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本發明提供一種基于干法清洗工藝制備銅襯底的方法，包括步驟：步驟1），提供制備石墨烯用的銅襯底；步驟2），將所述銅襯底置于有氧環境中處理，使所述銅襯底表面氧化，形成氧化層；以及步驟3），去所述銅除襯底表面的氧化層，得到清潔的銅襯底表面。本發明...該專利屬于中國科學院上海微系統與信息技術研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院上海微系統與信息技術研究所授權不得商用。
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