以δ相為主的層狀硅酸鈉的生產方法技術

本發明專利技術以δ相為主的層狀硅酸鈉的生產方法，該方法是將干法生產的固體硅酸鈉粉碎成粒徑為80～200目的粉末，將粉末通過預熱處理后送入600—700℃結晶窯內煅燒10～20分鐘生成以δ相為主的層狀硅酸鈉。本發明專利技術投資小，生產設備少，成本低，效率高。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及的是一種以S相為主的層狀硅酸鈉的生產方法。
技術介紹
: 洗滌助劑是洗滌過程中起關鍵作用的組分，在洗滌劑配方中的加入量，我國一般為15%-30%，有些發達國家可能高達40%-60%。現有的洗滌助劑主要有三聚磷酸鈉、4A沸石、檸檬酸鈉、氮川三醋酸鈉、層狀硅酸鈉和聚羧酸鈉等。作為洗滌助劑，應具備的基本功能: 1、軟化水，即降低洗滌溶液中鈣、鎂離子的濃度，使表面活性劑能更好地發揮洗滌作用； 2、提供堿性和堿性緩沖作用 ； 3、具有污垢分散能力和抗再沉積能力，抑制灰分沉積； 另外，優秀的洗滌助劑還應與表面活性劑具有協同效應。三聚磷酸鈉是合成洗滌劑迄今為止最理想的洗滌助劑，用于洗滌劑中已有50多年的歷史。從80年代開始，在我國經濟高速發展、人民生活水平不斷提高的同時，環境污染問題也逐步被大家所關注。由于含三聚磷酸鈉的洗滌廢水排放會造成的富營養化問題，許多地方政府發布了限、禁磷的法規。從90年代開始，我國無磷洗衣粉的比例迅速上升；加上近年來，國家取消了對三聚磷酸鈉的原料黃磷生產的電價優惠，三聚磷酸鈉的價格從4000元/噸上漲到6000元/噸左右，隨著洗衣粉無磷化比例的不斷提升，國內每年以4A沸石為主的無磷助劑消耗量已超過20萬噸。現有的代磷助劑除4A沸石和層狀硅酸鈉以外，其余多數產品均為企標產品，產品本身為滿足助劑性能添加了不同的物質從而造成灰分沉積等不良影響，而隨著市場競爭的進一步加劇，對代磷助劑的要求將更高，以S相為主的層狀硅酸鈉作為無磷助劑在軟化水能力和有效成分方面均優于4A沸石。國內層狀硅酸鈉的生產均采用的噴霧干燥、高溫結晶的方式生產。首先生產液體硅酸鈉(Si02與Na20含量的之和約32_40%，水分含量>60%)，然后以液體硅酸鈉為原料，經過噴霧干燥、高溫結晶的方式生產，整個生產過程中需除去的水分超過60%，生產過程中燃料消耗量大，同時生產設備包括液體硅酸鈉生產、噴霧干燥、高溫結晶等設備，整個工藝流程長，設備、土建投資大，造成層狀硅酸鈉的成本居高不下，嚴重的限制了層狀硅酸鈉應用。
技術實現思路
: 本專利技術的目的是為了克服以上不足，提供一種投資小，生產設備少，成本低，效率高，節能的以S相為主的層狀硅酸鈉生產方法。本專利技術的目的是這樣來實現的: 本專利技術以S相為主的層狀硅酸鈉的生產方法，該方法是將干法生產的固體硅酸鈉粉碎成粒徑為80 200目的粉末，將粉末通過預熱處理后送入600— 700°C結晶窯內煅燒10 20分鐘生成以8相為主的層狀硅酸鈉。上述的預熱處理溫度為250 300°C，結晶窯內的煅燒溫度為600 660°C。由于層狀硅酸鈉的晶型結構分a相、P相、5相、Y相四種，其中5相層狀硅酸鈉在洗滌劑中的使用性能最好，但S相的層狀硅酸鈉的轉化溫度范圍較窄(僅±20°C左右)。為盡量提高成品中S相的層狀硅酸鈉的含量，本專利技術采用的兩段處理的方式，在進入結晶窯前對原料進行預處理的方式，控制進入結晶窯的物料溫度、水分，可以提高結晶窯內溫度的穩定性，提高成品中本8相的層狀硅酸鈉的含量。