根據(jù)一個實(shí)施方式，電子裝置特征在于包括：回轉(zhuǎn)臺（50），回轉(zhuǎn)臺（50）被設(shè)置以沿著記錄層的表面在其上延伸的平面旋轉(zhuǎn)包括記錄層的記錄介質(zhì)，伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)（20），伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)（20）被設(shè)置以提供在回轉(zhuǎn)臺的面向記錄介質(zhì)的記錄層的表面上并且提供伺服數(shù)據(jù)，伺服數(shù)據(jù)被用于在記錄介質(zhì)上的數(shù)據(jù)的記錄或者從記錄介質(zhì)的數(shù)據(jù)的再現(xiàn)，以及記錄和再現(xiàn)模塊（20），記錄和再現(xiàn)模塊（20）被設(shè)置以用具有第一波長的光和具有與具有第一波長的光不同的第二波長的光從記錄介質(zhì)的相對于回轉(zhuǎn)臺相反的側(cè)照射記錄介質(zhì)的記錄層。
【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
這里描述的實(shí)施方式總體涉及用于記錄數(shù)據(jù)的電子裝置、用于再現(xiàn)(reproduction,復(fù)制)所記錄的數(shù)據(jù)的。
技術(shù)介紹
存在一些基于各種標(biāo)準(zhǔn)和規(guī)格的記錄介質(zhì)，作為用于記錄和再現(xiàn)內(nèi)容(在一些情況下，可指的是程序或者標(biāo)題)的記錄介質(zhì)(所述內(nèi)容諸如，運(yùn)動圖像或者靜止圖像或者數(shù)據(jù))。在記錄介質(zhì)中，被稱為光盤的記錄介質(zhì)(其為1.2_厚)具有很小的柔性。如果使用多個光盤來提高存儲容量，則用于容納光盤的包裝件的厚度將增加。另一方面，如果厚度減少到大約100 μ m以提高柔性，則在形成導(dǎo)槽等方面會出現(xiàn)額外的成本。而且，用于提高存儲容量的多層難以實(shí)現(xiàn)。本專利技術(shù)的目的是，提供具有增加柔性的記錄介質(zhì)的存儲容量，以及提供能夠在記錄介質(zhì)中記錄數(shù)據(jù)和從記錄介質(zhì)再現(xiàn)數(shù)據(jù)的電子裝置，以及它們所使用的記錄和再現(xiàn)方法。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
通常，根據(jù)一個實(shí)施方式，電子裝置特征在于包括:回轉(zhuǎn)臺，所述回轉(zhuǎn)臺被構(gòu)造成，沿一平面而旋轉(zhuǎn)包括記錄層的記錄介質(zhì)，所述記錄層的表面在所述平面上延伸；伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)，所述伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成，設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)臺的面向所述記錄介質(zhì)的所述記錄層的表面上，并且提供伺服數(shù)`據(jù)，所述伺服數(shù)據(jù)用于在所述記錄介質(zhì)上記錄數(shù)據(jù)或者再現(xiàn)來自所述記錄介質(zhì)的數(shù)據(jù)；以及記錄和再現(xiàn)模塊，所述記錄和再現(xiàn)模塊被構(gòu)造成，利用來自所述記錄介質(zhì)的相對于所述回轉(zhuǎn)臺的相對側(cè)的具有第一波長的光和具有第二波長的光而照射所述記錄介質(zhì)的所述記錄層，所述具有第二波長的光不同于所述具有第一波長的光。附圖說明現(xiàn)在將參考附圖描述實(shí)現(xiàn)實(shí)施方式的各特征的總體結(jié)構(gòu)。附圖和相關(guān)描述用于以舉例說明實(shí)施方式并且不限制本專利技術(shù)的范圍。圖1A是示出根據(jù)實(shí)施方式的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置(電子裝置)的實(shí)例的示例性的圖；圖1B是示出根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺的實(shí)例的示例性的圖；圖2A和2B是分別示出根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺和記錄介質(zhì)(光盤)的實(shí)例的示例性的圖；圖3A和3B是分別示出根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺和記錄介質(zhì)(光盤)的實(shí)例的示例性的圖4A和4B是分別示出根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺和記錄介質(zhì)(光盤)的實(shí)例的示例性的圖；圖5是示出根據(jù)實(shí)施方式的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置(電子裝置)的實(shí)例的示例性的圖；圖6是示出根據(jù)實(shí)施方式的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置的光學(xué)拾取單元的實(shí)例的示例性的圖；圖7A和7B是分別示出根據(jù)實(shí)施方式的由數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置所執(zhí)行的記錄和再現(xiàn)的實(shí)例的示例性的圖；圖8A是示出根據(jù)實(shí)施方式的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置的實(shí)例的示例性的圖；圖8B是根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺的實(shí)例的示例性的圖；圖8C是示出根據(jù)實(shí)施方式的記錄介質(zhì)的實(shí)例的示例性的圖；圖9A是示出根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺的實(shí)例的示例性的圖；圖9B是示出根據(jù)實(shí)施方式的記錄介質(zhì)的實(shí)例的示例性的圖；圖1OA是根 