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本發明公開的一種刻蝕方法，包括以下步驟，步驟S1、在第一溫度氛圍中對一晶圓進行刻蝕反應，在刻蝕過程中生成副產物并覆蓋于晶圓表面；步驟S2、在第二溫度氛圍中對晶圓表面的副產物進行揮發處理；將步驟S1和步驟S2作為一個完整的周期，進行至少兩次以...
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