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本發(fā)明提供了一種濕法刻蝕系統(tǒng)，包括：晶圓卡槽、藥液槽、機(jī)械手、控制裝置、位置傳感器、以及轉(zhuǎn)動(dòng)裝置。其中，當(dāng)位置傳感器檢測(cè)到晶圓完全浸沒(méi)于藥液中和/或檢測(cè)晶圓與轉(zhuǎn)動(dòng)裝置相接觸時(shí)，向控制裝置發(fā)送信號(hào)，控制裝置接收到位置傳感器發(fā)送的信號(hào)后，控制轉(zhuǎn)...該專利屬于上海集成電路研發(fā)中心有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)上海集成電路研發(fā)中心有限公司授權(quán)不得商用。