球形氣動找平機構制造技術

一種球形氣動找平機構，包括支座與上板。支座的球形凹面上均布若干個出氣口，出氣口上固接與球形凹面一致的帶有節流孔的節流蓋。節流孔氣流出口端處在支座與上板之間處，入口端處在支座內部通氣道出口處。一個節流蓋對應一條支座通氣道。通氣道匯總后既與壓縮空氣源相通又與真空源相通。上板的吸盤以及承片臺的環形槽均與真空氣源相通。支座與上板之間通入壓縮空氣形成氣膜將上板浮起。上板真空吸附承片臺，承片臺真空吸附基片。上板被氣膜浮起后可容易的進行基片找平且找平力還很小；上板和支座的摩損小，增大了兩者的使用壽命。壓縮空氣切換成真空，上板連同基片被鎖緊，基片不會產生X、Y方向的位移，減少了基片的損壞率。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種接觸接近式光刻機對準工作臺的找平機構，特別是涉及一種接觸接近式光刻機對準工作臺的球形氣動找平機構。
技術介紹
找平機構是接觸接近式光刻機對準工作臺部件中的關鍵裝置，也是瓶頸技術，該裝置直接體現接觸接近式光刻機的研制、生產、制造、裝配等技術水平。由于基片上下表面的不平行，在基片吸附固定后與掩膜版表面接觸時二者之間會形成一個楔形角，找平機構就是為了消除這個楔形誤差，使基片與掩膜版完全接觸，接觸面達到平行狀態。國外接觸接近式光刻機的找平機構都是自行研制的，屬于核心技術受到保護。國內接觸接近式光刻機目前配置的找平機構，普遍采用半球形找平技術，找平時由于凸凹兩個半球面直接相互接觸相對運動頻繁、磨損快，磨損后無法維修，只能進行更換；且找平力大，易造成掩膜版變形從而影響基片曝光質量，特別對于薄基片容易造成碎片。因此，從社會效益和經濟效益兩方面考慮，研制開發易于找平、找平力小的球形氣動找平機構是非常必要的。
技術實現思路
本專利技術的目的是針對已有接觸接近式光刻機找平技術的不足，提供一種接觸接近式光刻機能夠實現基片與掩膜版找平時易于找平、鎖緊時X及Y方向無漂移、找平力小、維護方便的球形氣動找平機構。本專利技術的目的是能夠實現的。本專利技術的球形氣動找平機構是在已有技術的基礎上進行改進得以實現的，本專利技術的球形氣動找平機構包括互為呈球形結構且上板2坐落在支座I球形凹面中的支座I與上板2，本專利技術的球形氣動找平機構的特征在于所述支座I的球形凹面上均布對稱設有若干個出氣口 I’，所述每個出氣口 I’上均通過螺釘固接一個與支座I球形凹面一致的節流蓋3，所述節流蓋3與支座I結合部之間設有密封膠圈5，所述節流蓋3上設有節流孔，所述節流蓋3的節流孔外側出口端處在所述支座I與上板2之間形成的空間處，內側入口端處在支座I內部設有的支座通氣道出口處，所述一個節流蓋3對應一條支座通氣道，所述支座I外部設有一個支座進氣嘴10，所述若干條支座通氣道的進氣端匯總與所述支座進氣嘴10連通，所述支座進氣嘴10與氣動系統的調速閥13的出口連接，所述調速閥13的進口通過串聯的兩個電磁閥16既與真空泵15管路連接，又通過減壓閥19與壓縮空氣泵14管路連接，所述節流蓋3與所述支座I之間形成的空間經過支座進氣嘴10通過兩個電磁閥16或者與壓縮空氣泵14連通或者與真空泵15連通。所述上板2四個角部各設有一個吸盤4，所述每個吸盤4的氣孔下面均與設置在上板2內部的一條上板通氣道連通，四個上板通氣道的進口匯總與設置在上板2上的上板進氣嘴11連通，所述上板進氣嘴11通過一個電磁閥17與真空泵15管路連接，所述上板2上面置有一個平板狀承片臺6，所述承片臺6上開有若干同心圓的環形槽，每個所述環形槽均互為聯通，所述互為聯通的環形槽下面通過承片臺6內部設置的承片臺通氣道與安裝在所述承片臺6上的承片臺進氣嘴12連通，所述承片臺進氣嘴12通過一個電磁閥18與真空泵15管路連接。