本發(fā)明專利技術(shù)是一種IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片。包括有轉(zhuǎn)子沖片（1），其中轉(zhuǎn)子沖片（1）所設(shè)的外弧（2）采用多段弧結(jié)構(gòu)，且轉(zhuǎn)子沖片（1）上布置有導(dǎo)流孔（3）和隔磁橋（4）。本發(fā)明專利技術(shù)采用在轉(zhuǎn)子沖片上布置導(dǎo)流孔和隔磁橋的方式，重布轉(zhuǎn)子鐵芯質(zhì)量分布；有效利用排布空間；引導(dǎo)轉(zhuǎn)子內(nèi)的磁密流向，改善局部飽和磁密突變，減小極間和極中飽和程度差異，使氣隙內(nèi)的磁密變化均勻過渡，反電勢(shì)諧波總含量可降至2.82%，轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)降至±4.38%，轉(zhuǎn)子鐵損僅占總損耗約10%，有效改善了電動(dòng)機(jī)在高速重載時(shí)的電磁噪音和振動(dòng)，提高了電動(dòng)機(jī)的效率。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)是一種IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，屬于IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片的改造技術(shù)。
技術(shù)介紹
傳統(tǒng)的用于IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，(I)為提高磁瓦利用率，在內(nèi)置磁瓦的頂部和底部布置隔磁橋，此種結(jié)構(gòu)限制了磁瓦可使用的內(nèi)置面積，無法有效利用空間；轉(zhuǎn)子鐵芯挖空磁瓦面積后，轉(zhuǎn)子鐵芯質(zhì)量分布不均，引起較大的動(dòng)不平衡量，加劇電機(jī)的振動(dòng)；(3)接近氣隙處的磁瓦頂部使用極小尺寸來減少漏磁，但同時(shí)出現(xiàn)局部的極度飽和，氣隙內(nèi)的磁密發(fā)生劇變，轉(zhuǎn)矩波動(dòng)高達(dá)約±20%，極大地限制了 IPM結(jié)構(gòu)的應(yīng)用范圍。因此，有必要進(jìn)一步改進(jìn)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于考慮上述問題而提供一種可有效改善電動(dòng)機(jī)在高速重載時(shí)的電磁噪音和振動(dòng)，提高電動(dòng)機(jī)的效率的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片。本專利技術(shù)設(shè)計(jì)合理，方便實(shí)用。本專利技術(shù)的技術(shù)方案是本專利技術(shù)的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，包括有轉(zhuǎn)子沖片，其中轉(zhuǎn)子沖片所設(shè)的外弧采用多段弧結(jié)構(gòu)，且轉(zhuǎn)子沖片上布置有導(dǎo)流孔和隔磁橋。上述導(dǎo)流孔布置在N、S片間的d軸上和磁瓦的兩側(cè)。上述導(dǎo)流孔的邊界與轉(zhuǎn)子外圓邊界之間的距離e取Imm 6mm。上述隔磁橋布置在磁瓦的兩側(cè)，且隔磁橋與布置在N、S片間的d軸上的導(dǎo)流孔連為一體。上述布置在N、S片間的d軸上的導(dǎo)流孔的挖空面積占轉(zhuǎn)子沖片面積的1/2以上。上述轉(zhuǎn)子沖片為一體成型，并設(shè)置有八個(gè)以上的布置在N、S片間的d軸上的導(dǎo)流孔及設(shè)置有十六個(gè)以上的布置在磁瓦兩側(cè)的導(dǎo)流孔。本專利技術(shù)由于采用在轉(zhuǎn)子沖片上布置導(dǎo)流孔的結(jié)構(gòu)，本專利技術(shù)可以引導(dǎo)轉(zhuǎn)子內(nèi)的磁密流向，改善局部飽和磁密突變，減小極間和極中飽和程度差異，使氣隙內(nèi)的磁密變化均勻過渡，反電勢(shì)諧波總含量可降至2. 82%，可降低轉(zhuǎn)矩波動(dòng)，轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)降至±4. 38%，轉(zhuǎn)子鐵損僅占總損耗約10%，有效改善了電動(dòng)機(jī)在高速重載時(shí)的電磁噪音和振動(dòng)，提高了電動(dòng)機(jī)的效率。在有效抑制IPM結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)矩波動(dòng)的前提下，擴(kuò)大了 IPM結(jié)構(gòu)的應(yīng)用場(chǎng)合，其具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單合理，設(shè)計(jì)巧妙，性能優(yōu)良，方便實(shí)用等特點(diǎn)。本專利技術(shù)是一種設(shè)計(jì)巧妙，性能優(yōu)良，方便實(shí)用的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片。附圖說明圖1為傳統(tǒng)轉(zhuǎn)子沖片的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本專利技術(shù)轉(zhuǎn)子沖片的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為圖2中A處實(shí)施例1的放大結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為圖2中A處實(shí)施例2的放大結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為傳統(tǒng)轉(zhuǎn)子沖片的反電勢(shì)與本專利技術(shù)轉(zhuǎn)子沖片的反電勢(shì)的對(duì)比圖。圖6為傳統(tǒng)轉(zhuǎn)子沖片的轉(zhuǎn)矩波動(dòng)與本專利技術(shù)轉(zhuǎn)子沖片的轉(zhuǎn)矩波動(dòng)的對(duì)比圖。具體實(shí)施方式實(shí)施例1:本專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖2、3所示，本專利技術(shù)的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，包括有 轉(zhuǎn)子沖片1，其中轉(zhuǎn)子沖片I所設(shè)的外弧2采用多段弧結(jié)構(gòu)，且轉(zhuǎn)子沖片I上布置有導(dǎo)流孔 3和隔磁橋4。