磨耗測試方法和設備技術

本發明專利技術公開了磨耗測試方法和設備。按照一個實施例的系統包括：用于容納模塊的載體；用于移動磁帶經過模塊的磁帶支承面的傳送機構；和用于測量模塊的磁帶支承面上的涂層的磨損程度的測量設備。按照一個實施例的模塊包括：具有磁帶支承面的本體，所述本體具有與感興趣模塊近似的磁帶支承面輪廓和尺寸；和磁帶支承面上的涂層。按照一個實施例的方法包括：測量載體中的模塊的磁帶支承面上的初始涂層厚度；移動磁帶經過磁帶支承面；和每隔一段時間，測量殘余涂層厚度。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及介質磨耗性測試，更具體地說，本專利技術涉及介質磨耗性和/或涂層磨損的測試的改進。
技術介紹
在磁存儲系統中，通常利用磁換能器從磁記錄介質讀取數據和把數據寫到磁記錄介質上。通過把磁記錄換能器移動到介質上方要保存數據的位置來把數據寫到磁記錄介質上。磁記錄換能器隨后產生磁場，所述磁場把數據編碼到磁性介質中。通過類似地定位磁讀取換能器，隨后感測磁性介質的磁場，從介質讀取數據。讀取操作和寫入操作可以獨立地與介質的移動同步，以確保能夠從介質上的期望位置讀取數據和把數據寫到介質上的期望位置。數據存儲行業中的一個重要并且持續的目標是增大保存在介質上的數據的密度。對磁帶存儲系統來說，該目標已導致增大記錄磁帶上的磁道和線性位密度以及減小磁帶介質的厚度。然而，小 占用面積、更高性能的磁帶驅動系統的開發在供這種系統使用的磁帶頭組件以及磁帶的設計方面造成了各種問題。介質磨耗性直接與磁帶頭磨損、回退和間隙損耗有關。介質廠家目前采用的計量磨耗性的方法包括已被證明不能夠表示實際磁帶頭磨損并且較差地計量磁帶磨耗性的方法。
技術實現思路
按照一個實施例的系統包括:用于容納模塊的載體；用于移動磁帶經過所述模塊的磁帶支承面的傳送機構；和用于測量所述模塊的磁帶支承面上的涂層的磨損程度的測量設備。按照一個實施例的模塊包括:具有磁帶支承面的本體，所述本體具有與感興趣模塊近似的磁帶支承面輪廓和尺寸；和所述磁帶支承面上的涂層。按照一個實施例的方法包括:測量載體中的模塊的磁帶支承面上的初始涂層厚度；使磁帶移動經過所述磁帶支承面；和每隔一段時間，測量殘余涂層厚度。根據以下詳細說明，本專利技術的其它方面和實施例將變得明顯，結合附圖進行的以下詳細說明舉例說明了本專利技術的原理。附圖說明圖1是按照一個實施例的簡化磁帶驅動系統的示意圖。圖2圖解說明了按照一個實施例的平直重疊的雙向雙模塊磁帶頭的側視圖。圖2A是從圖2的線2A取出的磁帶支承面視圖。圖2B是從圖2A的圓2B取出的詳細視圖。圖2C是一對模塊的局部磁帶支承面的詳細視圖。圖3描述了按照一個實施例的方法。圖4A是按照一個實施例的磁帶頭的局部截面圖。圖4B是按照一個實施例的磁帶頭的局部截面圖。圖5是按照一個實施例的涂覆方案的俯視圖。圖6A是按照一個實施例的涂層厚度測量設備的局部俯視圖。圖6B是按照一個實施例的涂層厚度測量設備的局部截面圖。圖7A是按照一個實施例的涂層厚度測量設備的局部俯視圖。圖7B是按照一個實施例的涂層厚度測量設備的局部截面圖。具體實施例方式下面的說明用于舉例說明本專利技術的一般原理，并不意圖限制這里要求保護的專利技術構思。此外，這里說明的特定特征可以與在各種可能的組合和排列的每一個中的其它所述特征結合地使用。除非這里另有明確定義，所述術語都被賦予它們最寬廣的可能解釋，包括說明書中隱含的含義以及本領域的技術人員所理解的和/或在字典、論文等中定義的含義。另外必須注意，在說明書和附加的權利要求書中使用的單數形式包括復數的所指對象，除非另有規定。 下面的說明公開了磁存儲系統的幾個優選實施例以及磁存儲系統的操作和/或組成部分。在一個實施例中，一種系統包括:用于容納模塊的載體；用于移動磁帶經過所述模塊的磁帶支承面的傳送機構；和用于測量所述模塊的磁帶支承面上的涂層的磨損程度的測量設備。在另一個實施例中，一種模塊包括:具有磁帶支承面的本體，所述本體具有與感興趣模塊近似的磁帶支承面輪廓和尺寸；和所述磁帶支承面上的涂層。在另一個實施例中，一種方法包括:測量載體中的模塊的磁帶支承面上的初始涂層厚度；移動磁帶經過所述磁帶支承面；和每隔一段時間，測量殘余涂層厚度。圖1圖解說明了可用在本專利技術的上下文中的基于磁帶的數據存儲系統的簡化磁帶驅動器100。雖然圖1中示出了磁帶驅動器的一種具體實現，然而應注意，可以在任意類型的磁帶驅動系統的上下文中實現這里說明的實施例。如圖所示，設置供帶卷筒120和接納卷盤121以支承磁帶122。卷盤中的一個或多個可構成可拆卸磁帶盒的一部分，并且不一定是系統100的一部分。磁帶驅動器，比如圖1中圖解所示的磁帶驅動器可進一步包括驅動電機，用于驅動供帶卷筒120和接納卷盤121，從而移動磁帶122經過任意類型的磁帶頭126。這樣的磁帶頭可包括讀取器和/或寫入器的陣列。導帶輪125導引磁帶122經過磁帶頭126。這種磁帶頭126再經由電纜130耦接到控制器組件128?？刂破?28 —般控制諸如伺服跟蹤、寫入、讀取的磁帶頭功能?？刂破骺稍诒绢I域中已知的邏輯以及這里公開的任何邏輯下工作。電纜130可包括向磁帶頭126傳送數據以便記錄在磁帶122上以及接收由磁帶頭126從磁帶122讀取的數據的讀/寫電路。致動器132控制磁帶頭126相對于磁帶122的位置。另外還設置接口 134，用于磁帶驅動器和主機(集成主機或外部主機)之間的通信以發送和接收數據，以及用于控制磁帶驅動器的操作并把磁帶驅動器的狀態傳送給主機，本領域的技術人員將理解所有這一切。例如，圖2圖解說明了可在本專利技術的上下文中實現的平直重疊的雙向雙模塊磁帶頭200的側視圖。如圖所示，該磁帶頭包括一對模塊204，每個模塊204具備底座202并被固定成彼此相對成一個小的角度α。底座202可以是膠著地結合在一起的“U形梁”。每個模塊204包括基板204Α和蓋板204Β，所述蓋板204Β帶有薄膜部分(通常被稱為“間隙”)，在所述薄膜部分中形成讀取器和/或寫入器206。在使用中，按照所示的方式，沿著介質(磁帶)支承面209，移動磁帶208經過模塊204，以便利用讀取器和寫入器讀取磁帶208上的數據和在磁帶208上寫入數據。磁帶208在進出平直的介質支承面209的邊緣的包角Θ通常在約0.1° 5°之間?；?04Α —般由耐磨材料，比如陶瓷構成。蓋板204Β由與基板204Α相同或相似的陶瓷構成。可按照背負式或合并式結構來排列讀取器和寫入器。例證的背負式結構包括在(磁屏蔽的)讀取器換能器(例如，磁阻讀取器等)之上(或者之下)的(磁感應的)寫入器換能器，其中，寫入器的磁極和讀取器的屏蔽體通常被隔開。例證的合并式結構包括與一個寫入器磁極在同一物理層中的一個讀取器屏蔽體(從而“被合并”)。還可按照交錯結構來排列讀取器和寫入器。另一方面，通道的每個陣列可以只是讀取器或寫入器。這些陣列任意之一可以包含用于讀取介質上的伺服數據的一個或多個伺服磁道讀取器。圖2Α圖解說明了從圖2的線2Α取得的模塊204之一的磁帶支承面209。圖中用虛線示出了典型的磁帶208。模塊204最好足夠長，以便當磁帶頭在數據帶之間步進時能夠支承磁帶。在這個例子中，磁帶208包括4-22個數據帶，例如，如圖2Α中所示，在半英寸寬的磁帶208上，具有16個 數據帶和17個伺服磁道210。在伺服磁道210之間限定數據帶。每個數據帶可包括若干數據磁道，例如512個數據磁道(未示出)。在讀/寫操作期間，讀取器和/或寫入器206被定位到數據帶之一內的特定磁道位置。外側讀取器(有時被稱為伺服讀取器)讀取伺服磁道210。伺服信號再被用于使讀取器和/或寫入器206在讀/寫操作期間與特定的一組磁道保持對齊。圖2Β描述了在圖2Α的圓2Β中，在模塊204上的間隙218中形成的多個讀取器和/或寫入器206。如圖所示，讀取器和寫入器20本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種系統，包括：用于容納模塊的載體；用于移動磁帶經過所述模塊的磁帶支承面的傳送機構；和用于測量所述模塊的磁帶支承面上的涂層的磨損程度的測量設備。

