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    印刷用網(wǎng)布及其制造方法技術(shù)

    技術(shù)編號(hào):8489219 閱讀:235 留言:0更新日期:2013-03-28 07:49
    一種印刷用網(wǎng)布及其制造方法,所述網(wǎng)布包括:一個(gè)由多條網(wǎng)線編織而成的網(wǎng)體、以及至少兩個(gè)感光特性不同的光阻層。所述光阻層彼此上下疊置地位于該網(wǎng)體的表面,每一光阻層包括上下間隔的一第一面與一第二面,以及一貫穿該第一面及該第二面并界定出一落料孔的孔圍面,各個(gè)光阻層的孔圍面的延伸方向不同,各個(gè)光阻層的落料孔相連通。通過每一光阻層的落料孔形態(tài)不同,每一個(gè)孔圍面的延伸方向也不同,可配合印刷需求相應(yīng)地改變?cè)O(shè)計(jì),使本發(fā)明專利技術(shù)應(yīng)用性廣,例如可以提升印刷出的電極的高寬比,或者適用于低黏滯性材料的印刷。

    【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

    本專利技術(shù)涉及一種,特別是涉及一種用于印刷太陽能電池電極的網(wǎng)版的網(wǎng)布及其制造方法。
    技術(shù)介紹
    參閱圖1,為一種現(xiàn)有的用于印刷太陽能電池電極的網(wǎng)版1,包括一本體11以及一披覆在該本體11表面的光阻層12。該本體11包括一圖未不出的外框以及一與該外框結(jié)合并由多條網(wǎng)線編織成的網(wǎng)布111。該光阻層12具有一貫穿其上、下表面并界定出一落料孔122的孔圍面121。所述光阻層12為負(fù)型光阻(negative photoresist),制作時(shí),將負(fù)型光阻材料涂布在該本體11表面,并通過曝光顯影制程而形成該落料孔122。參閱圖1、圖2,印刷電池2的電極21時(shí),先將網(wǎng)版I覆蓋在電池2表面,并將電極漿料涂布在該網(wǎng)布111的上表面,利用一圖未示出的刮刀刮動(dòng)該電極漿料,使?jié){料向下通過網(wǎng)布111的網(wǎng)目及該光阻層12的落料孔122而披覆在該電池2的表面,后續(xù)通過高溫?zé)Y(jié)即可使?jié){料硬化而形成電極21。由于上述網(wǎng)版I只具有單層的光阻層12,而且依該負(fù)型光阻材料的感光特性,會(huì)使經(jīng)由曝光顯影而形成的落料孔122呈現(xiàn)由上往下逐漸外擴(kuò)的形態(tài),該落料孔122的一個(gè)上開口 123的尺寸a小于該落料孔122的一個(gè)下開口 124的尺寸b,而且尺寸a和尺寸b的差異會(huì)隨著該光阻層12的厚度增加而變大。該落料孔122及孔圍面121的向下擴(kuò)大形態(tài)會(huì)限制電極21的印刷制程。舉例來說,一般期望印刷出的電極21的高寬比可以提升(例如圖2虛線所示),如此除能降低接觸電阻以外,還能提升電池的受光面積。但實(shí)際制作時(shí),由于該網(wǎng)版I的孔圍面121由上往下逐漸外擴(kuò),該孔圍面121對(duì)于電極漿料的摩擦阻擋效果有限,而且依據(jù)漿料的自然流動(dòng)性質(zhì),具有沿著連續(xù)表面流動(dòng)的趨勢(shì),因此漿料會(huì)順著孔圍面12的外擴(kuò)形式而往下并往外擴(kuò)大地流動(dòng),最后以較低矮且較大面積的方式披覆在電池2上,形成如圖2實(shí)線所示的電極21,該電極21形態(tài)較低且較寬,導(dǎo)致接觸電阻大且電池的受光面積減少。另一方面,若為了制作出符合需求的電極21而使用其它光阻材料,以使曝光顯影而形成的落料孔122的整體孔徑皆變小,雖然其下開口 124的尺寸可被有效縮小,但該上開口 123尺寸也會(huì)相對(duì)地變小,并且有可能因?yàn)樯祥_口 123尺寸過小而使電極漿料無法順利通過該上開口 123,影響印刷出墨性,甚至造成漿料堵塞。此外,對(duì)于低黏滯性(low-viscosity)的電極衆(zhòng)料而言,由于低黏滯性衆(zhòng)料的流動(dòng)性大,加上該網(wǎng)版I的單一斜度的下擴(kuò)式孔圍面121在寬度方向上沒有足夠的擋止作用,因此漿料落下后會(huì)持續(xù)往寬度方向擴(kuò)散,而無法往上堆高,制作出的電極21的高寬比就會(huì)過小,所以現(xiàn)有的網(wǎng)版I不適合用在低粘滯性漿料的印刷上。綜上所述,現(xiàn)有的網(wǎng)版I只具有單層的光阻層12,該光阻層12只能形成單一傾斜度而且往下逐漸外擴(kuò)的孔圍面121,該網(wǎng)版I無法配合印刷需求來改變落料孔122及孔圍面121設(shè)計(jì),使用上較受限。
