一種用于霧化的超聲波陣列換能器制造技術

本實用新型專利技術公開了一種用于霧化的超聲波陣列換能器，包括：底座，底座上設有多個呈陣列分布的超聲霧化片，所述超聲霧化片分別通過壓蓋與底座固定，所述底座頂端通過固定環連接有聚能環，所述聚能環具有多個與超聲霧化片相對的空腔，所述空腔的內徑自上而下逐漸縮小。本實用新型專利技術的用于霧化的超聲波陣列換能器能夠有效地減少熱量損失，增加發霧量。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及超聲霧化裝置
，具體地說是一種用于霧化的超聲波陣列換能器。
技術介紹
目前，應用超聲霧化技術可以方便地將各種溶液霧化成微米或者亞微米級的霧滴，依托該技術設計的霧化裝置已較為廣泛地應用于家庭、醫院和工業中。但現有的超聲波換能器的超聲波發出的波形是球面波，發散角度大，能量分散，只有在霧化片正上方的位置，且能量集中的部分才可以發霧，而散射到霧化片周圍的很大一部分能量在液體表面轉化為熱量損失了，并沒有引起發霧。有鑒于此，本專利技術人積極加以研究和創新，最終專利技術了一種結構新穎的用于霧化的超聲波陣列換能器，以解決現有技術中存在的問題，使其更加具有實用性。
技術實現思路
為了解決現有技術中存在的上述問題，本技術提供了一種用于霧化的超聲波陣列換能器，能夠有效地減少熱量損失，增加發霧量。為了解決上述技術問題，本技術采用了如下技術方案—種用于霧化的超聲波陣列換能器，包括底座，底座上設有多個呈陣列分布的超聲霧化片，所述超聲霧化片分別通過壓蓋與底座固定，所述底座頂端通過固定環連接有聚能環，所述聚能環具有多個與超聲霧化片相對的空腔，所述空腔的內徑自上而下逐漸縮小。進一步，所述底座具有多個定位槽，所述超聲霧化片設于定位槽內。進一步，所述空腔的內徑呈直線或曲線逐漸縮小。進一步，所述空腔呈倒錐形，所述空腔的母線與水平面之間的夾角為15° 90。。進一步，所述空腔呈雙曲面形，所述空腔的母線的切線與水平面之間的夾角為90。 180。。進一步，所述空腔呈拋物面形，所述空腔的母線的切線與水平面之間的夾角為10。 90°。進一步，所述固定環通過螺栓與底座和聚能環連接。進一步，所述底座和聚能環分別與固定環螺紋連接。進一步，所述超聲霧化片呈線形陣列、圓周陣列或填充陣列分布。進一步，所述底座的底部通過螺絲連接有絕緣墊，絕緣墊上具有與超聲霧化片對應的通孔。與現有技術相比，本技術的有益效果在于本技術的用于霧化的超聲波陣列換能器通過聚能環上的空腔呈陣列的無縫緊密堆積，有效地減少了容器底部的死體積；另外空腔內壁可以將分散的超聲波反射并匯聚到超聲霧化片正上方的有效面積內，更有效的利用了超聲波能量，提高了發霧量。附圖說明圖1為本技術的用于霧化的超聲波陣列換能器的一種實施例的結構剖圖；圖2為本技術的用于霧化的超聲波陣列換能器的一種實施例的結構拆分圖。具體實施方式以下結合附圖和具體實施例對本技術作進一步詳細描述，但不作為對本技術的限定。圖1為本技術的用于霧化的超聲波陣列換能器的一種實施例的結構剖圖；圖2為本技術的用于霧化的超聲波陣列換能器的一種實施例的結構拆分圖。如圖1和圖2所示，一種用于霧化的超聲波陣列換能器，包括底座5，底座5上設有多個呈陣列分布的超聲霧化片4。超聲霧化片4分別通過壓蓋3與底座5固定。超聲霧化片4的周邊具有橡膠墊圈用于密封。底座5頂端通過固定環2連接有聚能環I。聚能環I具有與超聲霧化片4相對的空腔101，空腔101的內徑自上而下逐漸縮小。底座5具有呈陣列分布的定位槽501，超聲霧化片4設于定位槽501內。固定環通過螺栓與底座和聚能環連接。底座5的底部通過螺絲連接有絕緣墊6。絕緣墊6上具有與超聲霧化片4對應的通孔。圖1所示的實施例中空腔101的內徑呈直線逐漸縮小?？涨?01呈倒錐形。作為優選，空腔101的母線與水平面之間的夾角為15° 90°?？涨?01的表面可以將分散的超聲波反射并匯聚到超聲霧化片4的正上方有效面積內，更為有效的利用超聲波能量，提高發霧量。作為上述實施例的另一種替換，底座5和聚能環I還可分別與固定環螺紋連接。另夕卜，空腔101的內徑還可呈曲線逐漸縮小。諸如空腔101呈雙曲面形。此時的優選為空腔101的母線的切線與水平面之間的夾角為90° 180°?；蛘撸涨?01呈拋物面形。此時的優選為空腔101的母線的切線與水平面之間的夾角為10° 90°?？梢詫⒎稚⒌某暡ūM可能多的反射并匯聚到超聲霧化片4的正上方有效面積內。兩種霧化裝置均包含12片相同的霧化片，以水作為介質，其中一個霧化裝置采用本技術的換能器，測量死體積發現，采用本技術換能器的盛液容器的死體積為5mL，而作為對比例的盛液容器的死體積為20mL?？梢姳炯夹g有效地減少了容器底部的死體積。以上實施例僅為本技術的示例性實施例，不用于限制本技術，本技術的保護范圍由權利要求書限定。本領域技術人員可以在本技術的實質和保護范圍內，對本技術做出各種修改或等同替換，這種修改或等同替換也應視為落在本技術的保護范圍內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于霧化的超聲波陣列換能器，包括：底座，底座上設有多個呈陣列分布的超聲霧化片，所述超聲霧化片分別通過壓蓋與底座固定，所述底座頂端通過固定環連接有聚能環，所述聚能環具有多個與超聲霧化片相對的空腔，所述空腔的內徑自上而下逐漸縮小。

【技術特征摘要】
1.一種用于霧化的超聲波陣列換能器，包括底座，底座上設有多個呈陣列分布的超聲霧化片，所述超聲霧化片分別通過壓蓋與底座固定，所述底座頂端通過固定環連接有聚能環，所述聚能環具有多個與超聲霧化片相對的空腔，所述空腔的內徑自上而下逐漸縮小。2.根據權利要求1所述的用于霧化的超聲波陣列換能器，其特征在于，所述底座具有多個定位槽，所述超聲霧化片設于定位槽內。3.根據權利要求1所述的用于霧化的超聲波陣列換能器，其特征在于，所述空腔的內徑呈直線或曲線逐漸縮小。4.根據權利要求3所述的用于霧化的超聲波陣列換能器，其特征在于，所述空腔呈倒錐形，所述空腔的母線與水平面之間的夾角為15° 90°。5.根據權利要求3所述的用于霧化的超聲波陣列換能器，其特征在于，所述空腔呈雙曲...

【專利技術屬性】
技術研發人員：董家忠，王亮，許勇，張彩云，常剛，
申請(專利權)人：北京同方潔凈技術有限公司，
類型：實用新型
國別省市：