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本發(fā)明公開一種薄膜沉積裝置及方法，薄膜沉積裝置用于在襯底上形成薄膜層，包括加熱由載氣攜帶的沉積材料的加熱模塊和向所述加熱模塊供料的進(jìn)料總管，所述加熱模塊包括將所述載氣及所述載氣攜帶的沉積材料加熱形成混合氣體的加熱部件及套設(shè)在所述加熱部件外部...該專利屬于無錫尚德太陽能電力有限公司;四川尚德太陽能電力有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過無錫尚德太陽能電力有限公司;四川尚德太陽能電力有限公司授權(quán)不得商用。