低濕抗靜電薄膜及其應用制造技術

本發明專利技術揭示了一種低濕抗靜電薄膜，依次包括永久抗靜電劑層、聚酯層、金屬涂層和抗靜電母粒層復合構成。本發明專利技術還提供一種將低濕抗靜電薄膜制成在電子行業中用于包裝電子元器件產品或半成品的防靜電屏蔽袋。本發明專利技術通過外層采用價格較為低廉的永久抗靜電劑層、內層采用抗靜電母粒層，即可滿足低濕抗靜電要求又能降低成本。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種低濕抗靜電薄膜及其應用，尤其是涉及一種應用于制造防靜電屏蔽袋的低濕抗靜電薄膜，屬于高分子材料

技術介紹
電子行業中常用的防靜電屏蔽袋大多是采用二層復合或更高的四層復合結構。防靜電屏蔽袋里形成法拉第籠感應罩效應，最大程度保護袋內物品與靜電場隔離，防止靜電積累，免受靜電危害。其中，濕度是影響屏蔽袋抗靜電性能的環境條件之一，目前常用的抗靜電材料有普通抗靜電劑、永久抗靜電劑和抗靜電母粒。普通抗靜電劑，如非離子型抗靜電劑和復合型抗靜電劑。由于非離子型抗靜電劑熱穩定性能好，價格較便宜，使用方便，對皮膚無刺激.是抗靜電基材中不可缺少的抗靜電劑，具有良好的應用前景，而復合型抗靜電劑是利用各組分的協調效應原理開發出來的，各組分互補性強，抗靜電效果遠優于單一組分，但該兩種抗靜電劑在低濕條件下的抗靜電性能較差?？轨o電母粒的發展是由于普通抗靜電劑多為粘稠液體，其中一部分為極性聚合物，在塑料中分散困難，造成使用上的不便，而多功能濃縮母粒分散性均勻，操作方便，但該抗靜電母粒價格較為昂貴。永久抗靜電劑是近年來研究開發的一類新型抗靜電劑，屬親水性聚合物，但永久抗靜電劑因使用交聯劑無法在抗靜電膜內測使用。目前常用的防靜電屏蔽袋的膜材多為普通抗靜電劑層/聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜/鋁箔層/聚乙烯薄膜/普通抗靜電劑，或是抗靜電母粒/聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜/鋁箔層/抗靜電母粒的結構，上述兩種結構的膜材均不能在成本較低的基礎上滿足低濕抗靜電要求。
技術實現思路
本專利技術的目的是為了解決上述技術問題而提供一種低濕抗靜電薄膜及其應用，通過本專利技術低濕抗靜電薄膜可制造在電子行業中用于包裝電子元器件產品或半成品的防靜電屏蔽袋。本專利技術的技術解決方案如下一種低濕抗靜電薄膜，依次包括永久抗靜電劑層、聚酯層、金屬涂層和抗靜電母粒層復合構成。進一步地，所述聚酯層包括聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜或聚芳酯薄膜。進一步地，所述金屬涂層為鋁涂層、鎳涂層或銅涂層。本專利技術另一方面地，還包括一種屏蔽袋，該屏蔽袋是由所述的低濕抗靜電薄膜經分切、制袋制得。本專利技術的技術效果主要為通過外層采用價格較為低廉的永久抗靜電劑層、內層采用抗靜電母粒層，即可滿足低濕抗靜電要求又能降低成本。附圖說明圖1是本專利技術低濕抗靜電薄膜的結構示意圖。具體實施例方式下面通過具體實施例對本專利技術進行說明，所舉的實施例僅是對本專利技術作概括性例示，有助于更好地理解本專利技術，但并不會限制本專利技術范圍。下述實施例中所述材料，如無特殊說明，均可從商業途徑獲得。具體地，本實施例低濕抗靜電薄膜，由外至內依次包括永久抗靜電劑層1、聚酯層2、金屬涂層3和抗靜電母粒層4復合構成。所述聚酯層2為包括聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二酯或聚芳酯制成的薄膜，優選為聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜。所述金屬涂層3為鋁涂層、鎳涂層或銅涂層，優選為鋁涂層。本專利技術所采用的永久抗靜電劑是一類親水性聚合物，當其和高分子基體共混后，一方面由于其分子鏈的運動能力較強，分子間便于質子移動，通過離子導電來傳導和釋放產生的靜電荷。另一方面，抗靜電能力是通過其特殊的分散形態體現的。該永久型抗靜電劑主要是在制品表層呈微細的層狀或筋狀分布，構成導電性表層，而在中心部分幾乎呈球狀分布，形成所謂的“芯殼結構”，并以此為通路泄漏靜電荷。因為永久型抗靜電劑是以降低材料體積電阻率來達到抗靜電效果，不完全依賴表面吸水，所以受環境的濕度影響比較小。通過采用價格較為低廉的永久抗靜電劑層I作為低濕抗靜電薄膜的外層、采用抗靜電母粒層4作為低濕抗靜電薄膜的內層，即可滿足低濕抗靜電要求又能降低成本。更具體地，通過本專利技術低濕抗靜電薄膜可采用常規方法，如分切、制袋制得在電子行業中用于包裝電子元器件產品或半成品的防靜電屏蔽袋。上述實施例對本專利技術的保護范圍不構成任何限制，凡采用等同替換或者等效變換而形成的所有技術方案，均落在本專利技術要求保護的范圍之內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種低濕抗靜電薄膜，其特征在于：依次包括永久抗靜電劑層（1）、聚酯層（2）、金屬涂層（3）和抗靜電母粒層（4）復合構成。

【技術特征摘要】
1.一種低濕抗靜電薄膜，其特征在于依次包括永久抗靜電劑層(I)、聚酯層(2)、金屬涂層(3)和抗靜電母粒層(4)復合構成。2.根據權利要求1所述的低濕抗靜電薄膜，其特征在于所述聚酯層(2)包括聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜...

【專利技術屬性】
技術研發人員：方杰，裴駿，
申請(專利權)人：蘇州天華超凈科技股份有限公司，
類型：發明
國別省市：