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提供能得到曝光靈敏度優(yōu)異的抗蝕劑的、化合物、聚合物、組合物、膜形成用組合物、圖案形成方法、絕緣膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R...
該專利屬于三菱瓦斯化學(xué)株式會社所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過三菱瓦斯化學(xué)株式會社授權(quán)不得商用。
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提供能得到曝光靈敏度優(yōu)異的抗蝕劑的、化合物、聚合物、組合物、膜形成用組合物、圖案形成方法、絕緣膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，R