    技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
    本專利技術(shù)的目的在于提供一種具有至少兩層光阻層、能配合印刷條件作設(shè)計(jì)變更、應(yīng)用性廣的。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,包括一個(gè)網(wǎng)體,以及至少兩個(gè)感光特性不同的光阻層,彼此上下疊置地位于該網(wǎng)體上,每一個(gè)光阻層包括上下間隔的一個(gè)第一面與一個(gè)第二面,以及一個(gè)貫穿該第一面及該第二面并界定出一個(gè)落料孔的孔圍面,且各個(gè)光阻層的孔圍面的延伸方向不同,各個(gè)光阻層的落料孔相連通。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,所述光阻層都是 負(fù)型光阻材料。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,包括三個(gè)感光特性不同的光阻層,每一個(gè)光阻層的孔圍面都是朝遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的方向逐漸向外延伸擴(kuò)大,而且位于中間的光阻層的孔圍面的傾斜程度最小,最遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的光阻層的孔圍面的傾斜程度最大。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,最鄰近該網(wǎng)體的光阻層的厚度為Ιμπι 5μπι,位于中間的光阻層的厚度為5 μ m 30 μ m,最遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的光阻層的厚度為I μ m 5 μ m。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,該印刷用網(wǎng)布包括兩個(gè)感光特性不同的光阻層,所述兩個(gè)光阻層中,鄰近該網(wǎng)體的光阻層的孔圍面朝遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的方向逐漸向內(nèi)延伸縮小,遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的光阻層的孔圍面朝遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的方向逐漸向外延伸擴(kuò)大。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,鄰近該網(wǎng)體的光阻層為正型光阻材料,遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的光阻層為負(fù)型光阻材料。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,所述兩個(gè)光阻層的厚度都是I μ m 50 μ m。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,每一個(gè)光阻層的孔圍面都朝遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的方向逐漸向外延伸擴(kuò)大,所述兩個(gè)光阻層中,鄰近該網(wǎng)體的光阻層的孔圍面的傾斜程度大于遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的光阻層的孔圍面的傾斜程度。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布,該網(wǎng)體結(jié)合于一個(gè)外框上。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,包括步驟A :提供一個(gè)網(wǎng)體;步驟B :在該網(wǎng)體上披覆至少兩種不同感光特性的光阻劑;步驟C :進(jìn)行曝光及顯影,使每一光阻劑硬化而分別形成一個(gè)光阻層,而且每一個(gè)光阻層形成一個(gè)界定出一個(gè)落料孔的孔圍面,且各個(gè)光阻層的孔圍面的延伸方向不同,各個(gè)光阻層的落料孔相連通。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,步驟B是披覆三種不同感光特性的光阻劑,步驟C是同時(shí)對(duì)所述三種光阻劑曝光。