本專利技術球形氣動找平機構，其中各條所述支座通氣道的長度相等，內徑相同。本專利技術球形氣動找平機構，其中所述節流蓋3的節流孔孔徑為O. 5 1mm。本專利技術球形氣動找平機構，其中所述支座進氣嘴10前面經壓縮空氣泵14輸入的氣壓力為O. 4MPa，支座進氣嘴10、上板進氣嘴11以及承片臺進氣嘴12前面經真空泵15制造的負壓為-O. 08MPa。本專利技術球形氣動找平機構與現有技術不同之處在于本專利技術球形氣動找平機構的支座上設有三個節流蓋，節流蓋上的節流孔既與壓縮氣源相通又與真空氣源相通；上板設置的吸盤以及承片臺設置的環形槽均與真空氣源相通。支座與上板之間通入壓縮空氣時形成氣膜，氣膜將上板浮起；上板的吸盤通過真空泵將承片臺吸附固定，承片臺也通過真空泵將基片吸附固定，固定了基片的上板被氣膜浮起后，既可通過版架十分便利的對上板找平且找平力還很小，另外找平時也減弱了支座與上板間的摩擦力，使得支座和上板不易出現摩損，增大了上板和支座的使用壽命。上板找平后，將支座與上板之間的壓縮空氣切換成由真空泵制造的真空狀態，使支座與上板之間形成真空負壓的吸附狀態，上板連同其上的基片則會被鎖緊，鎖緊過程中，上板連同基片不會相對支座產生X、Y方向的位移，保持找平后的工作狀態，從而極大地減少了基片被找平時的損壞率。本專利技術球形氣動找平機構是一種理想的基片找平設備。下面結合附圖對本專利技術的球形氣動找平機構作進一步說明。附圖說明圖1是球形氣動找平機構結構未裝承片臺時的立體結構示意圖。圖2是球形氣動找平機構結構吸附了承片臺時的立體結構示意圖。圖3是球形氣動找平機構未裝承片臺時的結構主視示意圖。圖4是圖3中的A局部放大視圖。圖5是球形氣動找平機構中支座的俯視圖。圖6是球形氣動找平機構工作示意圖。圖7是球形氣動找平機構中的氣動系統原理圖。圖中1支座、1’出氣口、2上板、3節流蓋、4吸盤、5密封圈、6承片臺、7基片、8掩膜版、9版架、10支座進氣嘴、11上板進氣嘴、12承片臺進氣嘴、13調壓閥、14壓縮空氣泵、15真空泵、16電磁閥、17電磁閥、18電磁閥、19減壓器。具體實施例方式如圖1、圖3、圖4、圖5、圖7所示，本專利技術的球形氣動找平機構是在已有技術的基礎上進行改進得以實現的，本專利技術的球形氣動找平機構包括互為呈球形結構且上板2坐落在支座I球形凹面中的支座I與上板2。本專利技術球形氣動找平機構的支座I的球形凹面上按120°角均布設有三個出氣口I’，每個出氣口 I ’上均通過螺釘固接一個與支座I球形凹面一致的節流蓋3，節流蓋3與支座I結合部之間設有密封膠圈5，密封膠圈5用于防止漏氣造成氣膜不均。節流蓋3上設有節流孔。節流蓋3的節流孔外側出口端處在支座I與上板2之間形成的空間處，內側入口端處在支座I內部設有的支座通氣道出口處。一個節流蓋3對應一條支座通氣道。支座I外部設有一個支座進氣嘴10。若干條支座通氣道的進氣端匯總與支座進氣嘴10連通。支座進氣嘴10與氣動系統的調速閥13的出口連接，調速閥13的進口通過串聯的兩個電磁閥16既與真空泵15管路連接，又通過減壓閥19與壓縮空氣泵14管路連接。節流蓋3與支座I之間形成的空間經過支座進氣嘴10通過兩個電磁閥16或者與壓縮空氣泵14連通或者與真空泵15連通。如圖1所示，上板2四個角部各設有一個吸盤4，每個吸盤4的氣孔下面均與設置在上板2內部的一條上板通氣道連通，四個上板通氣道的進口匯總與設置在上板2上的上板進氣嘴11連通。如圖7所示，上板進氣嘴11通過一個電磁閥17與真空泵15管路連接。如圖2、圖6所示,上板2上面置有一個平板狀承片臺6。承片臺6上開有若干同心圓的環形槽，各個環形槽均互為聯通。