溫馨提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。
本發(fā)明公開了一種用于非平整襯底晶圓級納米壓印的復(fù)合軟模具及制造方法。該復(fù)合軟模具包括：特征結(jié)構(gòu)層、剛性限制層和彈性支撐層。其中，特征結(jié)構(gòu)層包含所要復(fù)制的微納米圖形結(jié)構(gòu)，采用透明的氟聚合物基材料；剛性限制層位于特征結(jié)構(gòu)層之上，限制特征結(jié)構(gòu)層的...該專利屬于青島理工大學(xué)所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過青島理工大學(xué)授權(quán)不得商用。