本專利技術整個生產過程中需除去的水分遠低于現有生產工藝，生產過程中燃料消耗量僅相當于現有生產工藝的40%左右，同時，由于生產過程中省去液體硅酸鈉生產、噴霧干燥等設備，整個工藝設備、土建投資將更少，層狀硅酸鈉的成本將大大降低，生產效率高。具體實施方式: 實施例1: 將干法生產的固體硅酸鈉(Si02與Na20含量的摩爾比值2.0 ± 0.1)通過雷蒙磨粉碎成100目的粉末,水分含量2.5% (由于固體娃酸鈉的水分及粉碎過程中空氣引入的水分)，將該粉末送入預熱爐中、在250°C的條件下干燥20分鐘，然后送入640°C結晶窯內煅燒15分鐘生成S相為主的層狀硅酸鈉。實施例2: 將干法生產的固體硅酸鈉(Si02與Na20含量的摩爾比值2.0 ± 0.1)通過雷蒙磨粉碎成200目的粉末,水分含量7.5% (由于固體娃酸鈉的水分及粉碎過程中空氣引入的水分)，將該粉末送入預熱爐中、在270°C的條件下干燥20分鐘，然后送入650°C結晶窯內煅燒15分鐘生成S相為主的層狀硅酸鈉。實施例3: 將干法生產的固體硅酸鈉(Si02與Na20含量的摩爾比值2.0±0.1)通過雷蒙磨粉碎成100目的粉末，水分含量1.5%，將該粉末和液體硅酸鈉(Si02+Na20含量為36%)按1:0.4的比例進行混合，水分含量1 9%，將混合物送入預熱爐中、在270°C的條件下干燥30分鐘，然后送入600°C結晶窯內煅燒17分鐘生成8相為主的層狀硅酸鈉。實施例4: 將干法生產的固體硅酸鈉(Si02與Na20含量的摩爾比值2.0±0.1)通過雷蒙磨粉碎成80目的粉末，水分含量1.5%，將該粉末和液體硅酸鈉(Si02+Na20含量為36%)按1:0.8的比例進行混合，水分含量29%，將混合物送入預熱爐中、在270°C的條件下干燥30分鐘，然后送入660°C結晶窯內煅燒12分鐘生成8相為主的層狀硅酸鈉。上述實施實例是對本專利技術的上述內容作進一步的說明，但不應將此理解為本專利技術上述主題的范圍僅限于上述實施實例。凡基于上述內容所實現的技術均屬于本專利技術的范圍。權利要求1.以S相為主的層狀硅酸鈉的生產方法，該方法是將干法生產的固體硅酸鈉粉碎成粒徑為80 200目的粉末，將粉末通過預熱處理后送入600— 700°C結晶窯內煅燒10 20分鐘生成以S相為主的層狀硅酸鈉。2.如權利要求1所述的以8相為主的層狀硅酸鈉的生產方法，其特征在于預熱溫度為250 300°C，結晶窯內的 煅燒溫度為600 660°C。全文摘要本專利技術，該方法是將干法生產的固體硅酸鈉粉碎成粒徑為80～200目的粉末，將粉末通過預熱處理后送入600—700℃結晶窯內煅燒10～20分鐘生成以δ相為主的層狀硅酸鈉。本專利技術投資小，生產設備少，成本低，效率高。文檔編號C01B33/32GK103193240SQ201310156619公開日2013年7月10日 申請日期2013年5月2日 優先權日2013年5月2日專利技術者楊敏 申請人:楊敏本文檔來自技高網...

【技術保護點】
以δ相為主的層狀硅酸鈉的生產方法，該方法是將干法生產的固體硅酸鈉粉碎成粒徑為80～200目的粉末，將粉末通過預熱處理后送入600—700℃結晶窯內煅燒10～20分鐘生成以δ相為主的層狀硅酸鈉。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：楊敏，
申請(專利權)人：楊敏，
類型：發明
國別省市：