本發明專利技術提供一種能高精度地控制基板與掩模的間隙的有機EL器件制造裝置。有機EL器件制造裝置的構成為，其具有：設置在真空處理室內的蔭罩；放置基板的基板座；使基板與蔭罩之間接近或分離的基板密合機構；以及設置于基板座的四角的距離計測機構，距離計測機構具有：設置成貫通基板座的距離計測用空間；設置于基板座的表面上的透明玻璃板；以及配置于距離計測用空間中的距離計測部，距離計測部具有：發射光并接收反射光以計測距離的距離計；使距離計與真空處理室內的氣氛隔離的距離計箱體；以及設置在距離計箱體的一部分上的透明玻璃窗，距離計通過透明玻璃窗計測透明玻璃板與蔭罩之間的距離。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及有機EL器件制造裝置，特別是涉及能夠在成膜時等高精度地控制基板與掩模的間隙的有機EL器件制造裝置。
技術介紹
作為制造有機EL器件的有效方法有真空蒸鍍法。真空蒸鍍法是在真空處理室內，例如在使玻璃基板等基板與掩模重合的狀態下，將它們暴露于處理氣體中實施蒸鍍處理的方法。另外，近年來，隨著處理基板的大型化，G6代的基板尺寸已達到1500mmX 1800mm。為了與這種大型基板相對應，在垂直地保持基板面的狀態下將其暴露于處理氣體中實施蒸鍍處理。在下述的專利文獻I中公開了如下技術，即、在垂直地保持基板面的狀態下，使掩模靠近基板，并在使基板與掩模重合的狀態下，實施蒸鍍處理。如上所述，在真空處理室內垂直地保持大型基板的基板面，在重合了掩模的狀態下實施蒸鍍處理的場合，為了降低蒸鍍的模糊，進行高精度的蒸鍍，需要高精度地控制基板與掩模的間隙，例如使其達到數十Pm以下。一直以來，雖然將放置基板的基板座表面的平坦度機械加工到例如約20 μ m以下，并提高使基板座移動的移動引導機構的機械加工精度，從而控制基板與掩模的間隙，尤其是在使大型基板為垂直的情況下，不容易在整個基板面的范圍內高精度地控制基板與掩模的間隙。現有技術文獻專利文獻1:日本特開2010 - 086956號公報
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種能夠將基板與掩模的間隙控制在例如數十μ m以下的高精度的有機EL器件制造裝置。為了實現上述目的，在本專利技術的有機EL器件制造裝置中，具有:蔭罩，該蔭罩設置在真空處理室內；基板座，該基板座設置在真空處理室內，包含用于放置基板的基板放置區域的第一面為長方形；基板密合機構，該基板密合機構使放置在上述基板座上的基板與上述蔭罩之間接近或分離；以及距離計測機構，該距離計測機構在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，上述有機EL器件制造裝置的特征在于，上述距離計測機構具有:距離計測用空間，該距離計測用空間在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，并設置成貫通上述基板座的第一面和與該第一面相反一側的第二面； 透明玻璃板，該透明玻璃板在上述距離計測用空間中設置于上述基板座的第一面上；以及距離計測部，該距離計測部在上述距離計測用空間中配置于上述基板座的第二面上，上述距離計測部具有:對對象物發射光并接收從該對象物反射來的反射光，以計測與上述對象物之間的距離的距離計；使上述距離計與真空處理室內的氣氛隔離的距離計箱體；以及設置在上述距離計箱體的一部分上的透明玻璃窗，上述距離計接收通過上述透明玻璃窗從上述透明玻璃板反射來的反射光、以及通過上述透明玻璃窗從上述蔭罩反射來的反射光，并根據該接收光的結果來計測上述透明玻璃板與上述蔭罩之間的距離。本專利技術的效果如下。根據本專利技術，能夠提供可將基板與掩模的間隙控制在例如數十μ m以下的高精度的有機EL器件制造裝置。附圖說明圖1是表示本專利技術的實施方式的有機EL器件制造裝置的圖。圖2是表示本專利技術的實施方式的搬運腔及處理腔的結構概要的圖。圖3是本專利技術的實施方式的搬運腔及處理腔的構成模式圖。圖4是表示 本專利技術的實施方式的動作流程的圖。圖5是表示本專利技術的實施方式的基板旋轉機構及基板密合機構的圖。圖6是表示本專利技術的實施方式的基板座的結構及定位時的基板的姿勢的圖。圖7是表示本專利技術的實施方式的定位部的結構的圖。圖8是表示本專利技術的實施方式的距離測量機構的圖。圖9是表示本專利技術的實施方式的基板掩模固定裝置的實施例的圖，是在圖5中加上上述實施例的圖。圖中:I一處理腔，Ibu—真空蒸鍍腔,2—搬運腔,3—裝料機群(load cluster),6一基板，6h—基板表面，7—蒸鍍部，8—定位部，9一處理交接部，11一隔壁部，20—基板掩模固定機構，21—保持永久磁鐵的基板掩模吸附體，21J—永久磁鐵，22—吸附體旋轉機構，22B—吸附體旋轉驅動部，23—保持電磁鐵的基板掩模吸附體，23d—電磁鐵，23H—23的容納箱，60一控制裝置，61—距尚計，62—距尚計箱體，63透明玻璃窗，64a、64b—O形圈，65—透明玻璃板，66—固定金屬件,67—距離計測部,71—蒸發源,81—蔭罩,81a 81d—旋轉支撐部，81h—表面，82—定位底座，83—定位驅動部，84—定位從動部，85—定位光學系統，91 一基板座，9 Ih—第一面,91 j一第二面,91k一距尚計測用空間，92一基板旋轉機構，93一基板密合機構，100—有機EL器件制造裝，A D-機群。