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本實用新型涉及真空鍍膜技術領域，尤其是磁控濺射鍍膜機的磁控濺射靶，包括有靶頭和靶材，靶頭設有可轉動的靶芯，靶芯一端伸出靶頭而穿入靶材內中部，并于靶芯之穿入靶材的部分外周分布有磁塊；所述靶材的一端通過法蘭與靶頭軸向銜接在一起，恰使靶材內腔與靶...
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