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    用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝制造技術

    技術編號:8588577 閱讀:348 留言:0更新日期:2013-04-18 02:06
    本發明專利技術公開的用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝,步驟包括:先用去離子水清洗表面具有固定LED芯片和鍵合線區域的陶瓷基板,烘干后再進行射頻清洗;然后在陶瓷基板覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,在其上涂布硅膠、擴散粉、抗沉淀粉和熒光粉的均勻混合物;揭去掩模板,加熱固化,即得到涂布了反光層的陶瓷基板,可用于制備LED面光源。陶瓷基板的表面經本發明專利技術處理后,可有效增加陶瓷基板的反射率,減少向下透過基板損失的光通量,提高LED面光源的光效,并更好地保護陶瓷基板表面性能。

    【技術實現步驟摘要】

    本專利技術涉及一種用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝,屬于LED封裝

    技術介紹
    LED (Light Emitting Diode)作為一種新型光源產品,具有壽命長、光效高、穩定性高、安全性好、無汞、無輻射、低功耗等優點,正在各個領域中逐步取代傳統光源。使用陶瓷基板制作LED面光源具有散熱好、無眩光、發光均勻、耐高壓等優點,是封裝技術發展的主導方向之一?!つ壳坝糜贚ED面光源的陶瓷基板大多采用氧化鋁或氧化鋁/氮化鋁復合陶瓷,基板上具有固定LED芯片和鍵合線區域,基板本身存在一定的光線透過率,在LED通電點亮時會有較多的光線透過基板后損失,因此采用陶瓷基板制備的LED面光源,在光效指標上低于常見的直插式和貼片式封裝產品。目前產業界為提高陶瓷基板表面的反射率,常采用陶瓷基板表面鍍銀的工藝,但是在長期工作的使用過程中,Ag層會被硫化,黑色的硫化銀會吸收LED發出的光,降低光效維持能力。
    技術實現思路
    本專利技術的目的在于改進現有的技術不足,提供一種用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝,以增加基板反射率、提高光效和改善光衰減性能。本專利技術的用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝,包括以下步驟 (1)用去離子水清洗表面具有固定LED芯片和鍵合線區域的陶瓷基板,然后在8(Tl2(TC溫度下烘干; (2)在等離子清洗機中對步驟(I)得到的陶瓷基板進行射頻處理,射頻功率為150 250W,Ar氣流量為20 35 SCCM,處理時間I 3min ; (3)將硅膠、擴散粉、抗沉淀粉和熒光粉以1:2飛0. oro. 08 :0. 02、. 15的重量比混合,在真空脫泡攪膠機中攪拌5!Omin ; (4)在經步驟(2)處理的陶瓷基板上覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,將步驟(3)得到的混合物涂布在有掩模板的陶瓷基板上; (5)揭去掩模板,將陶瓷基板置于80 150°C的烘箱中烘烤2 5h,得到涂布了反光層的用于LED面光源的陶瓷基板。本專利技術中,所述的陶瓷基板可以為氧化鋁、氮化鋁、氧化鋯和氧化硅中的一種或幾種。上述基板的表面也可以有鍍Ag層。本專利技術中,所述的擴散粉可以是Ti02、Zr02、Al203和有機硅樹脂微球中的一種或幾種。本專利技術中,所述的抗沉淀粉為Si02、BaS04和CaCO3中的一種或幾種。本專利技術中,所述的熒光粉為釔鋁石榴石(YAG)、鋱鋁石榴石(TAG)、镥鋁石榴石(LuAG)、硅酸鹽、氮化物和氮氧化物中的一種或幾種。本專利技術中,所述的涂布可以采用絲網印刷、噴涂、輥涂或刷涂。本專利技術對陶瓷基板進行表面處理,涂布反光層,可有效提高陶瓷基板的反射率,減少向下透過基板損失的光通量,提高LED面光源的光效,減少光衰減;反光層同時具有保護作用,提高LED面光源的長期穩定性;另外,反光層中添加了熒光粉,可充分利用芯片發出的藍光。附圖說明圖1為本專利技術處理后的陶瓷基板表面示意圖;圖中陰影部分為涂布反光層區域,空白區域I為固定芯片的位置,空白區域2為固定鍵合線的位置。圖2為實施例4的陶瓷基板制備成LED面光源的光衰減趨勢對比 圖3為實施例4的陶瓷基板制備成LED面光源的光通量變化對比圖。具體實施例方式實施例1 (1)用去離子水清洗表面具有固定LED芯片和鍵合線區域的氧化鋁陶瓷基板,然后在120°C烘箱中烘干30min ; (2)在等離子清洗機中對步驟(I)得到的氧化鋁陶瓷基板進行射頻處理,射頻功率為250W, Ar氣流量為20 SCCM,處理時間Imin ; (3)將KER-2500(硅膠,日本信越化學產)、Ti02、SiO2和YAG-04(黃色熒光粉,美國英特美產)以1:5 :0. 08 :0. 15的重量比混合在一起,在真空脫泡攪膠機中攪拌IOmin ; (4)在經步驟(2)處理的氧化鋁陶瓷基板上覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,將步驟(3)得到的混合物以絲網印刷的方式涂布在有掩模板的陶瓷基板上; (5)揭去掩模板,得到如圖1所示的氧化鋁陶瓷基板,圖中陰影部分為涂布反光層區域,空白區域I為固定芯片的區域,空白區域2為固定鍵合線的區域。