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本發明提供一種全自動雙面曝光機及高精度對位方法，屬于曝光機技術領域，包括機架、雙面阻焊臺框、Y軸輸送機構和控制系統，機架上設置有對位區域和曝光區域，對位區域的上部與下部均設置有視覺檢測機構，雙面阻焊臺框包括底框、中框、上框、開框組件、上對位...
該專利屬于溫州職業技術學院所有，僅供學習研究參考，未經過溫州職業技術學院授權不得商用。

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