一種負離子制冷發生器制造技術

本發明專利技術公布一種負離子制冷發生器。該發明專利技術用半導體致冷塊做冷源，用超聲波發生裝置作為水霧發生裝置，將致冷室與半導體致冷塊安裝固定在一起，所述的致冷室將來自集霧室的水霧冷卻后，由霧化頭噴出，由于在霧化頭上加入高壓電源，致使霧化頭噴出的水霧不但具有較低的溫度，而且帶有大量的負離子。該發明專利技術結構簡單，實用方便，消除了臭氧，產生了大量的負離子。?

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種負離子制冷發生器，該專利技術包括超聲波發生器（1）；集霧室（2）；吸管（3）；混合室（4）；自保繼電器（5）；儀表板（6）；時間繼電器（7）；導向葉片（8）；風機（9）；過濾網（10）；進氣道（11）；高壓電發生模塊（12）；霧化頭（13）；致冷室（14）；散熱片（15）；半導體致冷塊（16）；抽風機（17）；機體（18）；散熱風扇（19），其特征是：該專利技術在超聲波發生器（1）的上部設置集霧室（2），在集霧室（2）的上端設置機體（18），在機體（18）最上端的一側，設置導向葉片（8），在導向葉片（8）的后部設置風機（9），在風機（9）的后下方設置有過濾網（10），過濾網（10）處于混合室（4）的上口部位，在機體（18）的后側設置進氣道（11），進氣道（11）與混合室（4）的上口部位以及過濾網（10）相通，在混合室（4）的側壁設置有霧化頭（13），霧化頭（13）通過電線與設置在機體（18）內的高壓電源發生模塊（12）相連，在機體（18）的內部，設置致冷室（14）為空心結構，在致冷室（14）的一側與半導體致冷塊（16）的冷面相連，在半導體致冷塊（16）的熱面，安裝固定散熱片（15），在散熱片（15）的后面設置制散熱風扇（19）。...

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳德明，
申請(專利權)人：江蘇仁安高新技術有限公司，
類型：發明
國別省市：