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本發明提供了一種具有自調節磁場結構的磁控濺射靶，包括：靶體、磁場結構、靶材和水冷結構，靶體與靶材緊固連接，靶材與水冷結構緊固連接；磁場結構以磁控濺射靶軸心線作軸對稱設置于靶材的下方；磁場結構包括電磁線圈，通過改變電磁線圈的電流值，能夠改變磁...
該專利屬于上海衛星裝備研究所所有，僅供學習研究參考，未經過上海衛星裝備研究所授權不得商用。

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