一種常壓等離子體自由基清洗設備制造技術

一種常壓等離子體自由基清洗設備，包括一臺中頻等離子體發生器、一臺射頻等離子體發生器、吸片裝置、電源系統、移動機械臂、進氣系統以及抽氣泵。設備運行時，兩臺等離子體發生器同時工作，工作氣體在流量計的控制下進入到兩臺等離子體發生器中，吸片裝置固定在一維移動機械臂上，電源接通過后，等離子體發生器產生的自由基在氣流的攜帶下噴射出來，吸片裝置吸附著硅片，在機械臂的帶動下，先從中頻高壓等離子體發生器噴口上方掃過，進行預清洗，然后再從射頻等離子體發生器上方掃過，進行精細清洗，本實用新型專利技術可用于硅片光刻膠和有機污染物清洗或其他襯底表面的有機污染物的清洗。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種常壓等離子體自由基清洗設備，包括一臺中頻等離子體發生器、一臺射頻等離子體發生器、吸片裝置、電源系統、移動機械臂、進氣系統以及抽氣泵，其特征在于：設備同時采用一臺中頻等離子體發生器和一臺射頻等離子體發生器作為等離子體源，工作氣體在流量計的控制下分別進入到兩臺等離子體發生器中，吸片裝置固定在一維移動機械臂上，電源接通過后，兩臺等離子體發生器向上噴出自由基束流，吸片裝置吸附著硅片，在機械臂的帶動下，從等離子體發生器噴口的上方掃過，進行硅片去膠清洗，硅片與兩臺等離子體發生器噴口的距離均為0.5～2.5mm。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：賈少霞，王守國，楊景華，趙玲利，
申請(專利權)人：中國科學院微電子研究所，
類型：實用新型
國別省市：