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本發(fā)明涉及霧度標準片及其制備方法。這種霧度標準片主要用于霧度儀的校準，其制備方法可以用于批量生產霧度標準片。一種霧度標準片，其主要特點在于包括有蝕刻霧度片通過壓片壓緊固定在底板上；所述的蝕刻霧度片為先經(jīng)過重離子輻照，后經(jīng)過化學蝕刻，并通過改...該專利屬于中國科學院近代物理研究所所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過中國科學院近代物理研究所授權不得商用。