硬涂薄膜制造技術

本發明專利技術提供一種硬涂薄膜，其層結構簡單且鉛筆硬度高(3H以上)，且具有加工適應性，并且透射清晰度優異，適合作為各種顯示器裝置、觸摸面板等電子設備的部件。在透明基材薄膜的一個面上具有厚度7～14μm的硬涂層，該硬涂層通過使包含3～6官能單體和有機修飾硅石顆粒的硬涂層形成材料固化而成，該硬涂層形成材料中，在固形物中作為無機成分的有機修飾硅石顆粒所占比例為35～65質量％，其中，(1)前述硬涂層表面依照JIS?B?0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂層側的相反側的面依照JIS?B?0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度為450以上，其依照JIS?K?7374：2007測定，以針對5種狹縫的基于透射法的像清晰度的合計值表示。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及硬涂薄膜，更具體涉及鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、并且透射像清晰度優異、適合作為各種顯示器裝置、觸摸面板等電子設備的部件的硬涂薄膜。
技術介紹
硬涂薄膜主要用于顯示器表面，但是近年越來越廣泛用于觸摸面板等移動設備。觸摸面板用的顯示器要求與一般的顯示器不同的要求性能。特別是，由于時常攜帶并且接觸于硬涂表面而操作，因此強烈期望提高表面硬度。提高表面硬度的技術正在比以前更多地被研究。例如在專利文獻1、2的技術中，在硬涂層的底層設置緩沖層或低硬度的硬涂層而實現高的鉛筆硬度。但是，由于該技術中為多層結構，因此干涉條紋等外觀缺點的產生、制造成本的提高令人擔憂。另外，雖然僅通過使硬涂層變厚也可獲得高的鉛筆硬度，但是在此情況下產生彎曲性降低、裁剪加工適應性和/或沖壓加工適應性降低的問題?！がF有技術文獻專利文獻專利文獻I :日本特開平11-300873號公報專利文獻2 :日本特開2007-219013號公報
技術實現思路
專利技術要解決的課題本專利技術在這樣的狀況下被開發，其目的在于提供一種硬涂薄膜，其層結構簡單且鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、并且透射像清晰度優異、適合作為各種顯示器裝置、觸摸面板等電子設備的部件。用于解決問題的方案本專利技術人等為了實現前述目的而反復進行了深入研究，結果獲得了下述的見解。硬涂薄膜的鉛筆硬度依照JIS K5600-5-4根據鉛筆刮擦硬度試驗機而測定。在此情況下，在玻璃等的硬質材料面上，將硬涂薄膜按照其基材側相接的方式載置，一邊對鉛筆刮擦部件施加規定的載荷，一邊使該部件成為傾斜45度，以Imm/秒左右的速度進行刮擦硬涂層面的操作。此時有下述發現，硬質材料面與硬涂薄膜的基材面密接并且該薄膜沒有撓曲時，前述刮擦部件的載荷施加于硬涂層兩面上，鉛筆硬度降低，另一方面，硬涂薄膜不密接于硬質材料面而具有撓曲時，則鉛筆硬度提高。本專利技術人等基于前述見解而進一步推進了研究，結果有下述發現，在透明基材薄膜的一個面上，使特定的組成的硬涂層形成材料固化，形成表面的算術平均粗糙度Ra為O. 008 μ m以下的具有規定的厚度的硬涂層，并且將透明基材薄膜的該硬涂層側的相反側的表面的算術平均粗糙度Ra設定為特定的范圍，從而可獲得具有高的透射像清晰度、且鉛筆硬度為3H以上的硬涂薄膜。本專利技術基于這些見解而完成。S卩，本專利技術提供如下專利技術 一種硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一個面上具有厚度7 14μπι的硬涂層，該硬涂層通過使包含3 6官能單體和有機修飾硅石顆粒的硬涂層形成材料固化而成，該硬涂層形成材料中，在固形物中作為無機成分的有機修飾硅石顆粒所占比例為35 65質量％，其中，(I)前述硬涂層表面依照JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為O. 008 μπι以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂層側的相反側的面依照JIS B0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為O. 01 O. 05 μ m, (3)透射像清晰度為450以上，其依照JIS K 7374 2007測定，以針對狹縫寬度為O. 125mm,0. 25mm,0. 5mm、Imm和2_的5種狹縫的基于透射法的像清晰度的合計值表示；根據上述項所述的硬涂薄膜，其中，3 6官能單體為(甲基)丙烯酸酯類單體； 根據上述或項所述的硬涂薄膜，其中，依照JIS K7136測定的霧度值為2%以下；根據上述 項中任一項所述的硬涂薄膜，其用作觸摸面板用部件；以及根據上述項所述的硬涂薄膜，其中，觸摸面板為電阻膜式觸摸面板。