【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料,特別適合于焊接銅及銅合金閥件、管接頭等對(duì)釬料外溢現(xiàn)象要求較高的場(chǎng)合。
技術(shù)介紹
銅及銅合金的閥件、管接頭等廣泛應(yīng)用于制冷、機(jī)電等行業(yè),由于這類零部件制造過程中需要采用釬焊,現(xiàn)有的低銀銅基釬料釬焊時(shí)經(jīng)常出現(xiàn)釬料的外溢現(xiàn)象,外溢的釬料會(huì)影響此類零部件后續(xù)的裝配和連接,因此釬料的外溢現(xiàn)象必須嚴(yán)格控制,以免造成零部件的報(bào)廢,而由釬料著手控制焊接時(shí)的 釬料外溢是最經(jīng)濟(jì)的辦法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的是針對(duì)現(xiàn)有的低銀銅基釬料釬焊時(shí)經(jīng)常出現(xiàn)釬料的外溢現(xiàn)象的不足之處,提供一種流動(dòng)性可控,在焊接銅及銅合金過程中不會(huì)出現(xiàn)現(xiàn)有低銀銅基釬料的釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料。本專利技術(shù)是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料,該低銀銅基釬料的各組分的質(zhì)量百分比為6. 6 7. 8wt. %的?,0. 5 2. 2wt. %的八8,O. 01 O. 4wt. %的 In,O. 001 O. 2wt. %的 Si,O. 001 O.1wt. %的稀土,余量為 Cu。在所述的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料中,所述的釬料的組分P為工業(yè)赤磷和磷銅合金中的一種或一種以上。在所述的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料中,所述的釬料的組分Ag為 IC-Ag99. 99、IC-Ag99. 95 和 IC_Ag99. 90 中的一種或一種以上。在所述的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料中,所述的釬料的組分In為In99995和In9999中的一種或一種以上。在所述的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料中 ...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料,其特征在于該低銀銅基釬料的各組分的質(zhì)量百分比為:6.6~7.8wt.%的P,0.5~2.2wt.%的Ag,0.01~0.4wt.%的In,0.001~0.2wt.%的Si,0.001~0.1wt.%的稀土,余量為Cu。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料,其特征在于該低銀銅基釬料的各組分的質(zhì)量百分比為6· 6 7. 8wt. %的Ρ,0· 5 1. 2wt. %的Ag,O. Ol O. 4wt. %的In,O.001 O. 2wt. %的 Si,O. 001 O.1wt. %的稀土,余量為 Cu。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料,其特征在于所述的釬料的組分P為工業(yè)赤磷和磷銅合金中的一種或一種以上。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種焊接時(shí)無釬料外溢現(xiàn)象的低銀銅基釬料,其特征在于所述的釬料的組分Ag為IC-Ag99. 99、IC-Ag99. 95和IC_Ag99. 90中的一種或一種以...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:張理成,董顯,劉玉章,陳曉江,鄭麗,程迎濤,陳亦軍,
申請(qǐng)(專利權(quán))人:浙江信和科技股份有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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