溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本發明涉及一種同步輻射X射線大面積干涉光刻系統，其包括：依次排列的波蕩器光源、多個反射聚焦鏡、掩膜光柵、具有光闌孔的級選光闌、具有觀察孔的樣品臺、鋁膜以及CCD探測器。本發明通過在掩膜光柵與樣品之間增設級選光闌，并通過CCD探測器確保掩膜光...該專利屬于中國科學院上海應用物理研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院上海應用物理研究所授權不得商用。
溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本發明涉及一種同步輻射X射線大面積干涉光刻系統，其包括：依次排列的波蕩器光源、多個反射聚焦鏡、掩膜光柵、具有光闌孔的級選光闌、具有觀察孔的樣品臺、鋁膜以及CCD探測器。本發明通過在掩膜光柵與樣品之間增設級選光闌，并通過CCD探測器確保掩膜光...