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    包括多孔二氧化硅納米微粒的光學涂層制造技術

    技術編號:8687798 閱讀:222 留言:0更新日期:2013-05-09 07:35
    一種光學涂層,包括膠合劑和多個多孔二氧化硅納米微粒,在二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向;一種用于形成光學涂層的溶液,所述溶液包括溶劑和多個多孔二氧化硅納米微粒,在二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向;一種用于制造光學涂層的方法;以及在光學涂層的制造中多孔二氧化硅納米微粒的使用,在二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】包括多孔二氧化硅納米微粒的光學涂層 本專利技術涉及在適當的膠合劑中的包括多孔二氧化硅納米微粒或從多孔二氧化硅納米微粒得到的光學涂層,其優選地對可見光是透射的,并優選地提供抗反射特性,且可選地提供其它額外的功能。涂層特別地但不排他地適合于應用于眼科學和眼鏡、光伏電池、顯示器、窗戶、發光二極管和太陽能集中器。眼鏡、太陽能電池和顯示器通常由暴露于由玻璃或聚合物片組成的環境的外部基片組成。這些基片一般具有1.5-1.7的折射率,并在每個表面上反射入射太陽光的大約4-5%——減小穿過基片的可見性或不再為太陽能電池所占有的能量。這些基片可被涂有將該反射減小到小于2%的抗反射涂層。附圖說明圖1示意性示出在基片2上的常規單層抗反射(AR)涂層I。AR涂層I的厚度是h。如果從AR涂層I的前表面和后表面反射的光布置成破壞性地干擾,則反射率減小。這(對于法向入射)在涂層I的厚度等于涂層的介質中的入射光的波長的四分之一的情況下實現,即:

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】2010.08.20 GB 1014024.21.種光學涂層,包括膠合劑和多個多孔二氧化硅納米微粒,在所述二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向。2.種用于形成光學涂層的溶液,所述溶液包括溶劑和多個多孔二氧化硅納米微粒,在所述二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向。3.種用于制造光學涂層的方法,所述方法包括: 制備(i)用于形成光學涂層的溶液,所述溶液包括膠合劑、溶劑和多個多孔二氧化硅納米微粒,在所述二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向,或(i i )用于形成光學涂層的兩種溶液,一種溶液包括膠合劑和溶劑,而一種溶液包括多個多孔二氧化硅納米微粒和溶劑,在所述二氧化硅納米微粒中小孔被隨機地取向; 將一種或多種所述溶液涂到基片;以及 從一種或多種所述溶液移除溶劑以形成所述光學涂層。4.前述權利要求中的任一項所述的涂層、溶液或方法,其中所述小孔具有至少部分地包括疏水層的內表面。5.權利要求4所述的涂層或方法,其中所述膠合劑是親水的。6.權利要求5所述的涂層、溶液或方法,其中所述膠合劑是四乙氧基硅烷或包括3-縮水甘油氧丙基三甲氧基硅烷的基于硅氧烷的...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:加雷斯·韋克菲爾德馬丁·加德納薩沙·奧斯特洛夫斯基
    申請(專利權)人:牛津能源科技有限公司
    類型:
    國別省市:

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