據(jù)實(shí)施方式的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置的實(shí)例的示例性的圖；圖1OB是根據(jù)實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺的實(shí)例的示例性的圖；圖1OC是示出根據(jù)實(shí)施方式的記錄介質(zhì)的實(shí)例的示例性的圖；圖11是示出根據(jù)實(shí)施方式的記錄介質(zhì)的實(shí)例的示例性的圖；圖12是示出根據(jù)實(shí)施方式的包括特征信息的記錄介質(zhì)的實(shí)例的示例性的圖；以及圖13是示出根據(jù)實(shí)施方式的數(shù)據(jù)記錄介質(zhì)的實(shí)例的示例性的圖。具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將參考附圖在下文中詳細(xì)地描述實(shí)施方式。圖1A顯示了利用實(shí)施方式的電子裝置(數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置)的結(jié)構(gòu)的概要。圖1B顯示了示例性的圖，顯示了利用實(shí)施方式的回轉(zhuǎn)臺的實(shí)例。將注意到，數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置的實(shí)例將被解釋為電子裝置，但是實(shí)施方式不限于此。也就是說，電子裝置可以是廣播接收裝置或個人電腦，其具有整體結(jié)合的或者通過電連接結(jié)合的數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置、主要用作存儲裝置的記錄介質(zhì)、可以訪問記錄介質(zhì)的記錄單元以及其它。此外，下文描述的元件、結(jié)構(gòu)或者功能可以通過硬件實(shí)現(xiàn)，或者可以通過使用微計(jì)算機(jī)(處理器、中央處理單元(CPU))以及其它元件的軟件實(shí)現(xiàn)。數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置(電子裝置)10至少包括光學(xué)拾取單元(0PU)20、控制模塊(信號處理單元)30、接口 40和回轉(zhuǎn)臺50。柔性盤(在下文中將簡稱為光盤的記錄介質(zhì))100具有大約100 μ m(微米(microns/micrometers))的厚度和柔性。光盤100的上表面形狀是外形上具有例如120mm直徑的圓形。光盤100包括用于安裝到回轉(zhuǎn)臺50的中心孔130和多達(dá)大約16層的記錄區(qū)(記錄膜)。此外，光盤100的記錄區(qū)沒有導(dǎo)槽、圖案化凸起(bump)以及類似結(jié)構(gòu)。雖然稍后參考圖6詳細(xì)地描述，但是光學(xué)拾取單元20具有兩個激光二極管(LD)LDl (藍(lán)色)和LD2 (紅色)、在光盤100的記錄區(qū)記錄數(shù)據(jù)、并且再現(xiàn)已記錄在記錄區(qū)中的數(shù)據(jù)。雖然稍后參考圖5詳細(xì)地描述，但是信號處理單元(控制模塊)30控制使用光學(xué)拾取單元20進(jìn)行的數(shù)據(jù)的寫入或者擦除或者數(shù)據(jù)的再現(xiàn)，以及控制整個數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置10。接口 40控制在數(shù)據(jù)記錄和再現(xiàn)裝置10和待連接的其它部件(主機(jī)裝置)之間信號的發(fā)送和接收。回轉(zhuǎn)臺50具有中心軸51、基板(盤支撐板)52、具有預(yù)定厚度(高度)的間隔件部55和預(yù)定數(shù)量的通孔57。光盤100設(shè)置在回轉(zhuǎn)臺59的間隔件單元55上，并且被來自夾持器70的壓緊力(壓力)壓靠到間隔件部55上。因此，除了與間隔件部55接觸的區(qū)域外，基板(盤導(dǎo)引板)52和光盤100不相互緊貼。回轉(zhuǎn)臺50固定到主軸電機(jī)60上并且在主軸電機(jī)60的旋轉(zhuǎn)軸61上旋轉(zhuǎn)。回轉(zhuǎn)臺50的中心軸51可以與主軸電機(jī)61的旋轉(zhuǎn)軸61成一體，或者主軸電機(jī)60的旋轉(zhuǎn)軸61也可以用作此中心軸51。導(dǎo)槽59形成在基板(盤導(dǎo)引板)52的表面上,從外側(cè)向外到達(dá)例如在間隔件部55的外側(cè)上的內(nèi)周緣通孔57的外周緣。在制造基板52時，通過例如模具壓鑄(die-casting)形成導(dǎo)槽59，模具壓鑄使用的模具具有微制造(miCTofabricate)在其上的導(dǎo)槽59的形狀。考慮大規(guī)模生產(chǎn)能力，鑄造或者噴射鑄造(鋁壓鑄)對于基板52和導(dǎo)槽59的制造是優(yōu)選的，可以基于機(jī)械加工而一個一個地制造出這些部件。基板52的材料不限于鋁，并且只要可以保證剛度，它可以是塑料或者任何其它的金屬。