【技術實現步驟摘要】
本技術涉及光電領域，具體涉及一種硅料清洗裝置組。
技術介紹
光電領域中，硅是非常重要和常用的半導體原料，是太陽能電池最理想的原材料。制備硅片的原料表面一般都會有雜質和一些氧化物，必須要經過清洗后才能進入后續工序使用。但是目前生產操作中，由于很多硅料的清洗設備采用酸洗、堿洗、水沖洗和超聲清洗為一體的封閉式操作，所以無法實施監控，必須要等硅原料清洗程序結束后，才能觀察到硅料的清洗情況；硅原料通過這種方法清洗時一般只能按照酸洗、沖洗、堿洗、沖洗、超聲洗的流程進行清洗，但原料表面的雜質組分不同，機械地按照基本流程進行清洗原料，不僅費時費力，而且還造成了原料的不必要浪費，降低了生產效率。
技術實現思路
本技術的目的在于克服現有技術的不足，提供一種硅料清洗裝置組，將硅原料的清洗按照原料表面雜質的不同進行不同的清洗流程。本技術所采取的技術方案是一種靈活清洗硅料的裝置組，包括沖淋清洗機，所述沖淋清洗機的四周分別設有酸性清洗機、酸性浸泡機、堿性清洗機和超聲清洗機。本技術進一步改進方案是，所述酸性清洗機位于酸性浸泡機的對面，所述堿性清洗機位于超聲清洗機的對面。本技術更進一步改進方案是，所述沖淋清洗機的型號為SGPR-05硅料清洗機。本技術更進一步改進方案是，所述酸性清洗機的型號為SGPR-04硅料酸洗機。本技術更進一步改進方案是，所述酸性浸泡機的型號為SGPR-05硅料浸泡機。本技術更進一步改進方案是，所述堿性清洗機的型號為SGSR-04硅料堿洗機。本技術更進一步改進方案是，所述超聲清洗機的型號為SGR28-05手動硅料清洗機。本技術的有益效果在于用本技術進行硅原料的清洗時，先...
【技術保護點】
一種硅料清洗裝置組，其特征在于：包括沖淋清洗機（1），所述沖淋清洗機（1）的四周分別設有酸性清洗機（2）、酸性浸泡機（3）、堿性清洗機（4）和超聲清洗機（5）。
【技術特征摘要】
1.一種硅料清洗裝置組，其特征在于包括沖淋清洗機(1)，所述沖淋清洗機(I)的四周分別設有酸性清洗機(2)、酸性浸泡機(3)、堿性清洗機(4)和超聲清洗機(5)。2.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述酸性清洗機(2)位于酸性浸泡機(3)的對面，所述堿性清洗機(4)位于超聲清洗機(5)的對面。3.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述沖淋清洗機(I)的型號為SGPR-05硅料清洗機。4.如...
【專利技術屬性】
技術研發人員：張凌松，
申請(專利權)人：宿遷宇龍光電科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
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