導(dǎo)流孔3和隔磁橋4根據(jù)磁場(chǎng)流向布置。上述導(dǎo)流孔3布置在N、S片間的d軸6上和磁瓦7的兩側(cè)。本實(shí)施例中，上述隔 磁橋4也布置在磁瓦7的兩側(cè)。隔磁橋4布置在磁瓦兩側(cè)，可避開強(qiáng)度限制，且空出磁瓦7 的布置位置，提高轉(zhuǎn)子空間利用率，如圖3所示。上述d軸是指磁極產(chǎn)生磁通的方向，在電 角度上與d軸磁性垂直相交的軸定義為q軸。上述導(dǎo)流孔3的邊界與轉(zhuǎn)子外圓邊界8之間的距離e取Imm 6mm。旨在減小極 間和極中位置的飽和程度差異。超出范圍時(shí)，反電勢(shì)諧波含量及轉(zhuǎn)矩波動(dòng)上升較大。本實(shí)施例中，上述轉(zhuǎn)子沖片I為一體成型，并設(shè)置有八個(gè)以上的布置在N、S片間的 d軸6上的導(dǎo)流孔3及設(shè)置有十六個(gè)以上的布置在磁瓦7兩側(cè)的導(dǎo)流孔3。實(shí)施例2:本專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖如圖2、3、4所示，本專利技術(shù)的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，本實(shí) 施例與實(shí)施例1的區(qū)別是隔磁橋4與布置在N、S片間的d軸6上的導(dǎo)流孔3連為一體。布 置在磁瓦7兩側(cè)的隔磁橋4，可以避開強(qiáng)度限制，空出磁瓦7的布置位置，提高空間利用率， 另一方面，隔磁橋4與導(dǎo)流孔連為一體，便于工藝制造。上述布置在N、S片間的d軸6上的導(dǎo)流孔3的挖空面積占轉(zhuǎn)子沖片I面積的1/2 以上。此設(shè)計(jì)可在一定程度上補(bǔ)償磁瓦7挖空位引起的動(dòng)不平衡量，且減小了轉(zhuǎn)子質(zhì)量，機(jī) 構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)慣量變小，加快響應(yīng)時(shí)間。實(shí)施本專利技術(shù)后，反電勢(shì)諧波總含量可降至2. 82%，轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)降至±4. 38%，如圖5、 圖6所示。上述為本專利技術(shù)的優(yōu)選方案，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)其簡(jiǎn)單的變型或改造，均落在 本專利技術(shù)的保護(hù)范圍之內(nèi)。權(quán)利要求1.一種IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，包括有轉(zhuǎn)子沖片(1)，其特征在于轉(zhuǎn)子沖片(I)所設(shè)的外弧(2)采用多段弧結(jié)構(gòu)，且轉(zhuǎn)子沖片(I)上布置有導(dǎo)流孔(3)和隔磁橋(4)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，其特征在于上述導(dǎo)流孔(3 )布置在N、S片間的d軸(6 )上和磁瓦(7 )的兩側(cè)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，其特征在于上述導(dǎo)流孔(3)的邊界與轉(zhuǎn)子外圓邊界(8)之間的距離e取Imm 6mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，其特征在于上述隔磁橋(4 )布置在磁瓦(7 )的兩側(cè)，且隔磁橋(4 )與布置在N、S片間的d軸(6 )上的導(dǎo)流孔(3 )連為一體。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，其特征在于上述布置在N、S片間的d軸(6)上的導(dǎo)流孔(3)的挖空面積占轉(zhuǎn)子沖片(I)面積的1/2以上。6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，其特征在于上述轉(zhuǎn)子沖片(I)為一體成型，并設(shè)置有八個(gè)以上的布置在N、S片間的d軸(6)上的導(dǎo)流孔(3)及設(shè)置有十六個(gè)以上的布置在磁瓦(7)兩側(cè)的導(dǎo)流孔(3)。全文摘要本專利技術(shù)是一種IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片。包括有轉(zhuǎn)子沖片(1)，其中轉(zhuǎn)子沖片(1)所設(shè)的外弧(2)采用多段弧結(jié)構(gòu)，且轉(zhuǎn)子沖片(1)上布置有導(dǎo)流孔(3)和隔磁橋(4)。本專利技術(shù)采用在轉(zhuǎn)子沖片上布置導(dǎo)流孔和隔磁橋的方式，重布轉(zhuǎn)子鐵芯質(zhì)量分布；有效利用排布空間；引導(dǎo)轉(zhuǎn)子內(nèi)的磁密流向，改善局部飽和磁密突變，減小極間和極中飽和程度差異，使氣隙內(nèi)的磁密變化均勻過渡，反電勢(shì)諧波總含量可降至2.82%，轉(zhuǎn)矩脈動(dòng)降至±4.38%，轉(zhuǎn)子鐵損僅占總損耗約10%，有效改善了電動(dòng)機(jī)在高速重載時(shí)的電磁噪音和振動(dòng)，提高了電動(dòng)機(jī)的效率。文檔編號(hào)H02K1/22GK103001441SQ20121033607公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年9月12日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月12日專利技術(shù)者余麗梅, 李虎, 金萬(wàn)兵, 史國(guó)俊 申請(qǐng)人:佛山市威靈電子電器有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種IPM直流無刷電動(dòng)機(jī)的轉(zhuǎn)子沖片，包括有轉(zhuǎn)子沖片（1），其特征在于轉(zhuǎn)子沖片（1）所設(shè)的外弧（2）采用多段弧結(jié)構(gòu)，且轉(zhuǎn)子沖片（1）上布置有導(dǎo)流孔（3）和隔磁橋（4）。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：余麗梅，李虎，金萬(wàn)兵，史國(guó)俊，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：佛山市威靈電子電器有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：
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