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本發明提供一種低關斷損耗雙槽柵SOI?LIGBT器件結構,包括P型襯底、埋氧層二氧化硅、N型漂移區、P型阱區、N?buffer層、氧化層、兩個N型源端及之間的P型接觸區、N型陽極區;源端和P型阱區間的溝道兩側是柵氧層,柵氧層旁邊是多晶硅,多...該專利屬于電子科技大學;電子科技大學廣東電子信息工程研究院所有,僅供學習研究參考,未經過電子科技大學;電子科技大學廣東電子信息工程研究院授權不得商用。