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本發明公開了一種用于不銹鋼精密拋光的納米材料配方及其制備工藝，屬于高分子材料技術領域。按照質量份數由以下組分組成：納米片狀氧化鋁拋光粉50~90份；氧化鈰?氧化硅復合拋光粉50~90份；拋光加速劑0.05~2份；光亮劑0.05~3份；PH調...該專利屬于廣州市新稀冶金化工有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過廣州市新稀冶金化工有限公司授權不得商用。
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