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本發(fā)明公開了一種常壓低溫等離子體技術(shù)制備復(fù)合膜的方法，屬于膜分離技術(shù)領(lǐng)域。其特征是以多孔介質(zhì)為基膜，基膜靜置浸泡預(yù)涂覆單體；以氬氣作為放電氣體，對預(yù)涂覆的基膜進(jìn)行常壓低溫等離子體輻照，引發(fā)接枝反應(yīng)；進(jìn)行輻照后接枝反應(yīng)制備復(fù)合膜。本發(fā)明的效果...該專利屬于大連理工大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過大連理工大學(xué)授權(quán)不得商用。