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本發明提供一種去除金屬層冗余金屬填充的制造工藝。其工藝步驟如下：1）沉積低k值介質層；2）在沉積的低k值介質層上形成刻蝕阻擋層；3）完成光刻和刻蝕去除非冗余金屬區域的刻蝕阻擋層；4）再次沉積低k值介質達到所需厚度的低k值介質層；5）完成光刻...
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