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本發(fā)明的目的是提供一種使用包括電反射鏡和fθ透鏡的光學(xué)系統(tǒng)的精簡(jiǎn)的激光照射裝置以及激光照射方法,所述激光照射裝置可以抑制由因襯底背面的次級(jí)射束引起的干涉影響,從而能夠?qū)Ρ徽丈湮镞M(jìn)行均勻的激光退火,且可以提高生產(chǎn)量。在本發(fā)明中,當(dāng)假設(shè)形成有被...該專利屬于株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所所有,僅供學(xué)習(xí)研究參考,未經(jīng)過株式會(huì)社半導(dǎo)體能源研究所授權(quán)不得商用。