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本實(shí)用新型涉及一種用于拉制4寸區(qū)熔單晶硅加熱線(xiàn)圈，包括線(xiàn)圈盤(pán)體，位于線(xiàn)圈盤(pán)體的線(xiàn)圈中心外圍設(shè)置線(xiàn)圈臺(tái)階，同時(shí)，所述線(xiàn)圈盤(pán)體外圍環(huán)繞設(shè)置環(huán)形線(xiàn)圈水路，此線(xiàn)圈盤(pán)體外徑設(shè)置為70mm-190mm。本實(shí)用新型有益效果為：產(chǎn)品單匝加熱線(xiàn)圈內(nèi)徑小，可形...該專(zhuān)利屬于劉劍所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)劉劍授權(quán)不得商用。