一種鏡片，其包括光學部和環(huán)繞該光學部的非光學部。該光學部用于允許光線穿透以實現(xiàn)光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面。該第一表面的曲率大于零，且該第一表面沉積有抗反射膜。該抗反射膜在400nm-850nm的波長范圍內(nèi)的反射率小于2%。該光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%。通過采用上述抗反射膜，該鏡片光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%，從而減少具有該鏡片的鏡頭模組的眩光，進而提升鏡頭模組的成像品質(zhì)。此外，本發(fā)明專利技術還涉及一種具有上述鏡片的鏡頭模組。
【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及一種鏡片及鏡頭模組，尤其涉及一種具有抗反射膜的鏡片及具有具有該鏡片的鏡頭模組。
技術介紹
為了減少眩光的產(chǎn)生，一般會在鏡片表面沉積抗反射膜。現(xiàn)有的一種抗反射膜的反射光譜曲線如圖6所示。鏡片光學部的表面一般為曲面，例如球面或者非球面。當抗反射膜沉積在表面為曲面的鏡片時，鏡片光學部的中心區(qū)域和邊緣區(qū)域的反射光譜曲線常常會不一樣，一般邊緣區(qū)域的反射光譜曲線會向短波偏移，如圖7所示。圖7中，實線代表中心區(qū)域的反射光譜曲線，虛線代表邊緣區(qū)域的反射光譜曲線。從圖7可以看出，邊緣區(qū)域?qū)τ诓ㄩL大于450nm的光線的反射率大于5%。這樣會導致鏡片的抗反射效果變差，從而會在鏡頭內(nèi)部產(chǎn)生較嚴重眩光，進而影響鏡頭的成像品質(zhì)。
技術實現(xiàn)思路
有鑒于此，有必要提供一種抗反射效果較好的鏡片及鏡頭模組。一種鏡片，其包括光學部和環(huán)繞該光學部的非光學部。該光學部用于允許光線穿透以實現(xiàn)光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面。該第一表面的曲率大于零，且該第一表面沉積有抗反射膜。該抗反射膜在400nm-850nm的波長范圍內(nèi)的反射率小于2%。該光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%。一種鏡頭模組，其包括鏡筒及上述的鏡片，該鏡片收容在該鏡筒內(nèi)。通過米用上述抗反射膜,該鏡片光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%，從而減少具有該鏡片的鏡頭模組的眩光，進而提升鏡頭模組的成像品質(zhì)。附圖說明圖1是本專利技術第一實施方式的鏡片的剖面示意圖。圖2是圖1的抗反射膜的反射光譜曲線。圖3是圖1的鏡片的反射光譜曲線。圖4是本專利技術第二實施方式的鏡頭模組的剖面示意圖。圖5是第三實施方式的抗反射膜的反射光譜曲線。圖6是現(xiàn)有的一種抗反射膜的反射光譜曲線。圖7是現(xiàn)有的一種鏡片的反射光譜曲線。主要元件符號說明鏡片10光學部12非光學部14抗反射膜1權利要求1.一種鏡片，該鏡片包括光學部和環(huán)繞該光學部的非光學部,該光學部用于允許光線穿透以實現(xiàn)光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面，該第一表面的曲率大于零，且該第一表面沉積有抗反射膜，其特征在于，該抗反射膜在400nm-850nm的波長范圍內(nèi)的反射率小于2%，該光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%。2.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜在400nm-1000nm的波長范圍內(nèi)的反射率小于2%。3.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜由高折射率材料的薄膜和低折射率材料的薄膜交替疊加而成。4.如權利要求3所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜包括依次沉積在該第一表面的第一至第八薄膜，所述第一至第八薄膜分別為以二氧化鈦為材料的膜厚為8. 84nm的第一薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為46. 07nm的第二薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為 27. 57nm的第三薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為20. 39nm的第四薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為75. 34nm的第五薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為13. 68nm的第六薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為29. 06nm的第七薄膜以及以二氧化硅為材料的膜厚為100. 33nm的第八薄膜。5.如權利要求3所述的鏡片，其特征在于，該抗反射膜包括依次沉積在該第一表面的第一至第八薄膜，所述第一至第八薄膜分別為以二氧化鈦為材料的膜厚為13. SOnm的第一薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為43. 70nm的第二薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為 37. 65nm的第三薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為15. 97nm的第四薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為90. 79nm的第五薄膜、以二氧化硅為材料的膜厚為18. 8Inm的第六薄膜、以二氧化鈦為材料的膜厚為30. 13nm的第七薄膜以及以二氧化硅為材料的膜厚為109. 95nm的第八薄膜。6.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該第一表面為非球面。7.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該第二表面進一步沉積有該抗反射膜。8.如權利要求1所述的鏡片，其特征在于，該非光學部包括相對的第三表面和第四表面，該第三表面與該第一表面相連接，該第四表面與該第二表面相連接，該第三表面進一步沉積有該抗反射膜。9.如權利要求8所述的鏡片，其特征在于，該第二表面和該第四表面進一步沉積有該抗反射膜。10.一種鏡頭模組，其包括鏡筒及權利要求1-9任一項所述的鏡片，該鏡片收容在該鏡筒內(nèi)。全文摘要一種鏡片，其包括光學部和環(huán)繞該光學部的非光學部。該光學部用于允許光線穿透以實現(xiàn)光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面。該第一表面的曲率大于零，且該第一表面沉積有抗反射膜。該抗反射膜在400nm-850nm的波長范圍內(nèi)的反射率小于2%。該光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%。通過采用上述抗反射膜，該鏡片光學部在420nm-650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%，從而減少具有該鏡片的鏡頭模組的眩光，進而提升鏡頭模組的成像品質(zhì)。此外，本專利技術還涉及一種具有上述鏡片的鏡頭模組。文檔編號G02B3/02GK102998724SQ201110268969公開日2013年3月27日 申請日期2011年9月13日 優(yōu)先權日2011年9月13日專利技術者林君鴻, 蔡泰生, 簡士哲 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術保護點】
一種鏡片，該鏡片包括光學部和環(huán)繞該光學部的非光學部，該光學部用于允許光線穿透以實現(xiàn)光學成像，該光學部具有相對的第一表面和第二表面，該第一表面的曲率大于零，且該第一表面沉積有抗反射膜，其特征在于，該抗反射膜在400nm?850nm的波長范圍內(nèi)的反射率小于2%，該光學部在420nm?650nm的波長范圍內(nèi)反射率小于2%。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：林君鴻，蔡泰生，簡士哲，
申請(專利權)人：鴻富錦精密工業(yè)深圳有限公司，鴻海精密工業(yè)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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