【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種應用在對非制冷紅外熱像儀探測器的非均勻校正方法。
技術介紹
非制冷紅外焦平面陣列目前受材料和制作工藝的限制，各像元的響應并不均勻，這樣就會造成不同陣列單元(像元)在同一均勻入射輻射下，其響應信號的幅度不同，嚴重影響紅外視頻成像，使其難以滿足成像系統的使用要求。因此，視頻成像之前需要對紅外焦平面陣列的輸出信號進行非均勻校正。傳統的非均勻校正方法主要有兩種兩點校正法和多點分段線性校正法。然而，兩點線性非均勻性校正算法是假設探測元的響應為線性的基礎是得到的。但是當焦平面陣列工作在輸入輸出響應曲線的非線性區時，兩點校正法的校正精度很差；另外，受溫度、偏置電壓等因素隨機變化的影響，兩點校正系數存在一定的偏移，必須對校正系數進行定期更新。而多點分段線性校正算法定標點愈多數據量愈大，校正算法愈復雜，甚至要重新考慮處理器的結構問題。而且多點分段線性校正法計算量大，并且由于存儲多組校正系數，需要大容量存儲器，在校正過程中還需要根據背景溫度的變化選擇合適的校正系數，這增加了編程和硬件實現的難度。現有技術存在以下問題缺點a)、焦平面陣列的響應特性可能會隨時發生變化，還應考慮非平穩的Ι/f噪聲和環境溫度的變化，因此僅僅一次定標是不夠的。b)、兩點線性校正法只對溫度處于所考慮的溫度范圍內的輻射起到較好的校正作用，但有些情況下，輻射體的溫度并不能夠預先知道，如在大氣層外飛行的目標，這給兩點線性校正法帶來一定的困難。c)、實際陣列元的響應是非線性的，雖然可以通過多點分段線性校正來彌補兩點線性校正的不足，但是這樣必然增加校正算法所需的存儲量。
技術實現思路
為了克服現有技...
【技術保護點】
一種基于參照源的分段線性非均勻矯正方法，其特征在于：它是將成像系統的工作范圍分為N段，在每一段內使用兩點校正法。
【技術特征摘要】
1.一種基于參照源的分段線性非均勻矯正方法，其特征在于:它是將成像系統的工作范圍分為N段，在每一段內使用兩點校正法。2.根據權利要求1所述的基于參照源的分段線性非均勻矯正方法，其特征在于:所述的兩點校正法，假設兩個相鄰像元A和B對應于兩個場景溫度點I和2的響應，并分別用Iai> IA2> Ibi和Ib2來表示，則A和B響應增量的比率Rab可表示為1-13.根據權利要求1所述的基于參照源的分段線性非均勻矯正方法，其特征在于:所述的兩點校正法，其中增益校正矩陣為: 用矩形模式抖動陣列得到四幀連續的數據1:、12、13和I4，沿水平和垂直方向的抖動距離為一個像元的寬度和高度，以矩陣[I1]、[I2]、[I3]和[I4]分別表示通過抖動矩陣所獲得的四幀連續的圖像數據，則4.根據權利要求1所述的基于參照源的分段線性非均勻矯正方法，其特征在于:所...
【專利技術屬性】
技術研發人員：方勇，王書慶，劉炳臣，
申請(專利權)人：河北漢光重工有限責任公司，
類型：發明
國別省市：
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