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本公開內容涉及成像裝置、制造該成像裝置的方法和照相機。一種制造成像裝置的方法包括：制備包括晶圓和布置在晶圓上的硅層的基板，晶圓包括由單晶硅制成的、氧濃度不小于2×1016個原子/cm3并且不大于4×1017個原子/cm3的第一半導體區域，硅...
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