專利技術的效果根據本專利技術可提供一種硬涂薄膜，其層結構簡單且鉛筆硬度高(3H以上)、且具有加工適應性、并且透射像清晰度優異、適合作為各種顯示器裝置、觸摸面板等電子設備的部件。具體實施例方式本專利技術的硬涂薄膜的特征在于，在透明基材薄膜的一個面上具有厚度7 14μπι的硬涂層，該硬涂層通過使包含3 6官能單體和有機修飾硅石顆粒的硬涂層形成材料固化而成，該硬涂層形成材料中，在固形物中作為無機成分的有機修飾硅石顆粒所占比例為35 65質量％，其中，硬涂層表面依照JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為O. 008 μπι以下，前述硬涂層側的相反側的面依照JIS B 0601-1994測定的算術平均粗糙度Ra為O. 01 O. 05 μ m，透射像清晰度為450以上，其依照JIS K 7374 :2007測定，以針對5種狹縫(狹縫寬度0. 125mm、0. 25mm、0.和2mm)的基于透射法的像清晰度的合計值表示。本專利技術的硬涂薄膜中使用的透明基材薄膜沒有特別限制，可從以往作為光學用硬涂薄膜的基材而公知的塑料薄膜之中適當選擇而使用。作為這樣的塑料薄膜，例如可列舉出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯薄膜，聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、賽璐玢、二乙酰纖維素薄膜、三乙酰纖維素薄膜、醋酸丁酸纖維素薄膜、聚氯乙烯薄膜、聚偏二氯乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜、聚苯乙烯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚砜薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚醚砜薄膜、聚醚酰亞胺薄膜、聚酰亞胺薄膜、氟樹脂薄膜、聚酰胺薄膜、丙烯酸類樹脂薄膜、降冰片烯類樹脂薄膜、環烯烴樹脂薄膜等塑料薄膜。這些塑料薄膜可以著色，也可沒有著色，根據用途來適當選擇即可。例如用作液晶顯示體的保護用途的情況下，優選無色透明的薄膜。這些塑料薄膜的厚度沒有特別限制，可根據情況適當選定，通常為15 300 μ m的范圍，優選為30 200 μ m的范圍。另外，關于該塑料薄膜，出于提高其與設置于其表面的層的密接性的目的，可根據希望通過氧化法、凹凸化法等對一面或兩面實施表面處理。作為上述氧化法，例如列舉出電暈放電處理、等離子體處理、鉻酸處理(濕式)、熱風處理、臭氧 紫外線照射處理等，另外，作為凹凸化法，例如列舉出噴砂法、溶劑處理法等。這些表面處理法可根據塑料薄膜的種類來適當選擇，一般從效果以及操作性等的方面考慮優選使用電暈放電處理法。另外，也可在硬涂層形成面上設置底漆層。 本專利技術的硬涂薄膜中，在前述的透明基材薄膜的一個面上設置有使硬涂層形成材料固化而成的硬涂層。該硬涂層形成材料包含3 6官能單體和有機修飾硅石顆粒作為必需成分。(3 6官能單體)在本專利技術中，3 6官能單體是指在分子內具有3 6個烯屬不飽和基團，通過照射活性能量射線而交聯、固化的單體化合物，優選使用(甲基)丙烯酸酯類單體。又,活性能量射線是指電磁波或帶電粒子線之中具有能量量子(energy quantum)的射線，即，是指紫外線或電子射線等。另外，(甲基)丙烯酸酯類單體是指丙烯酸酯類單體以及甲基丙烯酸酯類單體這兩者。以下，類似用語也同樣。作為3 6官能(甲基)丙烯酸酯類單體，例如列舉出三(2-丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、三(3-丙烯酰氧基丙基)異氰脲酸酯、三(2-甲基丙烯酰氧基乙基)異氰脲酸酯、三(3-甲基丙烯酰氧基丙基)異氰脲酸酯等三異氰脲酸酯，以及三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、環氧丙烷改性三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種硬涂薄膜，其特征在于，在透明基材薄膜的一個面上具有厚度7～14μm的硬涂層，該硬涂層通過使包含3～6官能單體和有機修飾硅石顆粒的硬涂層形成材料固化而成，該硬涂層形成材料中，在固形物中作為無機成分的有機修飾硅石顆粒所占比例為35～65質量％，其中，(1)前述硬涂層表面依照JIS?B?0601?1994測定的算術平均粗糙度Ra為0.008μm以下，(2)前述透明基材薄膜的硬涂層側的相反側的面依照JIS?B?0601?1994測定的算術平均粗糙度Ra為0.01～0.05μm，(3)透射像清晰度為450以上，其依照JISK?7374：2007測定，以針對狹縫寬度為0.125mm、0.25mm、0.5mm、1mm和2mm的5種狹縫的基于透射法的像清晰度的合計值表示。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：本鄉有記，江嶋由多加，那須健司，
申請(專利權)人：琳得科株式會社，
類型：發明
國別省市：