膛內,增加密封圈的使用范圍。文檔編號C04B2/12GK102942313SQ20121049189公開日2013年2月27日 申請日期2012年11月28日 優先權日2012年11月28日專利技術者夏敬山, 羅浩, 關世文, 白城, 楊耕桃 申請人:中冶焦耐工程技術有限公司本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種密封圈的氣體降溫裝置,其特征在于,包括進氣管路、環形通道和氣孔,環形通道設置在密封圈緊下方的窯體外壁上,進氣管路的尾端設有多個出口與環形通道相連,環形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設有氣孔。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:夏敬山羅浩關世文白城楊耕桃
    申請(專利權)人:中冶焦耐工程技術有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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