導(dǎo)槽59具有螺旋結(jié)構(gòu)，螺旋結(jié)構(gòu)具有例如60nm (納米)的槽深和0.64 μ m的節(jié)距(記錄軌道間距)，并且橫截面上的凹部分與凸部分的比大體上是I比I。將注意到，槽深或者記錄軌道間距不限與上文中所述的值，可以使用具有大約IOOnm的深度的深槽或者大約20nm的深度的淺槽，并且可以使用大約0.32 μ m的窄記錄軌道間距，或者大約0.74 μ m或大約1.2 μ m的寬記錄軌道間距。 此外，導(dǎo)槽59可以具有同心環(huán)結(jié)構(gòu)。而且，在螺旋結(jié)構(gòu)的情況下，可以采用單螺旋結(jié)構(gòu)，其中，每圈切換凹部分和凸部分。將注意到，地址數(shù)據(jù)通過例如擺動(wobbI e )而應(yīng)用(記錄)到導(dǎo)槽59中，該擺動在垂直于導(dǎo)槽59的延伸方向的方向上蜿蜒曲折地進(jìn)行(在回轉(zhuǎn)臺50的平面內(nèi))。光盤100放置在回轉(zhuǎn)臺50的基板52的表面上，并具有對應(yīng)于間隔件部55的高度(厚度)的間隙。當(dāng)回轉(zhuǎn)臺50 (基板52)旋轉(zhuǎn)時，產(chǎn)生的氣流從通孔57流過基板52 (回轉(zhuǎn)臺50)的表面和光盤100之間的間隙(在從光盤100的內(nèi)周緣朝向外周緣延伸的方向上)。氣流提供了負(fù)壓力，該負(fù)壓力將光盤100壓緊在回轉(zhuǎn)臺50的表面上。氣流使光盤100和基板52本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種電子裝置，其特征在于，包括：回轉(zhuǎn)臺（50），所述回轉(zhuǎn)臺被構(gòu)造成，沿一平面而旋轉(zhuǎn)包括記錄層的記錄介質(zhì)，所述記錄層的表面在所述平面上延伸；伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)（10），所述伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成，設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)臺的面向所述記錄介質(zhì)的所述記錄層的表面上，并且提供伺服數(shù)據(jù)，所述伺服數(shù)據(jù)用于在所述記錄介質(zhì)上記錄數(shù)據(jù)或者復(fù)制來自所述記錄介質(zhì)的數(shù)據(jù)；以及記錄和再現(xiàn)模塊（20），所述記錄和再現(xiàn)模塊被構(gòu)造成，利用來自所述記錄介質(zhì)的相對于所述回轉(zhuǎn)臺的相反側(cè)的具有第一波長的光和具有第二波長的光而照射所述記錄介質(zhì)的所述記錄層，所述具有第二波長的光不同于所述具有第一波長的光。
【技術(shù)特征摘要】
2012.01.30 JP 2012-0173111.一種電子裝置，其特征在于，包括: 回轉(zhuǎn)臺(50)，所述回轉(zhuǎn)臺被構(gòu)造成，沿一平面而旋轉(zhuǎn)包括記錄層的記錄介質(zhì)，所述記錄層的表面在所述平面上延伸； 伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)(10)，所述伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)被構(gòu)造成，設(shè)置在所述回轉(zhuǎn)臺的面向所述記錄介質(zhì)的所述記錄層的表面上，并且提供伺服數(shù)據(jù)，所述伺服數(shù)據(jù)用于在所述記錄介質(zhì)上記錄數(shù)據(jù)或者復(fù)制來自所述記錄介質(zhì)的數(shù)據(jù)；以及 記錄和再現(xiàn)模塊(20)，所述記錄和再現(xiàn)模塊被構(gòu)造成，利用來自所述記錄介質(zhì)的相對于所述回轉(zhuǎn)臺的相反側(cè)的具有第一波長的光和具有第二波長的光而照射所述記錄介質(zhì)的所述記錄層，所述具有第二波長的光不同于所述具有第一波長的光。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子裝置，其特征在于，所述具有第一波長的光和所述具有第二波長的光中的一種光聚焦到所述伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)上。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電子裝置，其特征在于，所述具有第一波長的光和所述具有第二波長的光中的另一種光聚焦到所述記錄介質(zhì)的所述記錄層上。4.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的電子裝置，其特征在于，所述記錄和再現(xiàn)單元進(jìn)一步包括第一透鏡，所述第一透鏡將所述具有第一波長的光和所述具有第二波長的光中的一種光聚焦到所述回轉(zhuǎn)臺的所述伺服數(shù)據(jù)提供機(jī)構(gòu)上。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電子裝置，其特征在于，所述記錄和再現(xiàn)單元進(jìn)一步包括第二透鏡，所述第二透鏡聚焦將已經(jīng)通過所述第一透鏡的所述具有第一波長的光和所述具有第二波長的光中的另一種光聚焦到所述記錄介質(zhì)的所述記錄層上。6.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：渡部一雄，
申請(專利權(quán))人：株式會社東芝，
類型：發(fā)明
國別省市：
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