具體實施例方式以下，使用圖1 圖9說明本專利技術的實施方式。有機EL器件制造裝置不只是用于形成發光材料層(EL層)并以電極夾持該發光材料層的構造，既用于在陽極上形成空穴注入層及輸送層、在陰極上形成電子注入層及輸送層等，形成以各種材料做成薄膜的多層構造，還用于清洗基板。圖1是表示該制造裝置的一例的水平剖視圖。本實施方式的有機EL器件制造裝100大致包括:搬入處理對象的基板6(以下，也簡稱為基板)的裝料機群3 ;處理上述基板6的四個機群(A D)，以及設置在各機群間或機群與裝料機群3或者下一工序(封裝工序)之間的五個交接室4 (4a 4d)。就本實施方式的有機EL器件制造裝100而言，將基板的蒸鍍面作為上表面進行搬運，在進行蒸鍍時使基板立著進行蒸鍍。裝料機群3包括:為了維持真空而在前后具有閘閥10的裝料鎖定室31 ;以及從上述裝料鎖定室31接收基板6、旋轉后將基板搬入交接室4a的搬運機器人5R。各裝料鎖定室31及各交接室4在前后具有閘閥10，在控制該閘閥10的開關維持真空的同時，向裝料機群3或者下一機群等交接基板。各機群(A D)分別具有:具有一臺搬運機器人5的搬運腔2 ;以及從搬運腔2接收基板、進行預定的處理的在附圖上為上下配置的兩個處理腔I (第一下標a d表示機群，第二下標U、d表示上側下側)。在搬運腔2與處理腔I之間設有閘閥10。圖2是表示搬運腔2及處理腔I的結構概要的立體圖。處理腔I的結構因處理內容而不同，但以在真空中對作為蒸鍍材料的發光材料進行蒸鍍而形成EL層的作為真空處理室的真空蒸鍍腔Ibu為例進行說明。圖3是搬運腔2b及真空蒸鍍腔Ibu的構成模式圖及動作說明圖。圖2的搬運機器人5能整體上下移動(參照圖3的箭頭59)，在左右具有能旋轉的三連桿構造的臂57，在其前端具有分為上下兩段的兩個基板搬運用的梳齒狀手柄58。在一個手柄的場合，在搬入搬出處理之間需要用于將基板轉移到下一工序的旋轉動作、用于從前工序接收基板的旋轉動作、以及與之相應的閘閥的開關動作，但由于做成上下兩段，因而能夠以一方的手柄保持搬入的基板，以未保持基板的那個手柄從真空處理腔進行基板的送出動作后，連續地進行搬入動作。 究竟做成兩個手柄還是一個手柄根據所要求的生產能力決定。在以后的說明中，為便于說明以一個手柄進行說明。另一方面，真空蒸鍍腔Ibu大致包括:使發光材料升華而蒸鍍在基板6上的蒸鍍部7 ;為了蒸鍍在基板6的必要部分上而進行基板6與蔭罩81的對位的定位部8 ;以及與搬運機器人5進行基板6的交接、并使基板6向蒸鍍部7移動的處理交接部9。定位部8與處理交接部9設置右側R線和左側L線兩個系統。本實施方式中的處理的基本方案是，在一方的線(例如R行)進行蒸鍍期間，在另一方的L線進行基板6的搬出搬入，并進行基板6與本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種有機EL器件制造裝置，其具有：蔭罩，該蔭罩設置在真空處理室內；基板座，該基板座設置在真空處理室內，包含用于放置基板的基板放置區域的第一面為長方形；基板密合機構，該基板密合機構使放置在上述基板座上的基板與上述蔭罩之間接近或分離；以及距離計測機構，該距離計測機構在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，上述有機EL器件制造裝置的特征在于，上述距離計測機構具有：距離計測用空間，該距離計測用空間在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，并設置成貫通上述基板座的第一面和與該第一面相反一側的第二面；透明玻璃板，該透明玻璃板在上述距離計測用空間中設置于上述基板座的第一面上；以及距離計測部，該距離計測部在上述距離計測用空間中配置于上述基板座的第二面上，上述距離計測部具有：對對象物發射光并接收從該對象物反射來的反射光，以計測與上述對象物之間的距離的距離計；使上述距離計與真空處理室內的氣氛隔離的距離計箱體；以及設置在上述距離計箱體的一部分上的透明玻璃窗，上述距離計接收通過上述透明玻璃窗從上述透明玻璃板反射來的反射光、以及通過上述透明玻璃窗從上述蔭罩反射來的反射光，并根據該接收光的結果來計測上述透明玻璃板與上述蔭罩之間的距離。...
【技術特征摘要】
2011.10.27 JP 2011-2359581.一種有機EL器件制造裝置，其具有: 蔭罩，該蔭罩設置在真空處理室內； 基板座，該基板座設置在真空處理室內，包含用于放置基板的基板放置區域的第一面為長方形； 基板密合機構，該基板密合機構使放置在上述基板座上的基板與上述蔭罩之間接近或分離；以及 距離計測機構，該距 離計測機構在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角， 上述有機EL器件制造裝置的特征在于， 上述距離計測機構具有: 距離計測用空間，該距離計測用空間在上述基板座上設置于基板放置區域外的四角，并設置成貫通上述基板座的第一面和與該第一面相反一側的第二面； 透明玻璃板，該透明玻璃板在上述距離計測用空間中設置于上述基板座...
【專利技術屬性】
技術研發人員：圖師庵，龜山大樹，福島真，鄭載勛，李相雨，
申請(專利權)人：株式會社日立高新技術，
類型：發明
國別省市：
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