一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，包括用于存放和切除肝臟的切肝臺⑴、儲液罐⑵和Y形管⑶，所述Y形管⑶一端包括位于切肝臺⑴內的肝動脈灌注管⑷和門靜脈灌注管⑸，所述Y形管⑶另一端和儲液罐⑵相連通；所述Y形管⑶上還設置有恒流泵⑹。其優點是：利用本發明專利技術裝置進行機器連續低溫灌注，既能供給肝臟在低溫下代謝所需的基本營養，又能清除其代謝所產生廢物，并可以隨時往灌注液中加入各種所需的藥物，能糾正單純靜態低溫灌注法所帶來的不良因素，可以明顯改善殘肝的功能，從而延長保存時間。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及醫療器械
，具體的說是一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置。
技術介紹
自體肝移植(Auto liver transplantation, ALT)技術是目前肝臟外科最尖端、難度系數最大的一種外科技術，它是在肝臟發生常規方法難以切除的占位性病變時，將肝臟半離體或全部移出體外，在低溫灌注條件下切除占位性病灶，然后修整保留肝臟再植入體內的一種外科技術。它是復雜肝切除技術、器官低溫灌注保存技術、體外靜脈轉流技術、肝移植血管吻合技術的結合。與尸體肝移植相比，自體肝移植術后不需免疫抑制劑治療，降低了治療費用，并減少惡性腫瘤復發轉移機會，進一步提高了病人生活質量，具有重要的社會和經濟效益。術后發生殘肝功能紊亂和肝功能衰竭都與術中靜態低溫灌注后的再灌注損傷相關，也是限制這種手術普及發展的瓶頸，如何防治術后嚴重缺血再灌注損傷已成為自體肝移植的目前研究的重要課題。傳統的靜態低溫灌注法是目前自體肝移植術中灌注的主要方法，但由于肝細胞內氧自由基過量產生及鈣離子超載等一系列原因，會造成離體肝臟低溫保存-再灌注過程中肝功能恢復延遲，甚至肝臟功能急性衰竭。國內目前尚且未見專用的自體肝移植術中離體連續灌注裝置。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，該裝置專用于離體肝臟灌注保存，使用方便，結構簡單，能夠延長保存時間。本專利技術用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，包括用于存放和切除肝臟的切肝臺1、儲液罐2和Y形管3，所述Y形管3—端包括位于切肝臺I內的肝動脈灌注管4和門靜脈灌注管5，所述Y形管3另一端和儲液罐2相連通；所述Y形管3上還設置有恒流泵6。所述的肝動脈灌注管4、門靜脈灌注管5上分別設有單向輸液閥7。所述的Y形管3上設置有壓力及阻力感應器8，所述的壓力及阻力感應器與設置在儲液罐2內的控制芯片相連。所述的儲液罐2上還設置有溫度感應器，所述的溫度感應器與設置在儲液罐內的控制芯片相連。本專利技術用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置的優點是利用本專利技術裝置進行機器連續低溫灌注，既能供給肝臟在低溫下代謝所需的基本營養，又能清除其代謝所產生廢物，并可以隨時往灌注液中加入各種所需的藥物，能糾正單純靜態低溫灌注法所帶來的不 良因素，可以明顯改善殘肝的功能，從而延長保存時間。附圖說明圖1為用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置的結構示意圖。其中1為切肝臺，2為儲液罐，3為Y形管，4為肝動脈灌注管，5為門靜脈灌注管，6為恒流泵，7為單向輸液閥，8為壓力及阻力感應器。具體實施例方式下面結合附圖，對本專利技術進行進一步說明如圖1所示，一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，包括用于存放和切除肝臟的切肝臺1、儲液罐2和Y形管3，所述Y形管3—端包括位于切肝臺I內的肝動脈灌注管4和門靜脈灌注管5，所述Y形管3另一端和儲液罐2相連通；所述Y形管3上還設置有恒流泵6。切肝臺I和儲液罐2內灌注有低溫肝臟保存液(如HTK液)。通過動脈灌注管4、門靜脈灌注管5分別與腹腔干、門靜脈相連并通過恒流泵6進行灌注，恒流泵6對儲液罐2持續供壓，保證儲液罐2內的灌注液持續流動。 所述的Y形管3上設置有壓力及阻力感應器8，所述的壓力及阻力感應器8與設置在儲液罐內的控制芯片相連，可在灌注壓力異常、阻力異常時提供報警，及時發現存在的問題。所述的儲液罐2上設置有溫度感應器，所述的溫度感應器與設置在儲液罐內的控制芯片相連，可在溫度超過4°C時提供報警，達到最理想的保存效果。作為優選，所述的肝動脈灌注管4、門靜脈灌注管5上分別設有單向輸液閥7。單向輸液閥7可確保對肝動脈和門靜脈進行單向灌注，輸入的灌注液進入肝臟后從肝后下腔靜脈輸出。所述控制芯片為現有技術中常用的，可感應溫度、壓力和阻力，并能在超出臨界值時報警的控制芯片。權利要求1.一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，包括用于存放和切除肝臟的切肝臺⑴和儲液罐⑵，其特征在于還包括Y形管⑶，所述Y形管⑶一端包括位于切肝臺⑴內的肝動脈灌注管⑷和門靜脈灌注管(5)，所述Y形管⑶另一端和儲液罐⑵相連通；所述Y形管⑶上還設置有恒流泵(6)。2.如權利要求1所述的用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，其特征在于所述的肝動脈灌注管⑷、門靜脈灌注管(5)上分別設有單向輸液閥(7)。3.如權利要求1或2所述的用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，其特征在于所述的Y形管⑶上設置有壓力及阻力感應器⑶，所述的壓力及阻力感應器⑶與設置在儲液罐⑵內的控制芯片相連。4.如權利要求1或2所述的用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，其特征在于所述的儲液罐⑵上還設置有溫度感應器，所述的溫度感應器與設置在儲液罐內的控制芯片相連。全文摘要一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，包括用于存放和切除肝臟的切肝臺⑴、儲液罐⑵和Y形管⑶，所述Y形管⑶一端包括位于切肝臺⑴內的肝動脈灌注管⑷和門靜脈灌注管⑸，所述Y形管⑶另一端和儲液罐⑵相連通；所述Y形管⑶上還設置有恒流泵⑹。其優點是利用本專利技術裝置進行機器連續低溫灌注，既能供給肝臟在低溫下代謝所需的基本營養，又能清除其代謝所產生廢物，并可以隨時往灌注液中加入各種所需的藥物，能糾正單純靜態低溫灌注法所帶來的不良因素，可以明顯改善殘肝的功能，從而延長保存時間。文檔編號A01N1/02GK102986649SQ201210550808公開日2013年3月27日 申請日期2012年12月18日 優先權日2012年12月18日專利技術者葉啟發, 喬兵兵, 彭貴主, 元文勇, 孫培龍 申請人:武漢大學本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種用于自體肝移植術的離體連續灌注裝置，包括用于存放和切除肝臟的切肝臺⑴和儲液罐⑵，其特征在于：還包括Y形管⑶，所述Y形管⑶一端包括位于切肝臺⑴內的肝動脈灌注管⑷和門靜脈灌注管⑸，所述Y形管⑶另一端和儲液罐⑵相連通；所述Y形管⑶上還設置有恒流泵⑹。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：葉啟發，喬兵兵，彭貴主，元文勇，孫培龍，
申請(專利權)人：武漢大學，
類型：發明
國別省市：
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