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一種基底制程裝置，包括：一個腔室，其具有一內部空間，在該內部中間中相對于一個基底實施一個制程；以及一個排出單元，其用于將內部空間中的物質排出到外部。所述排出單元包括：一個第一排出板，其位于物質的排出路徑的上游，該第一排出板具有第一排出孔；以...
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