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,所述光阻層都是負(fù)型光阻材料。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,步驟C所形成的三個(gè)光阻層的孔圍面都朝遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的方向逐漸向外延伸擴(kuò)大,而且位于中間的光阻層的孔圍面的傾斜程度最小,最遠(yuǎn)離該網(wǎng)體的光阻層的孔圍面的傾斜程度最大。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,步驟A的網(wǎng)體預(yù)先結(jié)合于一個(gè)外框上。本專利技術(shù)還提供另一種印刷用網(wǎng)布的制造方法,包括步驟A :提供一個(gè)網(wǎng)體;步驟B:在該網(wǎng)體上披覆一種光阻劑,并進(jìn)行曝光及顯影,使該光阻劑硬化而形成一個(gè)光阻層,而且該光阻層形成一個(gè)界定出一個(gè)落料孔的孔圍面;步驟C :在該光阻層的表面披覆另一種感光特性不同的光阻劑,并進(jìn)行曝光及顯影,使步驟C的光阻劑硬化而形成另一個(gè)光阻層,步驟C形成的光阻層具有一個(gè)界定出一個(gè)落料孔的孔圍面;且步驟B及步驟C形成的所述兩個(gè)光阻層的孔圍面的延伸方向不同,所述兩個(gè)光阻層的落料孔相連通。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,步驟B形成的光阻層為正型光阻材料,步驟C形成的光阻層為負(fù)型光阻材料。本專利技術(shù)的印刷用網(wǎng)布的制造方法,步驟A的網(wǎng)體預(yù)先結(jié)合于一個(gè)外框上。本專利技術(shù)各個(gè)光阻層的感光特性不同,是指各個(gè)光阻層的材料對(duì)于光的敏感度不同,因此當(dāng)不同感光特性的材料被相同能量的光照射后,各個(gè)材料曝光顯影后所形成的孔洞大小及孔洞形狀會(huì)有不同,借此使各個(gè)光阻層的落料孔形態(tài)以及孔圍面的延伸方向有差巳本專利技術(shù)的有益效果在于通過設(shè)置至少兩個(gè)不同感光特性的光阻層,每一光阻層的落料孔形態(tài)不同,每一光阻層的孔圍面的延伸方向也不同,可配合印刷需求而改變?cè)O(shè)計(jì),使本專利技術(shù)應(yīng)用性廣,例如可以提升電極的高寬比,或者適用于低黏滯性材料的印刷。附圖說明圖1是一種現(xiàn)有網(wǎng)版的側(cè)視剖視示意圖;圖2是該網(wǎng)版用于印刷一太陽能電池的電極的示意圖;圖3是本專利技術(shù)印刷用網(wǎng)布的一第一較佳實(shí)施例與一外框結(jié)合后的俯視示意圖;圖4是該第一較佳實(shí)施例的側(cè)視剖視示意圖;圖5是該第一較佳實(shí)施例用于印刷一太陽能電池的電極的示意圖;圖6是本專利技術(shù)印刷用網(wǎng)布的制造方法的第一較佳實(shí)施例的各步驟進(jìn)行時(shí)的示意圖;圖7是一流程圖,顯示該制造方法的第一較佳實(shí)施例;圖8是本專利技術(shù)印刷用網(wǎng)布的一第二較佳實(shí)施例的側(cè)視剖視示意圖;圖9是本專利技術(shù)印刷用網(wǎng)布的制造方法的第二較佳實(shí)施例的本文檔來自技高網(wǎng)
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    【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
    一種印刷用網(wǎng)布,包括一個(gè)網(wǎng)體,其特征在于,該印刷用網(wǎng)布還包括至少兩個(gè)感光特性不同的光阻層,彼此上下疊置地位于該網(wǎng)體上,每一個(gè)光阻層包括上下間隔的一個(gè)第一面與一個(gè)第二面、以及一個(gè)貫穿該第一面及該第二面并界定出一個(gè)落料孔的孔圍面,且各個(gè)光阻層的孔圍面的延伸方向不同,各個(gè)光阻層的落料孔相連通。

    【技術(shù)特征摘要】

    【專利技術(shù)屬性】
    技術(shù)研發(fā)人員:郭盈成鄭元?dú)J杜慶豪林綱正
    申請(qǐng)(專利權(quán))人:茂迪股份有限公司
    類型:發(fā)明
    國(guó)別省市:

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