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本發(fā)明涉及反應(yīng)性氣體、其產(chǎn)生系統(tǒng)和使用其的產(chǎn)品處理。一種用反應(yīng)性氣體處理產(chǎn)品或表面的方法，其包括：通過由工作氣體形成高電壓冷等離子體(HVCP)而產(chǎn)生反應(yīng)性氣體；輸送所述反應(yīng)性氣體遠(yuǎn)離HVCP至少5cm；隨后，使所述產(chǎn)品或表面與所述反應(yīng)性氣...該專利屬于納諾嘉德技術(shù)有限責(zé)任公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過納諾嘉德技術(shù)有限責(zé)任公司授權(quán)不得商用。