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本實(shí)用新型公開了一種基于可見到近紅外波段吸收膜系結(jié)構(gòu)，在任意襯底上采用氣相沉積、液相沉積依次生長金屬薄膜層、介質(zhì)薄膜層，其后利用氣相沉積或氣相沉積結(jié)合退火工藝在介質(zhì)薄膜層上生長金屬顆粒無序分布層。其中金屬薄膜層厚度為80nm-1μm，介質(zhì)薄...該專利屬于中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中國科學(xué)院上海技術(shù)物理研究所授權(quán)不得商用。