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本發(fā)明公開了一種實現(xiàn)渦旋光束高效率生成與聚焦的電磁超表面單元，包括中間的電介質層，以及設置在電介質層上、下表面的上、下導電金屬層，兩導電金屬層的厚度均大于趨膚深度，其特征在于：所述上導電金屬層由一圓弧和一矩形組成，圓弧的線寬與矩形的線寬t相...該專利屬于香港科技大學（廣州）所有，僅供學習研究參考，未經(jīng)過香港科技大學（廣州）授權不得商用。
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本發(fā)明公開了一種實現(xiàn)渦旋光束高效率生成與聚焦的電磁超表面單元，包括中間的電介質層，以及設置在電介質層上、下表面的上、下導電金屬層，兩導電金屬層的厚度均大于趨膚深度，其特征在于：所述上導電金屬層由一圓弧和一矩形組成，圓弧的線寬與矩形的線寬t相...