互為聯通的環形槽下面通過承片臺6內部設置的承片臺通氣道與安裝在承片臺6上的承片臺進氣嘴12連通。如圖7所示，承片臺進氣嘴12通過一個電磁閥18與真空泵15管路連接。本專利技術球形氣動找平機構中，各條支座通氣道的長度相等，內徑相同。節流蓋3的節流孔孔徑為O. 5_。支座進氣嘴10前面經壓縮空氣泵14輸入的氣壓力為O. 4MPa，支座進氣嘴10、上板進氣嘴11以及承片臺進氣嘴12前面經真空泵15制造的負壓為-O. OSMPa0本專利技術工作原理如下 如圖5所示，找平開始前，啟動真空泵15，用-O. 08MPa的真空度將前承片臺6吸附固定在吸盤4本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種球形氣動找平機構，包括互為呈球形結構且上板2坐落在支座1球形凹面中的支座1與上板2，其特征在于：所述支座1的球形凹面上均布對稱設有若干個出氣口1’，所述每個出氣口1’上均通過螺釘固接一個與支座1球形凹面一致的節流蓋3，所述節流蓋3與支座1結合部之間設有密封膠圈5，所述節流蓋3上設有節流孔，所述節流蓋3的節流孔外側出口端處在所述支座1與上板2之間形成的空間處，內側入口端處在支座1內部設有的支座通氣道出口處，所述一個節流蓋3對應一條支座通氣道，所述支座1外部設有一個支座進氣嘴10，所述若干條支座通氣道的進氣端匯總與所述支座進氣嘴10連通，所述支座進氣嘴10與氣動系統的調速閥13的出口連接，所述調速閥13的進口通過串聯的兩個電磁閥16既與真空泵15管路連接，又通過減壓閥19與壓縮空氣泵14管路連接，所述節流蓋3與所述支座1之間形成的空間經過支座進氣嘴10通過兩個電磁閥16或者與壓縮空氣泵14連通或者與真空泵15連通；所述上板2四個角部各設有一個吸盤4，所述每個吸盤4的氣孔下面均與設置在上板2內部的一條上板通氣道連通，四個上板通氣道的進口匯總與設置在上板2上的上板進氣嘴11連通，所述上板進氣嘴11通過一個電磁閥17與真空泵15管路連接，所述上板2上面置有一個平板狀承片臺6，所述承片臺6上開有若干同心圓的環形槽，每個所述環形槽均互為聯通，所述互為聯通的環形槽下面通過承片臺6內部設置的承片臺通氣道與安裝在所述承片臺6上的承片臺進氣嘴12連通，所述承片臺進氣嘴12通過一個電磁閥18與真空泵15管路連接。...

【技術特征摘要】
1.一種球形氣動找平機構，包括互為呈球形結構且上板2坐落在支座I球形凹面中的支座I與上板2，其特征在于所述支座I的球形凹面上均布對稱設有若干個出氣口 1’，所述每個出氣口 I’上均通過螺釘固接一個與支座I球形凹面一致的節流蓋3，所述節流蓋3與支座I結合部之間設有密封膠圈5，所述節流蓋3上設有節流孔，所述節流蓋3的節流孔外側出口端處在所述支座I與上板2之間形成的空間處，內側入口端處在支座I內部設有的支座通氣道出口處，所述一個節流蓋3對應一條支座通氣道，所述支座I外部設有一個支座進氣嘴10，所述若干條支座通氣道的進氣端匯總與所述支座進氣嘴10連通，所述支座進氣嘴10與氣動系統的調速閥13的出口連接，所述調速閥13的進口通過串聯的兩個電磁閥16既與真空泵15管路連接，又通過減壓閥19與壓縮空氣泵14管路連接，所述節流蓋3與所述支座I之間形成的空間經過支座進氣嘴10通過兩個電磁閥16或者與壓縮空氣泵14連通或者與真空泵15連通； 所述上板2四個角部各設有一個吸盤...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李霖，蒲繼祖，甄萬財，
申請(專利權)人：中國電子科技集團公司第四十五研究所，
類型：發明
國別省市：