【技術特征摘要】
2012.01.25 US 13/358,4151.一種系統，包括: 用于容納模塊的載體； 用于移動磁帶經過所述模塊的磁帶支承面的傳送機構；和 用于測量所述模塊的磁帶支承面上的涂層的磨損程度的測量設備。2.按照權利要求1所述的系統，其中，所述載體和所述測量設備被配置和/或定位成允許測量所述涂層的磨損程度，而不從所述載體取下所述模塊。3.按照權利要求1所述的系統，其中，所述測量設備包括橢率計。4.按照權利要求1所述的系統，其中，所述測量設備包括探針輪廓儀。5.按照權利要求1所述的系統，其中，所述測量設備被配置成利用磁帶支承面的未被磁帶接觸的區域作為測量的基準計量。6.—種模塊,包括: 具有磁帶支承面的本體，所述本體具有與感興趣模塊近似的磁帶支承面輪廓和尺寸；和 所述磁帶支承面上的涂層。7.按照權利要求6所述的模塊，其中，所述涂層具有與感興趣模塊類似的摩擦系數。8.按照權利要求6所述的模塊，其中，所述涂層具有至少約IOnm的沉積厚度。9.按照權利要求6所述的模塊，其中，所述涂...

【專利技術屬性】
技術研發人員：R·G·比斯克伯恩，J·梁，C·S·羅，
申請(專利權)人：國際商業機器公司，
類型：發明
國別省市：