將氧化鋁陶瓷基板置于150°C的烘箱中烘烤2h,得到涂布了反光層的氧化鋁陶瓷基板,可用于制備LED面光源。實施例2 (1)用去離子水清洗表面具有固定LED芯片和鍵合線區域的氧化鋁/氮化鋁復合陶瓷基板,然后在80°C烘箱中烘干60min ; (2)在等離子清洗機中對步驟(I)得到的氧化鋁/氮化鋁復合陶瓷基板進行射頻處理,射頻功率為150W,Ar氣流量為35 SCCM,處理時間3min ; (3)將0E-6650(硅膠,美國道康寧產)、Zr02、Si02、Y4156 (綠色硅酸鹽熒光粉,美國英特美產)和BR-102D(氮化物紅色熒光粉,日本三菱化學產)以1:2 :0. 01 :0. 015 :0. 005的重量比混合在一起,在真空脫泡攪膠機中攪拌5min ; (4)在經步驟(2)處理的氧化鋁/氮化鋁復合陶瓷基板上覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,將步驟(3)得到的混合物以噴涂的方式涂布在有掩模板的陶瓷基板上;(5)揭去掩模板,將陶瓷基板置于80°C的烘箱中烘烤5h,得到涂布了反光層的氧化鋁/氮化鋁復合陶瓷基板,可用于制備LED面光源。實施例3 (1)用去離子水對表面鍍Ag且具有固定LED芯片和鍵合線區域的的氮化鋁陶瓷基板表面進行清洗,將表面清洗后的陶瓷基板在120°C烘箱中烘干45min ; (2)在等離子清洗機中對步驟(I)得到的表面鍍Ag的氮化鋁陶瓷基板進行射頻處理,射頻功率為200W,Ar氣流量為30 SCCM,處理時間2min ; (3)將HK-Si5 40(硅膠,中國杭科光電產)、Ti02、SiO2,Y36E (黃綠色鋁酸鹽熒光粉,臺灣奇美實業產)和BR-102D(氮化物紅色熒光粉,日本三菱化學產)以1:3. 5 :0. 05 0. 08 :0. 01的重量比混合在一起,在真空脫泡攪膠機中攪拌8min ; (4)在經步驟(2)處理的氮化鋁陶瓷基板上覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,將步驟(3)得到的混合物以輥涂的方式涂布在有掩模板的陶瓷基板上; (5)揭去掩模板,將氮化鋁陶瓷基板置于120°C的烘箱中烘烤3h,得到涂布了反光層的表面鍍Ag的氮化鋁陶瓷基板,可用于制備LED面光源。實施例4 應用比較 例 選取480顆晶粒,隨機分成三組,每組160粒,按照4粒串聯4粒并聯的方式固晶、引線鍵合在氧化鋁陶瓷基板上,每組各十個。其中第一組為未進行涂布工藝直接固晶、第二組為進行涂布工藝但其中未添加熒光粉、第三組為涂布材料中包含熒光粉。具體如下 (I)取30片氧化鋁陶瓷基板用去離子水清洗、100°C烘干,并對氧化鋁陶瓷基板進行等離子清洗,射頻功率為200W,清洗時間為2min。將第一組直接進行固晶、鍵合金線、點膠、烘烤、測試,得到光通量數值,具體數據見表I。(2)對第二組進行配膠,硅膠(KER-2500,日本信越化學產)、Zr02粉、SiO2粉的重量比例為1:3 :0. 05,混合均勻,用噴涂方式使混合物均勻涂布于氧化鋁陶瓷基板上。150°C烘烤本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝,包括以下步驟:(1)用去離子水清洗表面具有固定LED芯片和鍵合線區域的陶瓷基板,然后在80~120℃溫度下烘干;(2)?在等離子清洗機中對步驟(1)得到的陶瓷基板進行射頻處理,射頻功率為150~250W,Ar氣流量為20~35?SCCM,處理時間1~3min;(3)?將硅膠、擴散粉、抗沉淀粉和熒光粉以1:2~5:0.01~0.08:0.02~0.15的重量比混合,在真空脫泡攪膠機中攪拌5~10min;(4)?在經步驟(2)處理的陶瓷基板上覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,將步驟(3)得到的混合物涂布在有掩模板的陶瓷基板上;(5)?揭去掩模板,將陶瓷基板置于80~150℃的烘箱中烘烤2~5h,得到涂布了反光層的用于LED面光源的陶瓷基板。

    【技術特征摘要】
    1.一種用于LED面光源的陶瓷基板的表面處理工藝,包括以下步驟 (1)用去離子水清洗表面具有固定LED芯片和鍵合線區域的陶瓷基板,然后在8(Tl2(TC溫度下烘干; (2)在等離子清洗機中對步驟(I)得到的陶瓷基板進行射頻處理,射頻功率為150 250W,Ar氣流量為20 35 SCCM,處理時間I 3min ; (3)將硅膠、擴散粉、抗沉淀粉和熒光粉以1:2飛0. 0Γ0. 08 0. 02、. 15的重量比混合,在真空脫泡攪膠機中攪拌5 10min ; (4)在經步驟(2)處理的陶瓷基板上覆蓋掩模板,利用掩模板遮蓋住固定LED芯片和鍵合線區域,將步驟(3)得到的混合物涂布在有掩模板的陶瓷基板上; (5)揭去掩模板,將陶瓷基板置于80 150°C的烘箱中烘烤2飛h,得到涂布了反光層的用于LED面光源的陶瓷基板。2.根據權利要求1所述的用于LED面光源...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:嚴錢軍,高基偉楊敬葵,徐小秋李紅蘭,
    申請(專利權)人:杭州杭科光電股份有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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